專利名稱：陣列基板檢測裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種陣列基板檢測裝置。
背景技術：
液晶顯示器由于具有輕、薄、便于攜帶和環保等諸多優點，獲得廣泛應用。但在液晶顯示器制造的各種工序中，必須設置諸多檢測步驟，尤其液晶顯示器的基板制造過程中，需要多次檢測，以提升良率，降低成本。常用的陣列基板檢測裝置及檢測方法主要用于檢測基板中的線路缺陷，如短路、斷路等。
如圖1所示，是一種現有技術陣列基板檢測裝置。該陣列基板檢測裝置1主要包括一光電元件10、一電源11、一光源12、一光偵測器13和一監視器14。
該光電元件10包括一可控制光通過與否的控光層101和一反射層102。該光電元件10設置在待測陣列基板16上方而且貼近該陣列基板16，電源11與光電元件10及陣列基板16上的像素電極15電連接。
電源11在陣列基板16上的像素電極15和光電元件10之間施加電壓，以形成一電場；光源12發出的光照射該光電元件10，被反射層102反射，光偵測器13接收來自光電元件10的反射光，并將該反射光對應的訊號輸入與之連接的監視器14。若陣列基板16上有瑕疵，該瑕疵對應位置的電場強度將發生畸變，引起控光層101動作，導致對應點處控光層101的光通過率發生變化，從而使得光偵測器13接收到的反射光發生畸變，反映在監視器14上，由此可以確認瑕疵的存在和瑕疵的大致位置；若該待測陣列基板16無瑕疵，則監視器14上顯示的光線為均勻亮光。
采用該陣列基板檢測裝置1可有效檢測待測陣列基板16有無缺陷，若有缺陷，還可顯示缺陷的大致位置，但由于光經過多次變化，到達監視器14，難以準確顯示該缺陷的具體位置，導致后續修復時，需要額外的搜索缺陷過程，增加成本。
實用新型內容為克服現有技術陣列基板檢測裝置不能對基板上的缺陷準確定位的問題，本實用新型提供一種可對陣列基板上的缺陷準確定位的陣列基板檢測裝置。
本實用新型解決技術問題所采用的技術方案是提供一種陣列基板檢測裝置，包括一光源、一可控制光通過與否的光電元件、一位于該光電元件一側的光偵測器和一與該光偵測器連接的計算器系統，待測陣列基板設置在光電元件與光源之間。
與現有技術相比，本實用新型的有益效果是本實用新型的陣列基板檢測裝置采用光偵測器對待測陣列基板拍攝之后獲得其影像數據，并將該影像顯示在計算器系統的顯示器上，同時將該影像數據輸入計算器系統與計算器系統中預存的數據相比較，以獲得比較結果，并判斷其差異，從而獲得陣列基板是否有缺陷；若有缺陷，則可通過與預存影像數據逐點比較以確定該缺陷的具體位置。因而可直接根據檢測結果進行修復動作，無需再進行確定缺陷位置的步驟，可有效提高檢測效率。
圖1是現有技術陣列基板檢測裝置示意圖。
圖2是本實用新型陣列基板檢測裝置示意圖。
具體實施方式請參閱圖2，是本實用新型陣列基板檢測裝置2的示意圖。該陣列基板檢測裝置2主要包括一位于該陣列基板26上方的光電元件20、一位于該陣列基板26下方的光源22、一光偵測器23和一計算器系統24。
該光電元件20包括一透明導電層201和一控光層202。對導電層201和薄膜晶體管25施加電壓，通過控制薄膜晶體管25的開關可控制光源21發出的光能否通過該光電元件20。
該光偵測器23可采用電荷耦合元件(Charge Coupled Device，CCD)照相機，該CCD照相機的分辨率高于該待測陣列基板26的分辨率。計算器系統24可提供預設的與待測陣列基板26相應的數組圖案數據。
對陣列基板26上的薄膜晶體管25和導電層201施加電壓，使該陣列基板26上的薄膜晶體管25和光電元件20工作。光源22發出的光從陣列基板26下面照射該陣列基板26。開啟該薄膜晶體管25，使得該陣列基板26與光電元件20之間建立一電場，該電場可使得光電元件20的控光層202動作，使得光源22發出的光能夠通過該光電元件20，此時該光電元件20表面處于全亮狀態，采用光偵測器23對該陣列基板26拍攝，獲取影像數據，并將影像數據輸入計算器系統24，通過該計算器系統24的顯示器顯示該影像，并將該影像數據與計算器系統24中預存的相關陣列基板數據相比較，若發現瑕疵，則可由對比預存數據顯示出該瑕疵的具體位置并記錄；若無瑕疵，則關閉該薄膜晶體管25，則該陣列基板26與該導電層201之間的電場發生變化，使得控光層202動作，光源22發出的光不能通過該光電元件20，此時陣列基板26處于全暗狀態，采用光偵測器23對該陣列基板26拍攝，獲取影像數據，并將影像數據輸入計算器系統24，通過該計算器系統24的顯示器顯示該影像，并將該影像數據與計算器系統24中預存的相關陣列基板數據相比較，若發現瑕疵，則可由逐點對比預存數據找出該瑕疵的具體位置并記錄；若無瑕疵，則進行下一待測陣列基板的檢測。
與現有技術相比較，本實用新型的陣列基板檢測裝置2采用光偵測器23對待測陣列基板26拍攝之后獲得其影像數據，并將該影像顯示在計算器系統24的顯示器上，同時將該影像數據輸入計算器系統24與計算器系統24中預存的數據相比較，以獲得比較結果，并判斷其差異，從而獲得陣列基板26是否有缺陷；若有缺陷，則可通過與預存影像數據逐點比較以確定該缺陷的具體位置。因而可直接根據檢測結果進行修復動作，無需再進行確定缺陷位置的步驟，可有效提高檢測效率。
對于該陣列基板檢測裝置2，所述控制光源22使陣列基板26全亮或者全暗的檢測順序可調換，光偵測器23還可以采用高分辨率的互補金屬氧化物半導體(Complementary Metal OxideSemiconductor，CMOS)照相機。該光源22可以為發光二極管等點光源，也可以為冷陰極螢光等(Cold Cathode Fluorescent Lamp，CCFL)等線光源或者薄膜形態的電致發光元件(Electroluminance，EL)等面光源。該控光層202可以是液晶層或者其它各向異性晶體。
權利要求1.一種陣列基板檢測裝置，其包括一光源、一可控制光通過與否的光電元件和一位于該光電元件一側的光偵測器，其特征是該陣列基板檢測裝置還包括一與該光偵測器連接的計算器系統，待測陣列基板設置在該光電元件與該光源之間。
2.如權利要求1所述的陣列基板檢測裝置，其特征是該光偵測器是電荷耦合元件照相機或者互補金屬氧化物半導體照相機。
3.如權利要求1所述的陣列基板檢測裝置，其特征是該光電元件包括一控光層和一透明導電層。
4.如權利要求3所述的陣列基板檢測裝置，其特征是該控光層是液晶層或者各向異性晶體。
5.如權利要求1所述的陣列基板檢測裝置，其特征是該光源是點光源。
6.如權利要求5所述的陣列基板檢測裝置，其特征是該點光源是發光二極管。
7.如權利要求1所述的陣列基板檢測裝置，其特征是該光源是線光源。
8.如權利要求7所述的陣列基板檢測裝置，其特征是該線光源是冷陰極熒光燈。
9.如權利要求1所述的陣列基板檢測裝置，其特征是該光源是面光源。
10.如權利要求9所述的陣列基板檢測裝置，其特征是該面光源是電致發光元件。
專利摘要本實用新型公開了一種陣列基板檢測裝置。該陣列基板檢測裝置包括一光源、一可控制光通過與否的光電元件、一位于該光電元件一側的光偵測器和一與該光偵測器連接的計算器系統，待測陣列基板設置在光電元件與光源之間。采用該陣列基板檢測裝置可提高檢測效率。
文檔編號G01R31/00GK2800286SQ20042010360
公開日2006年7月26日 申請日期2004年12月28日 優先權日2004年12月28日
發明者林至成, 吳澤 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 群創光電股份有限公司