氣體凈化裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種氣體凈化裝置，氣體凈化裝置包括：水浴箱，具有形成在水浴箱的上部的入口和形成在水浴箱的底部的出口，水浴箱中容納有預定高度的液體；氣體導入管，連接到所述入口，并在水浴箱內延伸預定長度，氣體通過氣體導入管進入到液體中；氣體導出管，與水浴箱流體連通并且氣體導出管的入口設置在水浴箱的頂部，清潔的氣體通過氣體導出管排放至外部；導流板，設置在水浴箱的內壁與氣體導入管的外壁之間，形成彎曲的流道，氣體沿著彎曲的流道在水浴箱中流動；液位計，用于測量水浴箱中的液位；溢流管，用于限制水浴箱中的液位。根據本實用新型的氣體凈化裝置，有效地提高了除塵效率并移除了煤氣中的水氣。
【專利說明】氣體凈化裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種氣體凈化裝置，更具體地講，涉及一種用于提釩還原窯還原煤氣的煤氣凈化裝置。
【背景技術】
[0002]使用還原法將礦石中的金屬(如，鐵、釩等)提出后會產生大量的還原煤氣。并且且產生的還原煤氣中會夾帶有金屬氧化物(如氧化鐵、氧化釩等)。處理還原煤氣時，可先對還原煤氣進行除塵，然后將除塵后的煤氣點燃排空。但是，為了充分利用能源，現在通常將除塵后的氣體作為熱源再次利用。
[0003]目前，常用水浴凈化裝置對初步除塵的還原煤氣進行除塵。還原窯中產生的還原煤氣經窯尾的氣體導入管進入水浴凈化裝置的水浴箱的下部，凈化后的還原煤氣從水浴箱內的氣體導出管離開水浴箱。通過水浴箱后，還原煤氣中的氧化釩粉塵絕大部分被沉降到水浴箱中。水浴凈化后的還原煤氣可作為熱源再次利用。
[0004]現有技術中存在的問題在于:除塵的效率低，凈化后的還原氣體在作為熱源再次燃燒時會由于其中的水氣而產生大量煙氣，造成環境污染。
實用新型內容
[0005]本實用新型提供一種氣體凈化裝置，以解決現有技術除塵效率低并由于含有水氣而產生煙氣的問題。
[0006]根據本實用新型的實施例，提供一種氣體凈化裝置，所述氣體凈化裝置包括:水浴箱，具有形成在水浴箱的上部的入口和形成在水浴箱的底部的出口，水浴箱中容納有預定高度的液體；氣體導入管，連接到所述入口，并在所述水浴箱內延伸預定長度，所述氣體通過氣體導入管進入到液體中；氣體導出管，與所述水浴箱流體連通并且氣體導出管的入口設置在所述水浴箱的頂部，清潔的氣體通過所述氣體導出管排放至外部；導流板，設置在所述水浴箱的內壁與所述氣體導入管的外壁之間，形成彎曲的流道，氣體沿著所述彎曲的流道在水浴箱中流動；液位計，用于測量水浴箱中的液位；溢流管，用于限制水浴箱中的液位。
[0007]所述氣體凈化裝置還可包括設置在水浴箱內的噴淋裝置，并且所述噴淋裝置位于所述導流板的上方。
[0008]所述氣體凈化裝置還可包括與所述氣體導出管的入口相鄰地設置的冷凝管，所述冷凝管設置成圍繞所述氣體導出管。
[0009]所述氣體凈化裝置還可包括氣液分離器，所述氣液分離器沿著氣體的流動方向設置在所述氣體導出管的下游，并位于所述冷凝管之后，用于收集從氣體中分離的水分。
[0010]所述水浴箱還可包括溢流管密封件，所述溢流管密封件與溢流管相鄰地設置，并與水浴箱流體連通，用于防止氣體從水浴箱泄漏。
[0011]所述水浴箱可包括呈圓筒形的主體和呈錐形的下部，所述氣體導入管與所述主體同軸地設置，所述導流板可包括呈圓環形的多個第一導流板和多個第二導流板，其中，所述多個第一導流板中的每個第一導流板的外緣固定在水浴箱的內壁上，所述多個第二導流板中的每個第二導流板的內緣設置在氣體導入管的外壁上，并且第一導流板和第二導流板交替地布置。
[0012]所述第一導流板和所述第二導流板可基于固定位置均沿著向下的方向傾斜預定角度。
[0013]所述噴淋裝置可包括環形噴淋管和沿著圓周方向均勻地分布的噴頭。
[0014]所述裝置還可包括安裝在氣體導入管的下端的氣孔泡板，所述氣孔泡板呈圓環形并具有多個小孔。
[0015]所述氣體凈化裝置還可包括沉降槽，所述沉降槽設置在所述水浴箱的出口之下，用于收集排放的含有雜質的液體。
[0016]所述氣體凈化裝置還可包括循環水管和循環泵，其中，循環水管使沉降槽與噴淋裝置流體連通，從而通過循環泵使沉降槽中的液體經由循環水管再次循環到噴淋裝置中。
[0017]所述氣體凈化裝置還可包括設置在氣體導出管的出口處的風機，用于強制地使水浴箱中的氣體流通。
[0018]所述氣體凈化裝置還可包括補水閥，所述補水閥連接至外部水源，用于向水浴箱供水。
[0019]根據本實用新型的實施例，通過導流板和噴淋裝置的設置使得氣體與水充分地接觸，從而有效地提高了除塵效率，此外，圍繞氣體導出管設置的冷凝管使凈化的氣體中的水氣冷凝，并使用氣液分離器將冷凝的水排出，有效地防止再次利用氣體時產生煙氣。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0020]通過下面結合附圖對實施例進行的描述，本實用新型的這些和/或其他方面和優點將會變得清楚和更易于理解，其中:
[0021]圖1是根據本實用新型的實施例的氣體凈化裝置的示意圖；
[0022]圖2是根據本實用新型的實施例的氣孔泡板的示意圖；
[0023]圖3是根據本實用新型的實施例的噴淋管的示例圖。
【具體實施方式】
[0024]現在對本實用新型實施例進行詳細的描述，其示例表示在附圖中，其中，相同的標號始終表示相同部件。下面通過參照附圖對實施例進行描述以解釋本實用新型。
[0025]圖1是根據本實用新型的實施例的氣體凈化裝置。參照圖1，氣體凈化裝置100包括:水浴箱10，具有形成在水浴箱10的上部的入口 IOa和形成在水浴箱10的底部的出口10b，水浴箱10中容納有預定高度的液體(例如，水)；氣體導入管20，連接到入口 IOa并在水浴箱10內延伸預定長度，氣體(例如，提釩還原窯的還原煤氣)通過氣體導入管20進入到水浴箱10的水中；氣體導出管30，與水浴箱10流體連通并且氣體導出管30的入口 30a設置在水浴箱10的頂部，以盡可能地使進入氣體導出管30中的水減少，清潔的煤氣通過氣體導出管30排放至外部；導流板40，設置在水浴箱10的內壁與氣體導入管20的外壁之間，形成彎曲的流道，煤氣沿著彎曲的流道在水浴箱10中流動；液位計12，設置在水浴箱10的側壁上，用于測量水浴箱10中的液位；溢流管14，用于限制水浴箱10中的液位。其中，夕卜部的煤氣通過氣體導入管20導入到水浴箱10中的水中，煤氣中的大部分粉塵和雜質通過與水浴箱10中的水接觸而沉降，其余的粉塵和雜質在流經導流板40時進一步沉降，然后被除塵后的煤氣從頂部的氣體導出管30流出。
[0026]雖然在本實用新型的實施例中描述了使用水來凈化煤氣的情況，但氣體凈化裝置100不僅限于凈化煤氣，還可凈化任何其他不溶于水的氣體，或者使用其他不同于水的液體對與該液體不相溶的氣體進行除塵和凈化。
[0027]在本實用新型的實施例中，為了在對提釩還原窯中的煤氣進行除塵的同時保證還原窯的窯壓，水浴箱10中的液位必須保持在預定高度，具體地講，根據所述窯壓的壓力范圍(即，最佳生產窯壓，在本實用新型中，最佳生產窯壓優選地為330Pa-400Pa (Imm液位等于9.SPa窯壓))設置水浴箱10中的液位的高度，使液位位于最低液位和最高液位之間，其中，最低液位對應于氣體導入管20的下端并且最高液位由溢流管14限制。水浴箱10的最低液位由液位計12測量，當水浴箱10中的液位低于最低液位時，通過液位計12傳輸低位信號來向水浴箱10中補充水；最高液位由溢流管14控制，當水浴箱10中液位高于最高液位時，通過溢流管14傳輸溢流信號以停止向水浴箱10供水。
[0028]在本實施例中，為了使溢流管14有效地限制水浴箱10的最高水位，水浴箱10還包括溢流管密封件13，溢流管密封件13與溢流管14相鄰地設置，并與水浴箱10流體連通，用于防止煤氣從水浴箱10中泄漏。具體地講，在水浴箱10的側壁設置開口，并將溢流管密封件13設置在所述開口的外側并包圍所述開口，其中，所述溢流管密封件13的上端敞開，所述開口的頂端低于最高液位，而溢流管密封件13的頂端與最高液位平齊，這樣，溢流管密封件13中的液位與水浴箱10中的液位保持一致，并且由于溢流管14設置在溢流管密封件13的外側，因此當水浴箱10中的液位高于最高液位時，從溢流管密封件13溢出的水使溢流管14產生的溢流信號，從而停止向水浴箱10中供水，在這種情況下，溢流管密封件13既能限制水浴箱10中的液位又能防止煤氣泄漏。如上所述，例如，在本實施例的提釩還原窯的還原煤氣凈化中，最低液位與最高液位的高度差可以在35mm-40mm范圍內。然而,本實用新型的實施例不限于此，可根據不同生產環境相應地改變最低液位和最高液位。
[0029]在本實用新型的實施例中，優選地，水浴箱10具有呈圓筒形的主體及呈錐形的下部，氣體導入管20與水浴箱10的主體同軸地設置。另外，如上所述，導流板40設置在水浴箱10的內壁和氣體導入管20的外壁之間并形成彎曲的流道。具體地講，導流板40可包括多個第一導流板42和多個第二導流板44，并且多個第一導流板42和多個第二導流板44均呈圓環形，其中，每個第一導流板42的外緣固定在水浴箱10的內壁上，每個第二導流板44的內緣設置在氣體導入管20的外壁上，并且第一導流板42和第二導流板44交替地布置，以形成彎曲的流道。第一導流板42與氣體導入管20的外壁之間存在預定間隙并且所述間隙，同樣，第二導流板44與水浴箱10的內壁存在預定間隙，以使氣體沿著所述間隙流動，此夕卜，通過使所述間隙應小于圓環形導流板42和44的寬度的一半來形成彎曲的流道。在這種情況下，導流板42和水浴箱10以及導流板44與氣體導入管20之間的連接均可優選地為無縫焊接。
[0030]為了使噴淋裝置50噴出的水順暢地向下流動，可使多個第一導流板42和多個第二導流板44基于其各自的固定位置(S卩，第一導流板42的外緣與水浴箱10的內壁連接的位置及第二導流板44的內緣與氣體導入管20的外壁連接的位置)均沿著向下的方向傾斜預定角度，這樣從噴淋裝置50噴淋的水在沿著導流板向下流動的同時還能夠沖洗導流板40。在這種情況下，由于導流板40的傾斜還延長了氣體的流動通道，并因此延長了煤氣流動的時間及與噴淋水接觸的時間并從而增加了煤氣與水的接觸面積，因此，有效地降低了混合煤氣(水氣與煤氣混合)的溫度及煤氣中的雜質和粉塵，煤氣得到進一步的凈化。
[0031]第一導流板42和第二導流板44的數量及其傾斜角度可根據實際生產條件設計，相鄰的導流板之間根據導流板的數量按照預定間隔設置。在本實施例中，根據氣體的流量優選地設置了兩個第一導流板42和三個第二導流板44，并且相鄰的導流板之間的垂直距離約為200mm-300mm，第一導流板42距離氣體導入管20和第二導流板44距離水浴箱10的均為15mm-20mm,傾斜角度優選地設置為8度。然而,導流板40的結構不限于此。例如,可設置其他形式的導流板(例如，螺旋形)，只要能夠在水浴箱中形成彎曲的流道即可。此外，導流板40的數量也不限于如上所述，例如，可設置三個第一導流板42和兩個第二導流板44，并且導流板之間的垂直距離不變；也可設置其他數量的導流板40，只要第一導流板42和第二導流板44交替地布置即可。此外，導流板40的傾斜角度和分別距離氣體導入管20和水浴箱10的間隙也不限于上述數據，可根據實際情況進行另外地設置。
[0032]此外，由于煤氣在流經導流板40形成的彎曲的流道時進一步沉降，使得粉塵或雜質沉降到導流板40上，因此，為了對導流板40進行沖洗并且使氣體能夠進一步凈化，優選地在氣體凈化裝置100的水浴箱10中的導流板40的上方設置噴淋裝置50，具體地講，通過拉筋55 (也可使用其他固定裝置和固定方式)將噴淋裝置50固定在水浴箱10的頂部，為了使設置的噴淋裝置50不影響煤氣向上運行進入到氣體導出管30中，優選地使選用的噴淋裝置50的噴淋管52為環形噴淋管，并且為了使噴淋的水均勻地布滿水浴箱10的頂部空間，噴淋管52與水浴箱10的主體同軸地設置，并將噴淋裝置50的噴頭54均勻地分布在噴淋管52的下部。在本實施例中，如圖3所示，噴淋管52上均勻分布有8個噴嘴安裝孔52a，并將8個噴嘴安裝至噴嘴安裝孔52a。但噴淋裝置的噴嘴數量不限于此，可根據水浴箱10的外徑選擇其他直徑的噴淋管和其他數量的噴嘴。
[0033]雖然通過噴淋裝置50使煤氣與水得到充分接觸，煤氣中的大部分粉塵和雜質沉降，但噴淋裝置50的使用也導致煤氣中含有大量的水氣，如果直接使用這樣的煤氣將產生大量的煙氣，因此，需要將煤氣中的水氣移除。為此，在本實用新型的實施例中，優選地在氣體導出管30的外部設置冷凝管60。具體地講，冷凝管60與氣體導出管30的入口 30a相鄰地設置(即，沿著煤氣在氣體導出管30中流動方向設置在氣體導出管30的上游側，如圖1所示)，冷凝管60為中空的水冷套管并圍繞氣體導出管30，為了使冷凝管60中的水循環以提高冷凝效率，冷凝管60包括設置在下方的有進水管62和設置在上方的出水管64，以使冷凝管60中能夠充滿水，當煤氣流經冷凝管60時，煤氣中的水氣遇冷后冷凝，從而降低煤氣中的水分。其中，冷凝管60與氣體導出管30之間的連接可優選地采用無縫焊接。為了進一步提高冷凝效率，還可在氣體導出管30的其他部分設置冷凝管60。另外，也可采用其他冷凝方式或冷凝設備使煤氣中的水氣冷凝。
[0034]另外，氣體凈化裝置100還可包括氣液分離器70，所述氣液分離器70沿著煤氣的流動方向設置在氣體導出管30的下游，并位于所述冷凝管60之后，以收集從煤氣中分離的水分。然后，氣體導出管30的出口 30b連接至風機80，風機80用于將凈化并除去水氣的煤氣抽引至氣體凈化裝置100的外部，以強制地使水浴箱10中的煤氣流通。另外，優選地在出口 30b處設置閥門75，以控制氣體導出管30與風機80之間的氣體連通，從而有利于控制煤氣的流通并且便于對風機80進行檢修更換。
[0035]此外，氣體凈化裝置100還可包括安裝在氣體導入管20的下端的氣孔泡板22，氣孔泡板22呈圓環形，并且氣孔泡板22具有多個小孔氣體22b。具體地講，氣孔泡板22中間設置有通孔22a，通孔22a的直徑與氣體導入管20的直徑相同，并通過通孔22a將氣泡孔板22安裝在氣體導入管20末端處并優選地與氣體導入管20的下端部平齊，其中，氣孔泡板22與氣體導入管20之間的連接可優選地采用間斷焊接，此外，氣孔泡板22上還設置有多個小孔22b。從氣體導入管20通入水浴箱10內部的煤氣向水浴箱10的上部流動時，首先經過氣孔泡板22的小孔22b。通過小孔22b將大氣泡分化為小氣泡，從而增加煤氣與水的接觸面積，以更充分地清除氣體中的粉塵和雜質。在本實用新型的實施例中，優選地，氣泡孔板22的小孔22b的直徑Φ約為18mm，并且這些小孔22b的截面面積的總和優選地大于氣體導入管20的截面積的2倍，以增大氣體與水接觸的機會從而使更多的粉塵進入水中并保證氣體在其運行路線上暢通。
[0036]此外，氣體凈化裝置100還可包括設置在水浴箱10的出口 IOb的下部的沉降槽90，沉降槽90設置在水浴箱10的出口 IOb之下，用于收集從水浴箱10的下部排放的含有雜質的液體。為了控制水浴箱10中的污水的排放，在出口 IOb處還設置有控制出口流量的排污閥15，根據水浴箱10中的雜質的沉積情況定期打開排污閥15進行排放。此外，沉降槽90優選地包括一次沉降槽92和二次沉降槽94并且一次沉降槽92和二次沉降槽94之間使用連接管95連通，污水在一次沉降槽92中進行一次沉降后，通過一次沉降槽92和二次沉降槽94之間的連接管95流入到二次沉降槽94中進行二次沉降。沉降后的較干凈的水可進行回收利用。
[0037]在這種情況下，為了使沉降后的水進行再利用，可以將其作為噴淋裝置50的水源。在這種情況下，氣體凈化裝置100還優選地包括循環水管56和循環泵58，其中，循環水管56使二次沉降槽94與噴淋裝置50流體連通，從而通過循環泵58使二次沉降槽94中的液體經由循環水管56再次循環到噴淋裝置50中。然而，本實用新型的實施例不限于此。如果不考慮能源浪費，可直接使用外部水源作為噴淋裝置50的水源，在這種情況下，可省去二次沉降槽94、循環水管56和循環泵58。
[0038]如上所述，在將水浴箱10中的雜質排放后，水浴箱10中的液位下降，因此還需要對水浴箱10進行補水。因此，氣體凈化裝置100還可包括補水閥17，補水閥17連接至外部水源，用于控制向水浴箱10供水。液位計12與補水閥17連鎖，當水浴箱10的液位到達最低液位時，液位計12將低位信號反饋至補水閥17，即打開補水閥17對水浴箱10進行補水。隨著液位的升高，當到達最高液位(溢流管密封件13的頂端)后，溢流管14開始溢流，此時溢流管14將溢流信號傳到控制室，由控制室指令關閉補水閥17，從而停止補水。
[0039]此外，氣體凈化裝置100還可包括人孔110，以便對水浴箱10內的氣泡孔板22及導流板40進行檢修。
[0040]根據本實用新型的實施例的氣體凈化裝置的具體工作過程為:帶有粉塵和雜質的煤氣通過氣體導入管20進入水浴箱10的水中，因氣體自身性質向上運動，向上運動的煤氣經過氣孔泡板22，氣泡孔板22的小孔22b使大的煤氣氣泡變為小氣泡，氣體上升到導流板40處后，導流板40迫使氣體沿著彎曲的流道向上流動，同時從噴淋裝置50噴射的水沿著導流板40向下運動并與向上流動的煤氣充分接觸，從而使得煤氣中的雜質和粉塵再次沉降。被除塵后含有大量水氣的煤氣在水浴箱10的頂部進入氣體導出管30，在氣體導出管30內通過冷凝管60降溫后，煤氣中的水氣被冷凝成水，然后在氣體導出管30內繼續流動經過氣液分離器70，氣液分離器70將冷凝過程中產生的冷凝水排出，然后清潔干燥的煤氣經閥門16通過風機80抽引運行至氣體凈化裝置100的外部并進入對煤氣進行再次利用的設備內產生熱量。另一方面，煤氣在運行過程中與水充分接觸，煤氣中的粉塵和雜質沉降下來進入水中。然后不斷沉積進入水浴箱10的底部，打開水浴箱10底部的排污閥15將污水排放至一級沉降槽92進行沉降，一級沉降槽92中的污水經連接管95溢流至二級沉降槽94進行再次沉降。二級沉降槽94澄清后的液體由循環泵58打入循環管道56從而進入噴淋環管52進行循環利用。此外，當水浴箱10內的液位達到最低液位時，液位計12將低位信號反饋至補水閥17進行補水，以保證水浴箱10內的液位；當水浴箱10內的液位超過溢流管密封件10時，水浴箱10內的水經過溢流管22流入一級沉降槽92，同時將溢流的信號傳到控制室，指令補水閥17關閉。
[0041]根據本實用新型的實施例，通過導流板和噴淋裝置的設置使得氣體與水充分地接觸，從而有效地提高了除塵效率，此外，圍繞氣體導出管設置的冷凝管使凈化的氣體中的水氣冷凝，并使用氣液分離器將冷凝的水排出，有效地防止再次利用氣體時產生煙氣。
[0042]雖然已表示和描述了本實用新型的一些實施例，但本領域技術人員應該理解，在不脫離由權利要求及其等同物限定其范圍的本實用新型的原理和精神的情況下，可以對這些實施例進行修改。
【權利要求】
1.一種氣體凈化裝置，其特征在于，所述氣體凈化裝置包括: 水浴箱，具有形成在水浴箱的上部的入口和形成在水浴箱的底部的出口，水浴箱中容納有預定高度的液體； 氣體導入管，連接到所述入口，并在所述水浴箱內延伸預定長度，所述氣體通過氣體導入管進入到液體中； 氣體導出管，與所述水浴箱流體連通并且氣體導出管的入口設置在所述水浴箱的頂部，清潔的氣體通過所述氣體導出管排放至外部； 導流板，設置在所述水浴箱的內壁與所述氣體導入管的外壁之間，形成彎曲的流道，氣體沿著所述彎曲的流道在水浴箱中流動； 液位計，用于測量水浴箱中的液位； 溢流管，用于限制水浴箱中的液位。
2.根據權利要求1所述的氣體凈化裝置，其特征在于，所述氣體凈化裝置還包括設置在水浴箱內的噴淋裝置，并且所述噴淋裝置位于所述導流板的上方。
3.根據權利要求2所述的氣體凈化裝置，其特征在于，所述氣體凈化裝置還包括與所述氣體導出管的入口相鄰地設置的冷凝管，所述冷凝管設置成圍繞所述氣體導出管。
4.根據權利要求3所述的氣體凈化裝置，其特征在于，所述氣體凈化裝置還包括氣液分離器，所述氣液分離器沿著氣體的流動方向設置在所述氣體導出管的下游，并位于所述冷凝管之后，用于收集從氣體中分離的水分。
5.根據權利要求1所述的氣體凈化裝置，其特征在于，所述水浴箱還包括溢流管密封件，所述溢流管密封件與溢流管相鄰地設置，并與水浴箱流體連通，用于防止氣體從水浴箱泄漏。
6.根據權利要求1所述的氣體凈化裝置，其特征在于，所述水浴箱包括呈圓筒形的主體和呈錐形的下部，所述氣體導入管與所述主體同軸地設置，所述導流板包括呈圓環形的多個第一導流板和多個第二導流板，其中，所述多個第一導流板中的每個第一導流板的外緣固定在水浴箱的內壁上，所述多個第二導流板中的每個第二導流板的內緣設置在氣體導入管的外壁上，并且第一導流板和第二導流板交替地布置。
7.根據權利要求6所述的氣體凈化裝置，其特征在于，所述第一導流板和所述第二導流板基于固定位置均沿著向下的方向傾斜預定角度。
8.根據權利要求2所述的氣體凈化裝置，其特征在于，所述噴淋裝置包括環形噴淋管和沿著圓周方向均勻地分布的噴頭。
9.根據權利要求1所述的氣體凈化裝置，其特征在于，所述裝置還包括安裝在氣體導入管的下端的氣孔泡板，所述氣孔泡板呈圓環形并具有多個小孔。
10.根據權利要求1所述的氣體凈化裝置，其特征在于，所述氣體凈化裝置還包括沉降槽，所述沉降槽設置在所述水浴箱的出口之下，用于收集排放的含有雜質的液體。
11.根據權利要求10所述的氣體凈化裝置，其特征在于，所述氣體凈化裝置還包括循環水管和循環泵，其中，循環水管使沉降槽與噴淋裝置流體連通，從而通過循環泵使沉降槽中的液體經由循環水管再次循環到噴淋裝置中。
12.根據權利要求1所述的氣體凈化裝置，其特征在于，所述氣體凈化裝置還包括設置在氣體導出管的出口處的風機，用于強制地使水浴箱中的氣體流通。
13.根據權利要求1所述的氣體凈化裝置，其特征在于，所述氣體凈化裝置還包括補水閥，所述補水閥連接至外部水源，用于向水浴箱供水。
【文檔編號】C10K1/00GK203807419SQ201420152886
【公開日】2014年9月3日 申請日期:2014年3月31日 優先權日:2014年3月31日
【發明者】付文, 鄧孝伯, 段輝兵, 張成云, 付云貴, 賈琨 申請人:攀鋼集團攀枝花鋼釩有限公司