一種電鍍系統的制作方法
【專利說明】
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及電鍍領域，尤其是涉及一種電鍍系統。
【【背景技術】】
[0002]電鍍利用電解原理在金屬表面鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，從而可以使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜，而起到防止腐蝕、提高電鍍工件耐磨性、導電性、反光性及增進美觀等作用的工藝。
[0003]在電鍍過程中，盛有電鍍液的鍍槽中，待鍍件作為陰極，用鍍覆金屬制成陽極，兩極分別與直流電流的負極和正極連接，電鍍液由含有鍍覆金屬的化合物、導電的鹽類、緩沖劑、PH調節劑和添加劑等的水溶液組成。為了保證鍍層的質量，除了嚴格控制溫度、電流密度、pH等工藝參數外，電鍍液攪拌及電鍍液中雜質等因素對鍍件質量也具有很大的影響，為了防止氣泡在鍍層表面滯留及電鍍時的濃差極化，現在技術中采用機械或空氣攪拌方法對電鍍液進行攪拌，上述的攪拌方式一方面使電鍍液擾動較大，一方面由于攪拌方式的限制，無法實現對電鍍液進行循環或過濾。
[0004]此外，現有對電鍍液的過濾除雜主要采用以過濾栗對電鍍液進行抽吸，一般在盛有電鍍液的缸體內設置抽水口和注水口。現有的過濾的設置僅可用長度較短的電鍍工段中。此外，由于現有過濾裝置中沒有在所述抽水口與注水口之間設置有效的防干擾組件，因此，過濾過程中過濾栗對電鍍液的抽水與放水過程會互相干擾及相互影響，從使最終的過濾效果較差。
[0005]現有技術所公開的循環過濾栗應用于所述電鍍生產線中的技術方案，無法滿足如沙丁鎳液等需要相對靜止狀態且需要去除漂浮于電鍍液上表面的油性雜質的電鍍工藝生產線中。
【【實用新型內容】】
[0006]為克服現有電鍍液槽過濾機構中存在的對電鍍液擾動較大、無法有效去除雜質的缺點，本實用新型提供一種結構簡單、可減少對電鍍液擾動、有效去除雜質的電鍍系統。
[0007]本發明為解決技術問題提供了一種電鍍系統，其包括一盛有電鍍液的槽體主缸及與其連接設置的過濾栗，所述電鍍系統包括一下液位擋板，所述下液位擋板將所述槽體主缸空間界定為一第一液腔與一第二液腔；所述槽體主缸內設有至少一過濾入水口及至少一過濾出水口，該過濾入水口位于第二液腔底部，該過濾出水口位于第一液腔底部，所述下液位擋板高度低于電鍍液面高度。
[0008]優選地，所述電鍍系統還包括一上液位擋板，該上液位擋板位于所述第一液腔中，所述上液位擋板的最低處低于所述槽體主缸內電鍍液的液位，所述上液位擋板與所述下液位擋板之間設有一定間距。
[0009]優選地，所述上液位擋板與下液位擋板之間的水平距離為2_7cm ;所述上液位擋板的最低處與電鍍液的液位的高度差為l_5cm ;所述下液位擋板的最高處與電鍍液的液位的高度差為2-8cm。
[0010]優選地，所述電鍍系統進一步包括與所述過濾入水口連接設置的過濾入水管，所述過濾入水管上設有若干個過濾入水孔。
[0011]優選地，所述過濾入水孔的孔徑大小和分布密度均與其和所述過濾栗的距離成正比。
[0012]優選地，多個所述過濾入水孔等間距分布，所述過濾入水孔的孔徑大小與其和所述過濾栗的距離成正比；或多個所述過濾入水孔的孔徑大小相等，所述過濾入水孔的分布密度與其和所述過濾栗的距離成正比。
[0013]優選地，所述電鍍系統進一步包括一循環機構，所述循環機構包括至少一循環栗，及，與該循環栗分別對應連接且貫通設置在所述槽體主缸內的循環出水管與循環入水管，所述循環出水管與所述循環入水管設置在所述第二液腔內，所述第二液腔上部為產品電鍍區。
[0014]優選地，所述循環出水管與循環入水管上分別設有若干個循環出水孔與若干個循環入水孔。
[0015]優選地，所述循環出水管高于所述循環入水管，其中，所述循環出水管靠近所述產品電鍍區，所述循環入水管遠離所述產品電鍍區。
[0016]優選地，多個所述循環出水孔或循環入水孔等間距分布，且所述循環出水孔或循環入水孔孔徑大小與其和所述循環栗之間的距離成正比；或多個所述循環出水孔或循環入水孔孔徑大小相等，所述循環出水孔或循環入水孔的分布密度與其和所述循環栗的距離成正比。
[0017]相對于現有技術，第一，本實用新型所提供的電鍍系統包括一上液位擋板與一下液位，所述下液位擋板將所述槽體主缸內的空間界定為第一液腔及第二液腔，所述產品電鍍區設置在所述第二液腔的上部，且所述循環入水管、所述循環出水管均設置在第二液腔內，使電鍍液循環過程更為流暢，從而可以提升產品電鍍區電鍍液的均勻性和穩定性。其中，所述過濾出水口與所述過濾入水管分設于所述第一液腔與所述第二液腔將，從而還可進一步避免過濾機構中入水運作與出水運作之間相互干擾。
[0018]當電鍍液經過所述上液位擋板與所述下液位擋板之間的間隙時由于上液位擋板的阻擋作用，懸浮在電鍍液上層的漂浮物如泡沫、油性物質等，可以被所述上液位擋板阻隔，從而有效避免電鍍液的漂浮物(如泡沫、油性物質等)進入所述過濾栗中，對過濾栗的過濾結構造成損耗。提高所述過濾機構過濾的效率。
[0019]第二，本實用新型所提供的電鍍系統采用在同一過濾入水管、循環出水管及循環入水管上分別設置具有可變孔徑及分布間距的過濾入水孔、循環出水孔及循環入水孔，其可以有效地解決由于距離所述過濾栗及循環栗的距離遠近而帶來的電鍍液流速不均一的問題，從而可從最大程度上保證在所述槽體主缸內電鍍液在過濾循環過程中仍能保持其均勻性和穩定性。進一步地，在本實用新型中，相鄰兩個過濾入水孔、循環出水孔及循環入水孔均可為等間距分布且其孔徑變化，或還可為變間距分布且其孔徑相等設置，其孔徑與其分布間距可根據循環栗設置的位置而決定，具有靈活度，可適用于不同的電鍍裝置中。
[0020]第三，設置在所述槽體主缸的底面的所述過濾出水口可為多個均勻分布且與所述下液位擋板平行設置，所述過濾出水口的直徑大小與分布密度與其和所述過濾栗的距離遠近也成比例，從而有利于充分過濾去除所述槽體主缸底面的電鍍液結晶物、絮狀物或沉淀物，并保持所述槽體主缸內電鍍液的均衡、平穩地進入所述過濾機構中進行過濾處理，除了可以使所述槽體主缸內電鍍液濃度均一外，還可以保持電鍍液的相對靜止，從而減少電鍍液的過渡擾動，避免電鍍液由于過濾處理而出現分解或沉淀析出的情況出現。
[0021]第四，所述循環出水管與所述循環入水管兩者之間的高度差為30-60cm。所述循環出水管較所述循環入水管更接近于所述槽體主缸的產品電鍍區，因此，經過反應后濃度較低的電鍍液可以快速地通過所述循環出水管進入循環機構中，不會滯留于所述槽體主缸中。而所述循環入水管設置在所述槽體主缸的下部，則由所述循環入水孔進入所述槽體主缸內的電鍍液平穩、均勻。
[0022]第五，本實用新型中所提供的電鍍系統中還包括一循環機構，所述循環機構與過濾機構的運作相互之間不影響。所述循環機構與過濾機構可共同運作，從而可以提高電鍍液循環及其過濾效果，且不會影響電鍍反應的正常進行。
[0023]此外，本實用新型中所提供的電鍍系統尤其適用于沙丁鎳電鍍液中，特別適用于連續掛鍍沙丁鎳的工藝生產線中。由于沙丁鎳電鍍液需要保證電鍍液的相對靜止，采用本實用新型中所述的電鍍系統及電鍍裝置，可以有效地在保證沙丁鎳電鍍液平穩、均勻循環過濾的過程中，也能保證沙丁鎳電鍍液的相對靜止狀態，從而減少沙丁鎳電鍍液由于過大的擾動而造成其有效成分的分解。采用本實用新型中所提供的電鍍