一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】本實用新型屬于玻璃技術領域，具體涉及一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其結構為：玻璃基片/第一復合介質層/第一銀層/第一保護層/第二復合介質層/第二銀層/第二保護層/第三復合介質層/第三銀層/第三保護層/第四復合介質層/氧化鋯膜；本實用新型的膜層能夠經受700℃的高溫鋼化，鋼化后顏色穩定，膜層鋼化后無外觀缺陷。
【專利說明】
一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃
技術領域
[0001]本實用新型屬于玻璃技術領域，具體涉及一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃。
【背景技術】
[0002] 低輻射鍍膜玻璃被證明是當今最好的建筑節能玻璃。通過在普通玻璃表面鍍低輻 射膜而改善其性能，有效限制紅外光透過，充分降低玻璃兩側的熱交換，使其與普通玻璃和 傳統鍍膜玻璃相比，具有優良的節能性能、光學性能和環保性能。低輻射鍍膜玻璃己被廣泛 應用于世界各地的建筑中，特別是經濟和科學技術比較發達的國家和地區。低輻射鍍膜本 身隨著研發的深入也在進行著更新換代，不僅滿足建筑設計潮流審美的需要，而且節能性 也得到進一步提高。其中，三銀低輻射鍍膜玻璃因為其具有更低的紅外線透過率、輻射率和 傳熱系數，使其更節能，從而被廣泛應用。
[0003] 但是，三銀低輻射鍍膜玻璃因膜層結構復雜，在鋼化過程中容易產生鋼化后顏色 不穩定、有色道、膜層擦拭實驗不合格等問題。 【實用新型內容】
[0004] 為了解決上述問題，本實用新型的目的在于提供一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻 璃，該玻璃膜層能夠經受700°C的高溫鋼化，鋼化后顏色穩定，膜層鋼化后無外觀缺陷。
[0005] -種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃的結構 為:玻璃基片/第一復合介質層/第一銀層/第一保護層/第二復合介質層/第二銀層/第二保 護層/第三復合介質層/第三銀層/第三保護層/第四復合介質層/氧化鋯膜。
[0006]較佳地，所述第一復合介質層的厚度為20~50nm、第一銀層的厚度為5~15nm、第 一保護層的厚度為1~l-l〇nm、第二復合介質層的厚度為55~llOnm、第二銀層的厚度為5~ 15nm、第二保護層的厚度為1~10nm、第三復合介質層的厚度為55~llOnm、第三銀層的厚度 為5~15nm、第三保護層的厚度為1~10nm、第四復合介質層的厚度為35~70nm、氧化錯膜的 厚度為3~10nm。厚度在一定的范圍內，可起到減少摩擦，提升抗劃傷性能。太厚的話，表面 就過于粗糙，反而起到相反的效果。此膜層能夠有效增加膜系的抗劃傷性能，提高產品的可 處理加工特性，減少膜面劃傷等缺陷。
[0007] 較佳地，所述第一復合介質層包括氮化硅、氧化鋅和ΑΖ0;所述氮化硅的厚度為10 ~25nm、所述氧化鋅的厚度為5~15nm、所述ΑΖ0的厚度為5~10nm。較佳地，所述第一保護 層、第二保護層和第三保護層為鎳鉻層。
[0008] 較佳地，所述第二復合介質層包括氮化硅、氧化鋅錫、氧化鋅和ΑΖ0，所述氮化硅的 厚度為20~40nm、所述氧化鋅錫的厚度為20~40nm、所述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述 ΑΖ0的厚度為5~10nm〇
[0009] 較佳地，所述第三復合介質層包括氮化硅、氧化鋅錫、氧化鋅、ΑΖ0,所述氮化硅的 厚度為20~40nm、所述氧化鋅錫的厚度為20~40nm、所述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述 ΑΖ0的厚度為5~10nm〇
[0010] 較佳地，第四復合介質層包括ΑΖ0、氧化鋅和氮化娃，所述ΑΖ0的厚度為5~10nm、所 述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述氮化娃的厚度為20~40nm。制備所述可鋼化的三銀低福 射鍍膜玻璃，具體為:玻璃基片清洗一磁控濺射鍍膜一切割一磨邊一鋼化；
[0011] 其中，
[0012] 1)、底部SiN的N2量要較少;例如，氮化硅的基礎配比為，氬氣:氮氣=1000:900(單 位:SCCM)，底部氮化硅氣氛配比則為，氬氣:氮氣=1000:700，以形成致密的結構，能夠增加 跟玻璃基片的結合力。
[0013] 2)、中間層SiN與上下的氧化物介質層接觸的介面處通入少量的〇2,形成SiOxNy 結構，與上下兩層的氧化物介質層之間的結合力更好。例如，第二復合介質層中，氮化硅的 下一層是氧化鋅錫，則在靠近氧化鋅錫的那層氮化硅將氣氛配比改為，氬氣:氮氣:氧氣= 1000 :900 : 50(單位：SCCM)，這里指的是兩層之間的介面處，形成SiOxNy的厚度一般為1~ 5nm〇
[0014] 3)、頂部Si_^N2量要多，形成應力小的稍疏松結構。例如，氮化硅的基礎配比為， 氬氣:氮氣=1000:900(單位:SCCM)，底部氮化硅氣氛配比則為，氬氣:氮氣=800:1100。
[0015] 4)、ZnSn0、ZnA10膜應按化學計量比或者過氧工藝濺射以減少應力。
[0016] 5)、頂部保護層Zr02高功率富02濺射，以形成納米微晶粗糙的表面，表面粗糙則接 觸面小，摩擦系數小，抗劃傷性能強。Zr靶功率為60~100千瓦，富〇2濺射，例如Ar: 〇2 = 500: 1200,氧氣較多。
[0017] 6)、對于Ag膜的種子層ΖηΑΙΟ等，用高功率60~100千瓦、低Ar、富02的氣氛，容易得 到柱狀的晶體結構，有利于Ag膜的生長。
[0018] 本實用新型的結構為:玻璃基片/第一復合介質層/第一銀層/第一保護層/第二復 合介質層/第二銀層/第二保護層/第三復合介質層/第三銀層/第三保護層/第四復合介質 層/氧化鋯膜;本實用新型不僅能有效提升膜層抗劃傷性能，而且膜層能夠經受700°C的高 溫鋼化，鋼化后顏色穩定，膜層鋼化后無外觀缺陷，并通過鋼化溫度敏感性實驗、鋼化延時 實驗、不同厚度玻璃基片鋼化實驗、不同厚度玻璃基片彎鋼化實驗。
【附圖說明】
[0019] 圖1為本實用新型的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0020] 下面結合【具體實施方式】對本實用新型作進一步的詳細說明，以助于本領域技術人 員理解本實用新型。
[0021] 實施例1
[0022] 見圖1，一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，結構為:玻璃基片1/第一復合介質層 21 [氮化娃（厚度10nm)、氧化鋅（5腦）、420(10腦）]/第一銀層31(1511111)/鎳絡41(111111)/第二 復合介質層22 [氮化娃（20nm)、氧化鋅錫(40nm)、氧化鋅（10nm)、AZ0(5nm)]第二銀層32 (15nm)/鎳絡42(lnm)/第三復合介質層23 [氮化娃(20nm)、氧化鋅錫(20nm)、氧化鋅（10nm)、 AZ0(10nm)]/第三銀層33(5nm)/鎳鉻43(10nm)/第四復合介質層24[AZ0(5nm)、氧化鋅 (20nm)、氮化娃（20nm) ]/Zr0x5( 10nm)。
[0023] 實施例2
[0024] 一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，結構為:玻璃基片/第一復合介質層[氮化硅 (厚度25nm)、氧化鋅（15nm)、AZ0(5nm) ]/第一銀層(5nm)/鎳絡（10nm)/第二復合介質層[氮 化娃（40nm)、氧化鋅錫（20nm)、氧化鋅（20nm)、AZ0(10nm)]第二銀層（5nm)/鎳絡（10nm)/第 三復合介質層[氮化娃（40nm)、氧化鋅錫（40nm)、氧化鋅（20nm)、AZ0(5nm) ]/第三銀層 (15nm)/鎳鉻（lnm)/第四復合介質層[AZO(lOnm)、氧化鋅（10nm)、氮化硅（40nm)]/Zr0x (3nm)〇
[0025] 實施例3
[0026] 一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，結構為:玻璃基片/第一復合介質層[氮化硅 (厚度15nm)、氧化鋅(8]1111)、420(811111)]/第一銀層(811111)/鎳絡(311111)/第二復合介質層[氮化 娃(25nm)、氧化鋅錫(30nm)、氧化鋅（15nm)、AZ0(6nm)]第二銀層(10nm)/鎳絡(3nm)/第三復 合介質層[氮化娃(35nm)、氧化鋅錫(30nm)、氧化鋅（15nm)、AZ0(6nm)]/第三銀層（10nm)/鎳 絡（3nm)/第四復合介質層[AZ0(6nm)、氧化鋅（15nm)、氮化娃（25nm) ]/Zr0x(5nm) 〇
[0027] 實施例4
[0028] 一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，結構為:玻璃基片/第一復合介質層[氮化硅 (厚度2011111)、氧化鋅（1011111)、420(711111)]/第一銀層（1〇11111)/鎳絡(511111)/第二復合介質層[氮 化娃（30nm)、氧化鋅錫（25nm)、氧化鋅（12nm)、420(7]1111)]第二銀層（811111)/鎳絡（511111)/第三 復合介質層[氮化娃(30nm)、氧化鋅錫(35nm)、氧化鋅（13nm)、AZ0(7nm)]/第三銀層(12nm)/ 鎳絡（ 5nm)/第四復合介質層[AZ0(7nm)、氧化鋅（Πηπι)、氮化娃（30nm) ]/Zr0x(4nm) 〇
[0029] 實施例5
[0030] 一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，結構為:玻璃基片/第一復合介質層[氮化硅 (厚度 22nm)、氧化鋅（12]1111)、420(611111)]/第一銀層（1211111)/鎳絡(711111)/第二復合介質層[氮 化娃(35nm)、氧化鋅錫(35nm)、氧化鋅（18nm)、420(8]1111)]第二銀層(611111)/鎳絡(811111)/第三 復合介質層[氮化娃(25nm)、氧化鋅錫(25nm)、氧化鋅（llnm)、AZ0(8nm)]/第三銀層(13nm)/ 鎳絡（ 8nm)/第四復合介質層[AZ0(8nm)、氧化鋅（Πηπι)、氮化娃（35nm) ]/Zr0x(8nm) 〇
[0031 ]上述實施例，只是本實用新型的較佳實施例，并非用來限制本實用新型實施范圍， 故凡以本實用新型權利要求所述的特征及原理所做的等效變化或修飾，均應包括在本實用 新型權利要求范圍之內。
[0032] 試驗：
[0033] 1、鋼化加工溫度敏感性實驗(結果見表1):檢驗膜層在鋼化加工溫度變化時是否 穩定。實驗條件如下:在雙室鋼化爐加工。試樣規格:6mm玻璃基片，規格1000mm*1000mm。
[0034] 表 1
[0035]
[0036] 結論:試樣經過不同的爐溫鋼化后，無氧化、脫膜等外觀缺陷。鋼化后玻面最大色 差Δ L*g = 0.3，Δ a*g = 〇. 4，Δ b*g = 0.5，顏色變化極小，加工溫度敏感性實驗合格。
[0037] 2、鋼化加熱時間延時實驗(結果見表2):檢驗膜層在鋼化加工時間變化時膜層是 否穩定。在雙室鋼化爐加工，上部爐溫695 °C，下部爐溫685 °C。試樣規格:6mm玻璃基片，規格 1000mm*1000mm。
[0038] 表 2
[0039]
[0040] 結論:試樣經過不同的加熱時間鋼化后，無氧化、脫膜等外觀缺陷。鋼化后玻面最 大色差Δ L*g = 0.3，Δ a*g = 0.2，Δ b*g = 0.5，顏色變化極小，加熱時間延時實驗合格。
[0041] 3、不同厚度玻璃基片鋼化實驗(結果見表3):采用6、8、10、12111111試樣，在雙室鋼化 爐加工，上部爐溫695°C，下部爐溫685°C，加熱時間按相應的玻璃基片厚度作調整。
[0042] 表 3
[0044] 結論:不同厚度玻璃鋼化后無外觀缺陷，實驗合格。
[0045] 4、彎鋼化實驗(結果見表4):檢驗不同厚度基片的彎鋼化實驗后，膜層是否完好、 穩定。采用6、8、10、12mm試樣，在彎鋼爐加工，上部爐溫690°C，下部爐溫685°C。
[0046] 表 4
[0047]
[0048] 結論:試樣彎鋼化無脫膜、邊部無裂紋，外觀良好，顏色穩定;不同厚度玻璃彎鋼化 實驗合格。
【主權項】
1. 一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻 璃的結構為:玻璃基片/第一復合介質層/第一銀層/第一保護層/第二復合介質層/第二銀 層/第二保護層/第三復合介質層/第三銀層/第三保護層/第四復合介質層/氧化鋯膜。2. 如權利要求1所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一復合介質層 的厚度為20~50nm、第一銀層的厚度為5~15nm、第一保護層的厚度為1~l-10nm、第二復合 介質層的厚度為55~llOnm、第二銀層的厚度為5~15nm、第二保護層的厚度為1~10nm、第 三復合介質層的厚度為55~llOnm、第三銀層的厚度為5~15nm、第三保護層的厚度為1~ 10nm、第四復合介質層的厚度為35~70nm、氧化錯膜的厚度為3~IOnm 03. 如權利要求2所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一復合介質層 包括氮化娃、氧化鋅和AZO;所述氮化娃的厚度為10~25nm、所述氧化鋅的厚度為5~15nm、 所述AZO的厚度為5~IOnm。4. 如權利要求2所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一保護層、第 二保護層和第三保護層為鎳鉻層。5. 如權利要求2所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第二復合介質層 包括氮化硅、氧化鋅錫、氧化鋅和ΑΖ0,所述氮化硅的厚度為20~40nm、所述氧化鋅錫的厚度 為20~40nm、所述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述AZO的厚度為5~10nm。6. 如權利要求2所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第三復合介質層 包括氮化硅、氧化鋅錫、氧化鋅、ΑΖ0,所述氮化硅的厚度為20~40nm、所述氧化鋅錫的厚度 為20~40nm、所述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述AZO的厚度為5~10nm。7. 如權利要求2所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，第四復合介質層包括 ΑΖ0、氧化鋅和氮化娃，所述AZO的厚度為5~10nm、所述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述氮化 娃的厚度為20~40nm〇
【文檔編號】C03C17/36GK205501127SQ201620114585
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年2月4日
【發明人】余華駿, 黃穎, 梁瑞記, 葉光岱
【申請人】東莞南玻工程玻璃有限公司, 中國南玻集團股份有限公司