專利名稱：噴涂遮蔽結構及采用該結構的噴涂遮蔽方法
技術領域：
本發明涉及一種噴涂遮蔽結構及采用該結構的噴涂遮蔽方法。
背景技術：
一般消費型電子產品如手機或計算機等外殼通常進行外表面的噴涂以達到美化 外殼的裝飾目的。電子產品的外殼通常會設有凹槽以安裝其它組件或用于劃分出不同噴漆 區域。當凹槽的底部無需噴涂時，需采用對應的遮蔽件加以遮蔽，以便于噴涂。常用噴涂遮蔽方法采用與凹槽底面形狀相同的遮蔽件放置于凹槽內，遮蔽件覆蓋 于凹槽底面以防止噴涂時將涂料噴至凹槽底面。然而，由于加工精度的限制，遮蔽件和凹槽 不能完全貼合，必然存在微小的縫隙。噴涂時，當工件表面的涂層厚度較大時，單位面積的 噴涂量也較大，此時會有較多涂料噴涂至遮蔽件上，而遮蔽件和凹槽側壁之間的縫隙由于 毛細現象而對涂料產生吸附力，從而將涂料沿凹槽的側壁吸附至凹槽底面，使凹槽的底面 被涂覆上涂料，降低了產品的噴涂質量。
發明內容
鑒于上述狀況，有必要提供一種可提高噴涂質量的噴涂遮蔽結構及采用該結構的 噴涂遮蔽方法。一種噴涂遮蔽結構，用于對工件的非噴涂面進行遮蔽，工件包括自噴涂面凹陷的 凹槽，凹槽的底面為非噴涂面，噴涂遮蔽結構包括第一遮蔽件及第二遮蔽件，第一遮蔽件具 有一抵持面及與抵持面相對的遮蔽面，第一遮蔽件可收容于凹槽并使遮蔽面朝向凹槽的底 面，第二遮蔽件具有與第一遮蔽件的抵持面配合的抵頂面，抵持面及抵頂面邊緣的輪廓形 狀與凹槽的底面邊緣的輪廓形狀相同。一種噴涂遮蔽方法，用于對工件噴涂時的非噴涂面進行遮蔽，包括以下步驟提供 一工件，工件包括自噴涂面凹陷的凹槽，凹槽具有底面，底面為非噴涂面；提供一噴涂遮蔽 結構，噴涂遮蔽結構包括第一遮蔽件及第二遮蔽件，第一遮蔽件具有一抵持面及與抵持面 相對的遮蔽面，第一遮蔽件可收容于凹槽并使遮蔽面朝向凹槽的底面，第二遮蔽件具有與 抵持面配合的抵頂面，抵持面及抵頂面邊緣的輪廓形狀與底面邊緣的輪廓形狀相同；將第 一遮蔽件放置于工件的凹槽，使遮蔽面朝向凹槽的底面，抵持面邊緣與凹槽底面的邊緣平 齊；將第二遮蔽件放置于第一遮蔽件上，使抵頂面與抵持面貼合，且抵頂面邊緣與抵持面邊 緣平齊。由于抵持面及抵頂面形成縫隙對涂料產生吸附作用而吸附部分涂料，這樣可減少 或避免涂料自凹槽與第一遮蔽件、第二遮蔽件之間縫隙而流至底面，從而提高噴涂質量。
圖1是本發明實施例一的噴涂裝置的示意圖。圖2是圖1的噴涂裝置的局部放大圖。
圖3是圖1的噴涂裝置的噴涂示意圖。圖4是本發明實施例二的噴涂裝置的局部放大圖。圖5是本發明實施例三的噴涂裝置的局部放大圖。圖6是圖5的噴涂裝置的噴涂示意圖。
具體實施例方式下面結合實施方式對本發明的噴涂裝置及采用該裝置的噴涂方法作進一步詳細 說明。請參閱圖1，本發明實施例一的噴涂遮蔽結構100用于工件110進行噴涂時對非噴 涂面進行遮蔽，其包括第一遮蔽件120及第二遮蔽件130。請參閱圖2，工件110包括待噴涂面111及自待噴涂面111凹陷的凹槽112。凹槽 112具有底面1121及自底面1121垂直延伸的側壁1122，側壁1122與噴涂面111相交。在 本實施方式中，凹槽112的底面1121為非噴涂面。第一遮蔽件120大體為片狀，其形狀與凹槽112的形狀相對應，且包括抵持面121、 與抵持面121相鄰的側面122及與抵持面121相對的遮蔽面123。遮蔽面123的形狀與凹 槽112的底面1121的形狀相吻合。抵持面121邊緣輪廓與底面1121邊緣輪廓相同，側面 122垂直于抵持面121。本實施例中，抵持面121為平面。第二遮蔽件130大體為片狀，其包括抵頂面131、與抵頂面131相鄰的導流面132 及與抵頂面131相對的頂面133。抵頂面131邊緣輪廓與抵持面121邊緣輪廓相同。本實 施例中，抵頂面131與頂面133均為平面且相互平行。導流面132與抵頂面131之間的夾 角小于90度。采用噴涂遮蔽結構100對工件110進行遮蔽時，將第一遮蔽件120放置凹槽112， 使第一遮蔽件120的遮蔽面123與凹槽112的底面1121貼合，且抵持面121的邊緣與底面 1121的邊緣平齊。將第二遮蔽件130放置于第一遮蔽件120，使抵頂面131抵持抵持面121且抵頂面 131的邊緣與抵持面121的邊緣平齊。請同時參閱圖3，由于加工精度的限制，第一遮蔽件120、第二遮蔽件130及凹槽 112之間必然存在微小的縫隙。當噴涂量較大時，側壁1122及側面122形成的縫隙中的涂 料受到抵持面121及抵頂面131形成的縫隙吸附力作用，會有部分涂料進入抵持面121及 抵頂面131形成的縫隙。導流面132傾斜設置，使得沿導流面132流下的涂料首先流至抵 持面121及抵頂面131形成的縫隙而被吸附，同時抵持面121及抵頂面131形成的縫隙會 吸附部分流入側壁1122及側面122形成的縫隙中的涂料。這樣可減少或避免涂料自側壁 1122及側面122形成的縫隙而流至底面1121，從而提高噴涂質量。請參閱圖4，本發明實施例二的噴涂遮蔽結構200與實施例一的噴涂遮蔽結構100 大體相同，其不同在于導流面232垂直于抵頂面231，此時涂料不容易沿導流面232流下， 減少流入側壁1122及側面222形成的縫隙中的涂料。請參閱圖5及圖6，本發明實施例三的噴涂遮蔽結構300與實施例一的噴涂遮蔽結 構100大體相同，其不同在于導流面332垂直于抵頂面331，頂面333包括傾斜面3331及 自傾斜面3331延伸的平坦面3332。傾斜面3331與導流面332的夾角小于90度，從而使得傾斜面3331與平坦面3332形成的收容槽334可收集噴涂至頂面333的涂料，避免頂面 333的涂料流入側壁1122及側面322形成的縫隙中。 另外，本領域技術人員還可在本發明精神內做其它變化，當然，這些依據本發明精 神所做的變化，都應包含在本發明所要求保護的范圍內。
權利要求
1.一種噴涂遮蔽結構，用于對工件的非噴涂面進行遮蔽，工件包括自噴涂面凹陷的凹 槽，所述凹槽的底面為非噴涂面，所述噴涂遮蔽結構包括第一遮蔽件，所述第一遮蔽件具有 一抵持面及與抵持面相對的遮蔽面，所述第一遮蔽件可收容于所述凹槽并使所述遮蔽面朝 向所述凹槽的底面，其特征在于所述噴涂遮蔽結構還包括第二遮蔽件，所述第二遮蔽件具 有與第一遮蔽件的抵持面配合的抵頂面，所述抵持面及抵頂面邊緣的輪廓形狀與所述凹槽 的底面邊緣的輪廓形狀相同。
2.如權利要求1所述的噴涂遮蔽結構，其特征在于所述抵持面與抵頂面為平面。
3.如權利要求1所述的噴涂遮蔽結構，其特征在于所述第二遮蔽件還包括自抵頂面 邊緣垂直延伸的側壁。
4.如權利要求1所述的噴涂遮蔽結構，其特征在于所述第二遮蔽件自抵頂面邊緣延 伸的側壁，所述側壁與所述抵頂面的夾角小于90度。
5.如權利要求1所述的噴涂遮蔽結構，其特征在于所述第二遮蔽件還包括自抵頂面 邊緣延伸的側面及與抵頂面相對的頂面，所述頂面部分凹陷形成有收容槽。
6.一種噴涂遮蔽方法，用于對工件噴涂時的非噴涂面進行遮蔽，包括以下步驟提供一工件，工件包括自噴涂面凹陷的凹槽，凹槽具有底面，所述底面為非噴涂面；提供一噴涂遮蔽結構，所述噴涂遮蔽結構包括第一遮蔽件及第二遮蔽件，所述第一遮 蔽件具有一抵持面及與抵持面相對的遮蔽面，所述第一遮蔽件可收容于所述凹槽并使所述 遮蔽面朝向所述凹槽的底面，所述第二遮蔽件具有與抵持面配合的抵頂面，所述抵持面及 抵頂面邊緣的輪廓形狀與所述底面邊緣的輪廓形狀相同；將第一遮蔽件放置于工件的凹槽，使所述遮蔽面朝向該凹槽的底面，抵持面邊緣與凹 槽底面的邊緣平齊；將第二遮蔽件放置于第一遮蔽件上，使抵頂面與抵持面貼合，且抵頂面邊緣與抵持面 邊緣平齊。
7.如權利要求6所述的噴涂遮蔽方法，其特征在于所述抵持面與抵頂面為平面。
8.如權利要求6所述的噴涂遮蔽方法，其特征在于所述第二遮蔽件還包括自抵頂面 邊緣垂直延伸的側壁。
9.如權利要求6所述的噴涂遮蔽方法，其特征在于所述第二遮蔽件自抵頂面邊緣延 伸的側壁，所述側壁與所述抵頂面的夾角小于90度。
10.如權利要求6所述的噴涂遮蔽方法，其特征在于所述第二遮蔽件還包括自抵頂面 邊緣延伸的側面及與抵頂面相對的頂面，所述頂面部分凹陷形成有收容槽。
全文摘要
一種噴涂遮蔽結構，用于對工件的非噴涂面進行遮蔽，工件包括自噴涂面凹陷的凹槽，凹槽的底面為非噴涂面，噴涂遮蔽結構包括第一遮蔽件及第二遮蔽件，第一遮蔽件具有一抵持面及與抵持面相對的遮蔽面，第一遮蔽件可收容于凹槽并使遮蔽面朝向凹槽的底面，第二遮蔽件具有與第一遮蔽件的抵持面配合的抵頂面，抵持面及抵頂面邊緣的輪廓形狀與凹槽的底面邊緣的輪廓形狀相同。上述噴涂遮蔽結構通過抵持面及抵頂面形成的縫隙對涂料產生吸附作用而吸附部分涂料，這樣可減少或避免涂料自凹槽與第一遮蔽件、第二遮蔽件之間縫隙而流至底面，從而提高噴涂質量。
文檔編號B05D1/32GK102078852SQ200910310740
公開日2011年6月1日 申請日期2009年12月1日 優先權日2009年12月1日
發明者鄭振興 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司