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一種可稀釋高濃度石膏漿液的旋流器的制作方法

文檔序號:5076782閱讀:619來源:國知局
專利名稱:一種可稀釋高濃度石膏漿液的旋流器的制作方法
技術領域
本發明涉及能源環保領域的濕法煙氣脫硫技術,特別是適用于稀釋高濃度石膏漿
液的旋流器。
背景技術
在煙氣脫硫技術中,石灰石-石膏濕法煙氣脫硫技術是應用最廣泛的一種技術。 在該脫硫技術中,石灰石漿液與煙氣接觸后,吸收其中的S(^,在吸收塔內停留一段時間后, 成為20%的石膏漿液。然后濃度約20%的石膏漿液被送入石膏旋流器,離心濃縮為40% 65%濃度的石膏濃漿,再送入真空皮帶脫水機脫水,形成可以資源化利用的石膏產品。
由于技術的不斷進步,現在石膏旋流器的濃縮效率不斷提高,石膏旋流器的底流 石膏漿液濃度經常會超過50%,甚至達到70% 85%,這種高濃度的石膏漿液不僅極易沉 積,堵塞管道,而且到達下游真空皮帶脫水機脫水時,會造成石膏濾餅開裂,脫水困難等一 系列情況。由于石膏旋流器是不可調設備, 一旦發生這種情況,沒有任何方法能夠解決。
迄今,在國內尚未見到任何解決石膏漿液過濃問題的技術或設備。

發明內容
本發明所要解決的技術問題是針對上述現有技術的不足,而提供一種結構簡單、 控制方便的可稀釋石膏漿液濃度的旋流器。 為解決上述技術問題,本發明的技術方案采用如下技術方案實現 —種可稀釋高濃度石膏漿液的旋流器,包括溢流箱、集液箱以及旋流子,所述的集
液箱設置在溢流箱下端,在溢流箱上連接所述的旋流子,在所述的溢流箱上還設置有溢流
引出管,該溢流引出管的下端管口設置在所述的集液箱內,在所述的溢流引出管上設置有閥門。 本發明旋流器在溢流箱和集液箱之間設置溢流引出管,溢流引出管是由一根中心 圓筒組成。將低濃度漿液從旋流器的溢流箱引出,漿液依靠重力的作用自上而下流動,流量 的大小依靠閥門的開度控制。溢流引出管的底端出口在旋留器的集液箱內,從而對集液箱 內的稿濃度漿液稀釋。 在本發明的旋流器中,可以一個旋流子配置一個溢流引出管,也可以幾個旋流子 配置一個溢流引出管。 本發明與現有工藝相比,具有以下優點 (1)依靠閥門開度控制引出漿液量的大小,節約成本; (2)溢流引出管引出的稀漿液自上而下自流,省去了濃液泵等設備,節約了成本, 減少了耗電量; (3)本發明結構緊湊,省去了很多連接管道,維修方便。


下面結合附圖對實用新型進一步說明。
圖1是本發明的總體結構原理圖。 圖1中有1溢流引出管、2閥門、3溢流箱、4集液箱、5旋流子。
具體實施例方式下面結合附圖對本發明作進一步描述 參看圖1 ,本發明旋流器包括溢流箱3 、集液箱4、旋流子5 、溢流引出管1以及閥門2。旋流子5產生的溢流進入溢流箱3,高濃度底流進入集液器4。溢流引出管l將溢流箱3中的一部分液體直接引入集液箱4。引入量的大小由閥門2的開度控制。
權利要求
一種可稀釋高濃度石膏漿液的旋流器,包括溢流箱(3)、集液箱(4)以及旋流子(5),所述的集液箱(4)設置在溢流箱(3)下端,在溢流箱(3)上連接所述的旋流子(5),其特征在于在所述的溢流箱(3)上還設置有溢流引出管(1),該溢流引出管(1)的下端管口設置在所述的集液箱(4)內,在所述的溢流引出管(1)上設置有閥門(2)。
全文摘要
本發明公開了一種可稀釋高濃度石膏漿液的旋流器,包括溢流箱、集液箱以及旋流子,所述的集液箱設置在溢流箱下端,在溢流箱上連接所述的旋流子,在所述的溢流箱上還設置有溢流引出管,該溢流引出管的下端管口設置在所述的集液箱內,在所述的溢流引出管上設置有閥門。本發明可以方便的進行高濃度石膏漿液的稀釋,具有結構簡單、控制方便、節約能量的特點。
文檔編號B04C5/12GK101786051SQ20101902608
公開日2010年7月28日 申請日期2010年2月4日 優先權日2010年2月4日
發明者于愛華, 徐曉亮, 王文超, 繆明烽 申請人:中環(中國)工程有限公司
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