充電構件、處理盒、電子照相設備和充電構件的生產方法
【專利摘要】本發明提供一種充電構件和其制造方法，所述充電構件通過改進充電能力能夠改進特別是正重影，并且能夠長期維持對調色劑和外部添加劑等的耐附著性。所述充電構件包括導電性支承體、導電性彈性層和表面層，其特征在于所述表面層包括在其分子結構中具有Si-O-Ti鍵的高分子化合物，并且所述高分子化合物具有由式(1)、式(2)和式(3)表示的特定構成單元。式(1)：式(2)：TiO4/2式(3)：。
【專利說明】充電構件、處理盒、電子照相設備和充電構件的生產方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及在電子照相設備中使用的充電構件和制造所述充電構件的方法、處理盒和電子照相圖像形成設備。
【背景技術】
[0002]抵接電子照相感光構件以將電子照相感光構件充電的充電構件一般形成為具有含橡膠的彈性層，以便可以充分且均勻地確保電子照相感光構件和充電構件之間的抵接輥隙。
[0003]近年來，電子照相圖像形成設備已開始要求額外的耐久性改進。為了實現所述改進，要求其充電構件長期發揮穩定的充電性能。作為即使在長期重復使用之后也能抑制調色劑或外部添加劑向其表面的固著并長期顯示穩定的充電性能的充電構件，專利文獻I提出包括含具有烷基氟基團和氧化烯基的聚硅氧烷的表面層的充電構件。
[0004]同時，伴隨著近年來電子照相圖像形成設備的處理速度的増加，電子照相感光構件和充電構件彼此接觸的時間已開始變得相對較短。上述對穩定和可靠地將電子照相感光構件充電是不利的。具體而言，如在專利文獻2中公開的，感光構件的帶電均勻性降低，特別是抑制正重影的效果降低。
[0005]在通過充電構件對感光構件一次充電之前通過在感光構件上進行所謂的預曝光除去在轉印步驟后的感光構件上的殘余電荷可以消除正重影。然而，向電子照相圖像形成設備中引入預曝光單元對降低電子照相圖像形成設備的尺寸是不利的。因此，可以說，優選通過提高充電構件本身的充能能力來解決所述問題。
[0006]引文列表
[0007]專利文獻
[0008]專利文獻1:日本專利申請特開2007-004102
[0009]專利文獻2:日本專利申請特開2008-299255
【發明內容】
[0010]發明要解決的問題
[0011]作為由本發明的發明人對根據專利文獻I所述的充電構件進行研究的結果，本發明人認識到，雖然確實觀察到調色劑等對充電構件表面附著的抑制效果，但是需要額外的技術開發以便即使在高處理速度下也可以以穩定的方式均勻地對感光構件充電。
[0012]鑒于上述情況，本發明的目的在于提供能夠長期維持高充電能力的充電構件，通過所述充電構件即使在高處理速度下也可以穩定地對感光構件充電，并提供制造所述充電構件的方法。
[0013]另外，本發明的目的在于提供能夠穩定地形成高品質電子照相圖像的電子照相設備和處理盒。
[0014]用于解決問題的方案[0015]根據本發明的一方面，提供電子照相設備用充電構件，其包括:導電性支承體；導電性彈性層；和表面層，其中:所述表面層包括在其分子結構中具有S1-O-Ti鍵的高分子化合物；并且所述高分子化合物具有由式(I)、(2)和(3)表示的構成單元:
[0016]式(I)
[0017]
【權利要求】
1.一種電子照相設備用充電構件，其包括:導電性支承體；導電性彈性層；和表面層， 其中: 所述表面層包括在其分子結構中具有S1-O-Ti鍵的高分子化合物；并且 所述高分子化合物具有由下式(I)、(2)和(3)表示的構成單元: 式⑴
2.根據權利要求1所述的充電構件，其中式⑴和⑶中的Rh、Rh、も-2和R2_2各自獨立地表示由下式(13)至(16)表示的結構的任ー種: 式(13)
3.根據權利要求1或2所述的充電構件，其具有在所述高分子化合物中的鈦原子數與硅原子數的比(Ti/Si)為0.1以上且12.5以下。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的充電構件，其中所述高分子化合物包括具有由式(17)表示的結構的可水解化合物、由式(18)表示的可水解化合物和至少ー種由式(23)至(25)表示的環氧改性硅油的交聯產物: 式(17)
R38-Si (OR39) (OR40) (OR41) 式(18)
T1-(OR42) (OR43) (OR44) (OR45) 在式(17)中，R38表示由式(19)至(22)表示的結構的任ー種，所述結構具有環氧基，以及R39至R41各自獨立地表示具有I個以上且4個以下碳的烴基，并且在式(18)中，R42至R45各自獨立地表示具有I個以上且18個以下碳原子的烴基: 式(19)
5.根據權利要求1至3中任一項所述的充電構件，其中所述高分子化合物包括由式(17)表示的可水解化合物、由式(18)表示的可水解化合物、至少ー種由式(23)至(25)表示的環氧改性硅油、和由式(26)表示的可水解化合物的交聯產物: 式(17)
R38-Si (OR39) (OR40) (OR41) 式(18)
T1-(OR42) (OR43) (OR44) (OR45) 在式(17)中，R38表示由式(19)至(22)表示的結構的任ー種，所述結構具有環氧基，以及R39至R41各自獨立地表示具有I個以上且4個以下碳原子的烴基，并且在式(18)中，R42至R45各自獨立地表示具有I個以上且18個以下碳原子的烴基:
6.一種制造根據權利要求4所述的充電構件的方法，所述方法包括以下步驟: 在所述導電性彈性層的外周上形成涂料的涂膜，所述涂料含有從由式(17)和(18)表示的可水解化合物合成的水解縮合物和至少ー種由式(23)至(25)表示的環氧改性硅油；和 通使在所述水解縮合物中的所述R38的環氧基和在所述環氧改性硅油中的環氧基開裂和聚合以使所述水解縮合物交聯，并使所述硅油與所述縮合物交聯來形成所述表面層。
7.—種制造根據權利要求5所述的充電構件的方法，所述方法包括以下步驟:在所述導電性彈性層的外周上形成涂料的涂膜，所述涂料含有從由式(17)、(18)和(26)表示的可水解化合物合成的水解縮合物和至少ー種由式(23)至(25)表示的環氧改性硅油；和 通過使在所述水解縮合物中的所述R38的環氧基和在所述環氧改性硅油中的環氧基開裂和聚合以使所述水解縮合物交聯，并使所述硅油與所述縮合物交聯來形成所述表面層。
8.—種處理盒，其包括:電子照相感光構件；和配置為接觸所述電子照相感光構件的根據權利要求1至5任一項所述的充電構件，其中 所述處理盒可拆卸地安裝到電子照相設備的主體。
9.一種電子照相設備，其包括:電子照相感光構件；和配置為接觸所述電子照相感光構件的根據權利要求1至5任一項所述的充電構件。
【文檔編號】C08G77/14GK103502894SQ201280020421
【公開日】2014年1月8日 申請日期:2012年4月16日 優先權日:2011年4月27日
【發明者】鈴村典子, 黑田紀明, 兒玉真隆, 友水雄也, 益啟貴 申請人:佳能株式會社