OLED顯示面板和OLED顯示面板的制造方法與流程

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種OLED顯示面板及OLED顯示面板的制造方法。

背景技術：

在目前照明和顯示領域中，由于有機電致發光(OLED)自身的特點，如低啟動電壓，輕薄，自發光等特點，越來越多的被廣泛研究用于開發照明產品以及面板行業中，以達到低能耗，輕薄和面光源等需求。

而目前，OLED發光主要通過激子的復合，然后從發光層出射到空氣中,一般的底發射OLED照明器件，光出射的路徑為：發光層-陽極-基板-空氣。經過四個路徑才可以達到空氣中入射到人的眼睛。

光從發光層出射到空氣中，一共有四種模態：外部模態，波導模態，基板模態，表面等離子激元波模態，其中，只有外部模態的光可以出射到空氣中，其余都在器件內部損失掉了，其中，約有40％的光會以表面等離子激元波模態損失掉，表面等離子激元波的產生是由于發光層發射的光子與金屬陰極的電子發生耦合引起的。這部分的光并不會出射到空氣中。因此，為了將這部分的光提取出來，目前采用的方法之一為增加散射層，目前散射層為無機散射層或有機散射層。無機散射層主要為溶膠法以及溶液旋涂法制備，有機散射層主要在器件內部。旋涂法利用率依然較低，且膜厚控制較難，膜厚均一性得不到保證。出光效率得不到最大限度的提高。膜厚太薄，達不到透光的效果。器件內部的散射層，一般通過蒸鍍制備，材料利用率低，且其分子結構也會對電子空穴的復合幾率產生較大影響，厚度的大小可造成器件膜層變化，導致不可控因素增加。

技術實現要素：

本發明提供一種OLED顯示面板，能夠提高散射層的散射效率，從而可以加強出光效率，提高發光性能。

本發明提供一種OLED顯示面板，包括基板、第一電極、間隔墻和散射層，所述間隔墻位于所述基板和所述第一電極之間，所述散射層形成于所述基板上并且位于所述間隔墻圍成的中間區域內。

其中，所述散射層由散射液烘干制成，所述散射液包括金屬氧化物和有機溶劑，所述金屬氧化物的折射率大于1.9。

其中，所述金屬氧化物的質量百分比為30％至60％。

其中，所述散射液還包括分散劑。

其中，所述散射層的厚度為300至1500nm。

其中，所述間隔墻的厚度為100至1000nm。

其中，所述間隔墻的數量為兩個，兩個所述間隔墻相對設置。

其中，所述間隔墻的數量為四個，四個所述間隔墻兩兩相對圍成封閉區域，所述散射層位于所述封閉區域內。

本發明還提供一種OLED顯示面板的制造方法，包括以下步驟：在基板上制備間隔墻，所述間隔墻會圍成一中間區域；將制備好的散射液注入到所述間隔墻圍成的所述中間區域內；在所述間隔墻上制備第一電極；和烘干所述散射液以制備散射層，并且在所述第一電極上依次制備有機功能層、發光層、陰極和蓋板。

其中，所述間隔墻由蒸鍍法制成。

相較于現有技術，根據本發明的OLED顯示面板的基板上設置間隔墻，通過控制間隔墻的厚度能夠控制基板和第一電極之間的間距，從而在制作散射層時，位于間隔墻圍成的中間區域內的散射層的厚度能夠以間隔墻的厚度為標準，因而能夠通過控制間隔墻的高度來控制內部散射層的厚度，從而能夠提高散射層的膜厚致密性與膜厚一致性，因而可以提高散射層的散射效率，最終可以加強出光效率，提高發光性能。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是根據本發明的OLED顯示面板的結構示意圖；

圖2a至圖2c是根據本發明的OLED顯示面板的一種散射層的制作過程的示意圖；

圖3a至圖3c是根據本發明的OLED顯示面板的另一種散射層的制作過程的示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

參閱圖1和圖2a，示出根據本發明的OLED顯示面板，該OLED顯示面板包括基板1、以及基板1上方依次形成的散射層2、陽極3、有機功能層4、發光層5、陰極6和蓋板7，散射層2則位于間隔墻8圍成的中間區域內，在該結構中，當向陽極3和陰極6施加驅動電壓時，從被施加陽極電壓的陽極3注入的空穴經由有機功能層4而向發光層5移動，同時電子經由從被施加陰極電壓的陰極67注入到發光層5中，電子和空穴在發光層5處復合以產生激子。隨著該激子從激發態變為基態，發光層5的熒光分子發光，從而顯示圖像。其中散射層2的作用是將發光層5發出的光經由基板1散射到空氣中，以提高出光效率。間隔墻8能夠控制基板1和陽極3之間的間距，從而在制作散射層2時，位于間隔墻8圍成的中間區域內的散射層2的厚度能夠以間隔墻8的厚度為標準，因而能夠通過控制間隔墻8的高度來控制內部散射層2的厚度，以提高散射層2的致密性與膜厚均一性，從而可以提高散射層的散射效率，最終可以加強出光效率，提高發光性能。

需要說明，圖1的有機功能層4一般為空穴傳輸層，其由由親水性材料制成，例如聚(3,4-乙烯二氧噻吩)-聚苯乙烯磺酸(PEDOT:PSS)水溶液等。

本發明還提供一種OLED顯示面板的制造方法，包括以下步驟：在基板1上制備間隔墻8；將制備好的散射液注入到間隔墻8圍成的區域內；在間隔墻8上制備陽極3；和烘干散射液以制備散射層2，并且在陽極3上依次制備有機功能層4、發光層5、陰極6和蓋板7。間隔墻8能夠控制基板1和陽極3之間的間距，從而在制作散射層2時，位于間隔墻8圍成的中間區域內的散射層2的厚度能夠以間隔墻8的厚度為標準，因而能夠通過控制間隔墻8的高度來控制內部散射層2的厚度，以提高散射層2的致密性與膜厚均一性，從而可以提高散射層的散射效率，最終可以加強出光效率，提高發光性能。

具體地，請參照圖2a，在本發明的一個實施例中，間隔墻8的數量為兩個，該兩個間隔墻8相對設置，如圖2a所示，在制作根據本發明的OLED顯示面板時，首先會在基板1上制備間隔墻8，間隔墻8的材質為銅、銀等金屬，優選采用蒸鍍的方法制成，間隔墻8的厚度優選為100至1000nm。如圖2b所示，將制備好的散射液注入到間隔墻8之間的區域，其中，散射液中具有二氧化鈦，氧化鋅等折射率大于1.9的金屬氧化物材料、一般的有機溶劑，如乙醇，異丙醇，正丁醇等，散射液的濃度為30％～60％，并且為了提高散射顆粒的分散性，可適當加入分散劑乙酰丙酮等。散射層2厚度優選為300nm至1500nm。此外，還可以采用噴涂法將散射液噴涂到間隔墻8之間的區域，如上所述，間隔墻8能夠通過其高度來控制散射層2的厚度，以提高散射層2的致密性與膜厚均一性，從而可以提高散射層的散射效率，最終可以加強出光效率，提高發光性能。如圖2c所示，當散射層2制成后，會在散射層2上制備陽極3，陽極采用ITO等常用的電極材料，也可選用Au、Ag等。接著，會烘干散射液以形成散射層2，然后會依次制備有機功能層4、發光層5和陰極6等。

參照圖3a，在本發明的一個實施例中，間隔墻8的數量為四個，該四個間隔墻8圍成一封閉區域。如圖3a所示，在制作根據本發明的OLED顯示面板時，首先會在基板1上制備間隔墻8，間隔墻8的材質為銅、銀等金屬，優選采用蒸鍍的方法制成，間隔墻8的厚度優選為100至1000nm。如圖3b所示，將制備好的散射液注入到間隔墻8之間的封閉區域，其中，散射液中具有二氧化鈦，氧化鋅等折射率大于1.9的金屬氧化物材料、一般的有機溶劑，如乙醇，異丙醇，正丁醇等，散射液的濃度為30％～60％，并且為了提高散射顆粒的分散性，可適當加入分散劑乙酰丙酮等。散射層2厚度優選為300nm至1500nm。此外，還可以采用噴涂法將散射液噴涂到間隔墻8之間的區域，間隔墻8能夠通過其高度來控制散射層2的厚度，以提高散射層2的致密性與膜厚均一性，從而可以提高散射層的散射效率，最終可以加強出光效率，提高發光性能，并且四個間隔墻8圍成的封閉區域能夠限制散射液的流動，進一步確保散射層2的相關特性，如膜厚等。如圖3c所示，當散射層2制成后，會在散射層2上制備陽極3，陽極采用ITO等常用的電極材料，也可選用Au、Ag等。接著，會烘干散射液以形成散射層2，然后會依次制備有機功能層4、發光層5和陰極6等。

以上所揭露的僅為本發明較佳實施例而已，當然不能以此來限定本發明之權利范圍，本領域普通技術人員可以理解實現上述實施例的全部或部分流程，并依本發明權利要求所作的等同變化，仍屬于發明所涵蓋的范圍。