一種觸摸顯示屏的TFT基板及其制作方法、觸摸顯示屏與流程

本發明涉及一種觸摸屏技術，特別是一種基于混合內嵌式觸控的觸摸顯示屏的TFT基板及其制作方法、觸摸顯示屏。

背景技術：

目前，Hybrid Incell Touch(混合內嵌式觸控)技術是指在TFT基板上利用Com-ITO(公共電極層)形成Tx圖形，在CF基板利用背鍍ITO形成Rx圖形的一種觸控技術。目前使用的Hybrid Incell Touch架構在TFT基板上使用類似于GOA的驅動電路驅動Tx逐行掃描；在CF基板上用背鍍ITO并通過曝光、顯影、刻蝕制程形成Rx圖形，通過檢測Tx與Rx間電容的變化來確定觸控的位置；同時在CF基板連接觸控用的柔性線路板(FPC)，使觸控的Rx信號與觸控芯片的Rx驅動單元連通。在CF基板背鍍ITO形成Rx圖形的制程需要在中段成盒(Cell)后實施，所以會有破片造成良率損失的風險；同時中段成盒后不能經歷高溫制程，CF基板背鍍ITO阻抗無法做的很低，這樣會影響觸摸顯示屏的性能。CF基板連接觸控用的柔性線路板(FPC)還會額外增加一道工序，增加成本的同時也增加了制程風險。

技術實現要素：

為克服現有技術的不足，本發明提供一種觸摸顯示屏的TFT基板及其制作方法、觸摸顯示屏，從而實現在TFT基板上制作Rx電極，降低良率損失，提升觸控性能，而且也減少了工序。

本發明提供了一種觸摸顯示屏的TFT基板，包括TFT基板，所述TFT基板上形成有經柔性線路板與觸控芯片的Tx驅動單元連接的Tx電極，所述Tx電極上形成有一層絕緣層，在絕緣層上形成圖形化的金屬層作為Rx電極，所述Rx電極通過柔性線路板與觸控芯片的Rx驅動單元連接。

進一步地，所述Rx電極設置在與TFT基板的數據線位置相對應處。

進一步地，所述絕緣層為氮化硅材料制成。

本發明還提供了一種觸摸顯示屏的TFT基板的制作方法，包括如下步驟：

步驟一、在具有Tx電極的TFT基板上形成一層絕緣層；

步驟二、在絕緣層上形成一層金屬層，將金屬層圖形化后形成Rx電極；

步驟三、將Rx電極通過柔性線路板與觸控芯片的Rx驅動單元連接，同時將Tx電極通過柔性線路板與觸控芯片的Tx驅動單元連接。

進一步地，所述Rx電極設置在與TFT基板的數據線位置相對應處。

進一步地，所述絕緣層為氮化硅材料。

本發明還提供了一種觸摸屏，還包括所述的觸摸顯示屏的TFT基板。

本發明與現有技術相比，在TFT基板上增加一層金屬層作為觸控的Rx電極，這樣不需要再在CF基板做背鍍ITO的圖形，可以降低良率損失，提升觸控性能；同時由于Rx圖形也做在TFT基板上，就不需要在CF基板上額外接柔性線路板；實現在TFT基板上同時將Tx、Rx電極與觸控芯片相連接，制作一次柔性線路板連接即可完成觸控與顯示的連接，達到減少工序的目的。

附圖說明

圖1是本發明的Tx電極與Rx電極間形成的電場的示意圖。

圖2是本發明的俯視圖。

圖3是本發明剖面圖。

圖4是本發明的制作方法流程圖。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本發明作進一步詳細說明。

如圖1、圖2和圖3所示，本發明的一種觸控顯示屏的TFT基板，包括TFT基板1，所述TFT基板1上形成有經柔性線路板與觸控芯片的Tx驅動單元連接的Tx電極2，所述Tx電極2上形成有一層絕緣層4，在絕緣層4上形成圖形化的金屬層3，所述金屬層3作為Rx電極3，所述Rx電極3通過柔性線路板與觸控芯片的Rx驅動單元連接，所述Tx電極2由TFT基板的公共電極層(Com ITO)形成。

本發明通過在TFT基板上增加一層M3(Metal 3)金屬層3，用其作為Rx信號線，代替CF基板上的背鍍ITO(透明導電膜)。這樣設計的好處在于，不需要再在CF基板上進行ITO鍍膜、光罩、刻蝕工藝，減小了良率損失的風險；由于Rx電極也做在了TFT基板上，可以通過TFT基板的柔性線路板同時將Tx電極、Rx電極與觸控芯片的Tx驅動單元、Rx驅動單元相連接，不需要再在CF基板上連接觸控用的柔性線路板(FPC)，減少了工序的同時降低了良率損失的風險。

優選地，Rx電極3設置在與TFT基板1的數據線5位置相對應處，使得Rx電極3與掃描線7也交叉設置，在TFT基板的數據線的位置上設置Rx電極，這樣不會影響到像素的開口率。

本發明中還可以將觸控與顯示用的柔性線路板集成在一起，使得觸控與顯示公用一條柔性線路板。

如圖1所示，將Rx電極也設置在TFT基板上，其Tx電極與Rx電極間形成的電場因此并沒有受到影響，與CF基板6組裝后，電場還是能夠覆蓋到CF基板6處。

如圖4所示，本發明的一種觸摸顯示屏的TFT基板的制作方法，包括如下步驟：

步驟一S1、在具有Tx電極2的TFT基板1上形成一層絕緣層4；所述具有Tx電極2的TFT基板1采用現有的用于觸摸顯示屏的TFT基板的制作方法得到，在此不做具體限定；所述絕緣層4可采用現有技術的化學氣相沉積工藝得到；

步驟二S2、在絕緣層4上形成一層金屬層3，將金屬層3圖形化后形成Rx電極；所述金屬層3可采用物理氣相沉積工藝形成，金屬層3圖形化可采用光罩、刻蝕等現有工藝制作形成，在此不做具體限定。

步驟三S3、將Rx電極通過柔性線路板與觸控芯片的Rx驅動單元連接，同時將Tx電極通過柔性線路板與觸控芯片的Tx驅動單元連接，實現在TFT基板上同時將Tx、Rx電極與觸控芯片相連接，減少了工序。

所述Rx電極3設置在與TFT基板1的數據線5位置相對應處。

本發明中絕緣層4采用氮化硅材料。

本發明還提供了一種觸摸顯示屏，包括觸摸顯示屏的TFT基板，其適用于混合內嵌式觸控的觸摸顯示屏，由于結構與上述的觸摸顯示屏的TFT基板，在此不再贅述。

雖然已經參照特定實施例示出并描述了本發明，但是本領域的技術人員將理解：在不脫離由權利要求及其等同物限定的本發明的精神和范圍的情況下，可在此進行形式和細節上的各種變化。