多層線路結構的制作方法

本發明涉及一種多層線路結構，且特別是涉及一種差動傳輸線路結構。

背景技術：

隨著科技的進步，信號傳輸速率需求大增。目前，常通過高速差動傳輸技術來傳輸高速信號。所謂差動輸送，是指使用兩根傳輸線使電流在兩者逆向流動，并通過傳輸線間的電位差進行傳輸的方法，其具有抗干擾能力強的優點。

圖1是現有的一種多層線路結構的局部示意圖。圖2是圖1的多層線路結構的局部俯視示意圖。需說明的是，為了圖面的簡潔，圖1僅簡單繪是出局部與差動傳輸相關的線路，而省略了不同平面的線路之間的介電層或是其他線路。并且，由于上述與差動傳輸相關的線路位于不同平面，在圖2的俯視圖中特意將位于較下方平面的線路以虛線表示，以區別不同平面的線路。

請參閱圖1與圖2，現有的多層線路結構10包括兩差動傳輸線對11a、11b、兩差動接墊對18a、18b及兩導通孔19、20。兩差動傳輸線對11a、11b位于不同平面且通過差動接墊18a、18b與導通孔19、20彼此電連接。

如圖1與圖2所示，差動傳輸線對11a包括并排的第一傳輸線12a以及第二傳輸線15a，其中第一傳輸線12a包括相連的第一部分13a及第二部分14a，第二傳輸線15a包括相連的第一部分16a及第二部分17a。差動傳輸線對11b包括并排的第一傳輸線12b以及第二傳輸線15b，其中第一傳輸線12b包括相連的第一部分13b及第二部分14b，第二傳輸線15b包括相連的第一部分16b及第二部分17b。

由于線路與通孔制作工藝的最小間距差異限制，在差動傳輸線對11a中，兩第一部分13a、16a之間的間距s1存在變化，兩第二部分14a、17a之間的間距s2固定，而形成例如是y形線路(y-junction)的布局。在差動傳輸線對11b中，兩第一部分13b、16b之間的間距s3存在變化，兩第二部分14b、17b之間的間距s4固定，而形成例如是y形線路(y-junction)的布局。兩導通孔19、20之間的最小距離d一般來說會不同于(例如是大于)差動傳輸線對11a的第一傳輸線12a的第二部分14a與第二傳輸線15a的第二部分17a之間的最小間距s2，兩導通孔19、20之間的最小間隔距離d一般來說會不同于(例如是大于)差動傳輸線對11b的第一傳輸線12b的第二部分14b與第二傳輸線15b的第二部分17b之間的最小間距s4。然而，兩第一傳輸線12a與第二傳輸線15a之間及第一傳輸線12b以及第二傳輸線15b之間分別存在間距變化的區段s1、s3，而使得阻抗會隨著間距的不同而改變，導致信號傳輸損耗增加，而使信號傳輸品質下降。

技術實現要素：

本發明的目的在于提供一種多層線路結構，其具有較佳的阻抗匹配。

為達上述目的，本發明的一種多層線路結構，包括差動傳輸線對及至少一導電圖樣。此差動傳輸線對包括并排的第一傳輸線以及第二傳輸線，其中第一傳輸線以及第二傳輸線分別包括相連的第一部分及第二部分，第一傳輸線的第一部分與第二傳輸線的第一部分的間距存在變化，第一傳輸線的第二部分與第二傳輸線的第二部分的間距固定，第一區位于第一傳輸線的該第一部分與第二傳輸線的第一部分之間，第二區與第一區相對且位于第一傳輸線的第一部分的一側，第三區與第一區相對且位于第二傳輸線的第一部分的一側。導電圖樣與此差動傳輸線對共平面且位于第一區、第二區及第三區的至少其中之一，導電圖樣電連接于參考電位且與此差動傳輸線對電性絕緣。

基于上述，在本發明的多層線路結構的差動傳輸線對中，第一傳輸線的第一部分與第二傳輸線的第一部分的間距存在變化，將第一傳輸線的第一部分與第二傳輸線的第一部分之間劃分為第一區，與第一區相對且位于第一傳輸線的第一部分的一側的區域劃分為第二區，與第一區相對且位于第二傳輸線的第一部分的一側的區域劃分為第三區，通過位于差動傳輸線對的第一區、第二區及第三區的至少其中之一配置導電圖樣，而且導電圖樣電連接于參考電位且與此差動傳輸線對電性絕緣，而改善此差動傳輸線對在具有間距變化處的阻抗控制，達到減少阻抗不連續點、降低高頻信號反射、及提高信號完整性的效果。

為讓本發明的上述特征和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，并配合所附附圖作詳細說明如下。

附圖說明

圖1是現有的一種多層線路結構的局部示意圖；

圖2是圖1的多層線路結構的局部俯視示意圖；

圖3是依照本發明的一實施例的一種多層線路結構的局部示意圖；

圖4是圖3的多層線路結構的局部俯視示意圖；

圖5與圖7分別是其中兩種現有的多層線路結構與本發明的多層線路結構的頻率-差動反射損耗(sdd11)與頻率-差動傳輸損耗(sdd12)的示意圖；

圖6與圖8分別是其中兩種現有的多層線路結構與本發明的多層線路結構的時間-特性阻抗的示意圖；

圖9至圖12分別是依照本發明的其他實施例的多種多層線路結構的局部俯視示意圖；

圖13、圖14與圖15是本發明的三實施例的局部剖面示意圖。

符號說明

d：距離

s1、s2、s3、s4：間距

10：現有的多層線路結構

11a、11b：差動傳輸線對

12a、12b：第一傳輸線

13a、13b：第一部分

14a、14b：第二部分

15a、15b：第二傳輸線

16a、16b：第一部分

17a、17b：第二部分

18a、18b：差動接墊對

19、20：導通孔

20a、20b：第一區

22a、22b：第二區

24a、24b：第三區

100：多層線路結構

102a、102b、102e、102f：差動傳輸線對

104a、104b、104e、104f：第一傳輸線

105a、105b、105e、105f：第一部分

106a、106b：第二部分

110a、110b、110e、110f：第二傳輸線

112a、112b、112e、112f：第一部分

114a、114b：第二部分

120、122：參考平面

124、126：平面

130a、130b、130c、130g：導電圖樣

140a、140b：第一差動接墊

141a、141b：第二差動接墊

150a、150b：盲孔

150c：埋孔

150d：貫通孔

170、180：導通孔

具體實施方式

圖3是依照本發明的一實施例的一種多層線路結構的局部示意圖。需說明的是，為了圖面的簡潔，圖3僅簡單繪是出局部與差動傳輸線路與參考平面，而省略了不同平面的線路之間的介電層或是其他線路。請參閱圖3，本實施例的多層線路結構100包括兩組差動傳輸線對102a、102b、兩個第一差動接墊140a、140b、兩個第二差動接墊141a、141b、兩個導通孔170、180、兩組導電圖樣130a、130b、兩個盲孔150a、150b。

更明確地說，其中一差動傳輸線對102a、其中一個第一差動接墊140a、其中一個第二差動接墊141a與其中一組導電圖樣130a位于其中一個線路層(例如是圖3中位于較上方的平面124)，另一差動傳輸線對102b、另一第一差動接墊140b、其中一個第二差動接墊141b與另一組導電圖樣130b位于另一線路層(例如是圖3中位于較下方的平面126)。

位于上方的差動傳輸線對102a包括并排的第一傳輸線104a以及第二傳輸線110a，第一傳輸線104a包括相連的第一部分105a及第二部分106a，且第二傳輸線110a包括相連的第一部分112a及第二部分114a。第一傳輸線104a的第一部分105a與第二傳輸線110a的第一部分112a的間距s1存在變化。位于下方的差動傳輸線對102b包括并排的第一傳輸線104b以及第二傳輸線110b，第一傳輸線104b包括相連的第一部分105b及第二部分106b，且第二傳輸線110b包括相連的第一部分112b及第二部分114b。第一傳輸線104b的第一部分105b與第二傳輸線110b的第一部分112b的間距s3存在變化。

更明確地說，在本實施例中，第一傳輸線104a的第一部分105a與第二傳輸線110a的第一部分112a的間距s1隨著遠離第一傳輸線104a的第二部分106a與第二傳輸線110a的第二部分114a而增加，第一傳輸線104b的第一部分105b與第二傳輸線110b的第一部分112b的間距s3隨著遠離第一傳輸線104b的第二部分106b與第二傳輸線110b的第二部分114b而增加。此外，第一傳輸線104a的第二部分106a與第二傳輸線110a的第二部分114a的間距s2固定，第一傳輸線104b的第二部分106b與第二傳輸線110b的第二部分114b的間距s4固定。

第一差動接墊140a、第二差動接墊141a分別連接于與其相同平面的第一傳輸線104a的第一部分105a以及第二傳輸線110a的第一部分112a。第一差動接墊140b、第二差動接墊141b分別連接于與其相同平面的第一傳輸線104b的第一部分105b以及第二傳輸線110b的第一部分112b。位于不同平面的第一差動接墊140a、140b之間通過導通孔170電連接。位于不同平面的第二差動接墊141a、141b之間通過導通孔180電連接。

由于差動傳輸線對102a、102b與導通孔170、180的制作工藝差異限制，兩導通孔170、180之間的最小間距會不同于第一傳輸線104a的第二部分106a及第二傳輸線110a第二部分114a之間的最小間距s2及第一傳輸線104b第二部分106b及第二傳輸線110b第二部分114b之間的最小間距s4。在本實施例中，第一傳輸線104a的第一部分105a與第二傳輸線110a的第一部分112a之間的間距s1隨著遠離第一傳輸線104a的第二部分106a與第二傳輸線110a的第二部分114a而增加，且第一差動接墊140a與第二差動接墊141a之間的距離d大于第一傳輸線104a的第二部分106a與第二傳輸線110a的第二部分114a之間的間距s2，使得第一傳輸線104a與第二傳輸線110a呈現出y形的線路結構。第一傳輸線104a的第一部分105a以及第二傳輸線110a的第一部分112a的間距s1具有變化而使得差動傳輸線的阻抗改變而產生阻抗不匹配的問題。

同樣地，第一傳輸線104b的第一部分105b與第二傳輸線110b的第一部分112b的間距s3隨著遠離第一傳輸線104b的第二部分106b與第二傳輸線110b的第二部分114b而增加，且第一差動接墊140b與第二差動接墊141b之間的間隔距離大于第一傳輸線104b的第二部分106b以及第二傳輸線110b的第二部分114b之間的間距s4，使得第一傳輸線104b與第二傳輸線110b呈現出y形的線路結構。第一傳輸線104b的第一部分105b以及第二傳輸線110b的第一部分112b的間距s3具有變化而使得差動傳輸線的阻抗改變而產生阻抗不匹配的問題。

本實施例的多層線路結構100特意在第一傳輸線104a的第一部分105a與第二傳輸線110a的第一部分112a旁配置導電圖樣130a，第一傳輸線104b的第一部分105b與第二傳輸線110b的第一部分112b旁配置導電圖樣130b，以解決上述阻抗不匹配的問題。需說明的是，第一傳輸線104a、104b的第一部分105a、105b分別與第二傳輸線110a、110b的第一部分112a、112b的間距s1、s3變化的形式并不以上述為限制，在其他實施例中，也有可能是第一差動接墊140a與第二差動接墊141a之間的距離d小于所連接的第一傳輸線104a的第二部分106a與第二傳輸線110a的第二部分114a之間的間距s2。第一差動接墊140b與第二差動接墊141b之間的距離小于所連接的第一傳輸線104b的第二部分106b與第二傳輸線110b的第二部分114b之間的間距s4，且第一傳輸線104a、104b的第一部分105a、105b與第二傳輸線110a、110b的第一部分112a、112b的間距s1、s3隨著遠離第一傳輸線104a、104b的第二部分106a、106b與第二傳輸線110a、110b的第二部分114a、114b而減少，此配置同樣也會產生阻抗不匹配的問題。

在本實施例中，第一區20a位于第一傳輸線104a的第一部分105a與第二傳輸線110a的第一部分112a之間，導電圖樣130a位于與其共平面的差動傳輸線對102a的第一區20a，且與此差動傳輸線對102a電性絕緣。由于兩第一部分105a、112a接近于v形，導電圖樣130a的輪廓對應于兩第一部分105a、112a的輪廓，而呈現出接近三角形的形狀，且導電圖樣130a的輪廓在靠近第一差動接墊140a、141a處也對應地呈現弧形輪廓，使得導電圖樣130a分別與第一傳輸線104a的第一部分105a、第二傳輸線110a的第一部分112a、第一差動接墊140a、第二差動接墊141a之間保持相同的間距。第一區20b位于第一傳輸線104b的第一部分105b與第二傳輸線110b的第一部分112b之間，導電圖樣130b位于與其共平面的差動傳輸線對102b的第一區20b，且與此差動傳輸線對102b絕緣。由于兩第一部分105b、112b接近于v形，導電圖樣130b的輪廓對應于兩第一部分105b、112b的輪廓，而呈現出接近三角形的形狀，且導電圖樣130b的輪廓在靠近第一差動接墊140b、141b處也對應地呈現弧形輪廓，使得導電圖樣130b分別與第一傳輸線104b的第一部分105b、第二傳輸線110b的第一部分112b、第一差動接墊140b、第二差動接墊141b之間保持相同的間距。

在本實施例中，多層線路結構100還包含至少一參考平面120、122(以虛線平面表示)，參考平面120、122具有參考電位。更明確地說，多層線路結構100包括了兩個參考平面120、122，位于不同平面的兩導電圖樣130a、130b分別通過兩盲孔150a、150b電連接于兩參考平面120、122(參考電位)。參考平面120、122可以是接地面或是接到特定電壓的平面。在本實施例中，兩參考平面120、122分別是位于上下兩差動傳輸線對102a、102b所在平面124、126之間，但參考平面120、122與上下兩差動傳輸線對102a、102b分別所在平面124、126的相對位置并不以此為限制。只要是其中一個參考平面120或122位于差動傳輸線對102a所在平面124的上方或下方或是位于差動傳輸線對102b所在平面126的上方或下方即可。在其他實施例中，多層線路結構100也可以只有一個參考平面120或122，分別位于平面124和126的兩導電圖樣130a、130b也可以電連接于同一個參考平面120或122。

圖4是圖3的多層線路結構的局部俯視示意圖。需說明的是，由于上述兩差動傳輸線路102a、102b分別位于平面124、126，在圖4的俯視圖中特意將位于較下方平面的線路以虛線表示，以區別不同平面的線路。由圖4可看出，在本實施例中，兩組導電圖樣130a、130b在差動傳輸線對102a所在的平面124(標示于圖3)上的投影不重疊，且對稱于位于此平面124上的第一差動接墊140a與第二差動接墊141a的連線。在圖4中，兩組導電圖樣130a、130b的總輪廓會呈現出接近于正方形的形狀，且在靠近第一差動接墊140a與第二差動接墊141a處呈對應的弧形。由圖4可知，導電圖樣130a分別與與第一傳輸線104a的第一部分105a以及第二傳輸線110a的第一部分112a之間的間距固定，且導電圖樣130b分別與第一傳輸線104b的第一部分105b以及第二傳輸線110b的第一部分112b之間的間距固定，用于分別調整間距具有變化的第一傳輸線104a的第一部分105a與第二傳輸線110a的第一部分112a以及第一傳輸線104b的第一部分105b與第二傳輸線110b的第一部分112b之間的阻抗匹配狀態。

圖5與圖7分別是其中兩種現有的多層線路結構10與如圖3、圖4所示的多層線路結構100的頻率-差動反射損耗(sdd11)及頻率-差動傳輸損耗(sdd12)的示意圖。圖6與圖8分別是其中兩種現有的多層線路結構10與如圖3、圖4所示的多層線路結構100的時間-特性阻抗的示意圖。需說明的是，在圖5至圖8中，現有的多層線路結構10的模擬曲線以細虛線表示，如圖3、圖4所示的多層線路結構100的模擬曲線以粗實線表示。

現有的多層線路結構10以圖1與圖2的多層線路結構為例，若第一差動接墊140a與第二差動接墊140b之間的距離d(標示于由圖2)以50密耳(mil)、差動傳輸線的線寬4mil、線的間距s28mil為例，由圖5可看到，在頻率f＝36ghz時，現有的多層線路結構10的反射損耗(sdd11)約為-16.8(增益db)，如圖3、圖4所示的多層線路結構100的反射損耗(sdd11)約為-24(增益db)。由圖6可看到，現有的多層線路結構10的特性阻抗約為107歐姆，本實施例的多層線路結構100的特性阻抗約為99歐姆。

另外，若第一差動接墊140a與第二差動接墊140b之間的距離d以80密耳(mil)、差動傳輸線的線寬4mil、線的間距s48mil為例，由圖7可看到，在頻率f＝20ghz時，現有的多層線路結構10的反射損耗(sdd11)約為-17(增益db)，如圖3、圖4所示的多層線路結構100的反射損耗(sdd11)約為-24(增益db)。由圖8可看到，現有的多層線路結構10的特性阻抗約為111歐姆，本實施例的多層線路結構100的特性阻抗約為100.9歐姆。

根據圖5至圖8的模擬結果可知，相較于現有的多層線路結構10，本實施例的多層線路結構100中，差動傳輸線102a通過導電圖樣130a來調整控制第一傳輸線104a的第一部分105a與第二傳輸線110a的第一部分112a之間的阻抗；差動傳輸線102b通過導電圖樣130b來調整控制第一傳輸線104b的第一部分105b與第二傳輸線110b的第一部分112b之間的阻抗，而使得差動反射損耗和阻抗被有效地降低。

當然，導電圖樣130a、130b的配置位置與形式并不以上述為限制。圖9至圖12分別是依照本發明的其他實施例的多種多層線路結構的局部俯視示意圖。需說明的是，在下面的附圖中與前一實施例相同或是相似的元件以相同或相似的符號表示，不再多加贅述。

請先參閱圖9，在本實施例中，第一傳輸線104a的第一部分105a的外側具有一第二區22a，第二傳輸線110a的第一部分112a的外側具有一第三區24a，第二區22a與第一區20a(標示于圖4)相對且位于第一傳輸線104a的第一部分105a的一側，第三區24a與第一區20a(標示于圖4)相對且位于第二傳輸線110a的第一部分112a的一側。在多層線路結構中，在與差動傳輸線對102a相同平面124(標示于圖3)上具有兩個導電圖樣130c，此兩個導電圖樣130c分別位于第二區22a與第三區24a。

同樣地，第一傳輸線104b的第一部分105b的外側具有第二區22b，第二傳輸線110b的第一部分112b的外側具有第三區24b，第二區22b與第一區20b(標示于圖4)相對且位于第一傳輸線104b的第一部分105b的一側，第三區24b與第一區20b(標示于圖4)相對且位于第二傳輸線110b的第一部分112b的一側。多層線路結構中，在與差動傳輸線對102b相同平面126(標示于圖3)上具有兩個導電圖樣130d，此兩個導電圖樣130d分別位于第二區22b與第三區24b。

請參閱圖10，在本實施例中，多層線路結構中，在與差動傳輸線對102a相同平面124(標示于圖3)上具有三個導電圖樣130a、130c，其中一個導電圖樣130a位于第一區20a(與圖4所述的位置相同)中。另外兩個導電圖樣130c位于第二區22a與第三區24a(與圖9所述的位置相同)中。同樣地，這些導電圖樣130a、130c的輪廓對應于第一傳輸線104a的第一部分105a與第二傳輸線110a的第一部分112a的輪廓，且與第一傳輸線104a的第一部分105a與第二傳輸線110a的第一部分112a保持相同的間距。

同樣地，多層線路結構中，在與差動傳輸線對102b相同平面126上具有三個導電圖樣130b、130d，其中一個導電圖樣130b位于與圖4相同的位置，也就是位于第一區20b。另外兩個導電圖樣130d，位于與圖9相同的位置，也就是位于第二區22b與第三區24b。同樣地，這些導電圖樣130b、130d的輪廓對應于第一傳輸線104b的第一部分105b與第二傳輸線110b的第一部分112b的輪廓，且與第一傳輸線104b的第一部分105b與第二傳輸線110b的第一部分112b保持相同的間距。

請參閱圖11，圖11與圖10的主要差異在于，在本實施例中，第一傳輸線104e的第一部分105e與第二傳輸線110e的第一部分112e的間距s1隨著遠離第一傳輸線104e的第二部分106a與第二傳輸線110e的第二部分114a而減少。在圖11中，與差動傳輸線對102e相同的平面124(標示于圖3)上也具有三個導電圖樣130a、130c，導電圖樣130a位于第一區20a，上下兩導電圖樣130c分別位于第二區22a與第三區24a。同樣地，這些導電圖樣130a、130c的輪廓對應于第一傳輸線104e的第一部分105e與第二傳輸線110e的第一部分112e的輪廓，且導電圖樣130a與第一傳輸線104e的第一部分105e、第二傳輸線110e的第一部分112e、第一差動接墊140a及第二差動接墊141a保持相同的間距，而上方的導電圖樣130c與第一傳輸線104e的第一部分105e維持一固定的間距，而下方的導電圖樣130c與第二傳輸線110e的第一部分112e維持一固定的間距。

同樣地，第一傳輸線104f的第一部分105f與第二傳輸線110f的第一部分112f的間距s3隨著遠離第一傳輸線104f的第二部分106b與第二傳輸線110f的第二部分114b而減少。在圖11中，與差動傳輸線對102f相同的平面上也具有三個導電圖樣130b、130d，導電圖樣130b位于第一區20b，上下兩導電圖樣130d分別位于第二區22b與第三區24b。這些導電圖樣130b、130d的輪廓對應于第一傳輸線104f的第一部分105f與第二傳輸線110f的第一部分112f的輪廓，且導電圖樣130b與第一傳輸線104f的第一部分105f、第二傳輸線110f的第一部分112f、第一差動接墊140a及第二差動接墊141a保持相同的間距。而上下兩導電圖樣130d分別與第一傳輸線104f的第一部分105f及第二傳輸線110f的第一部分112f之間維持固定的間距。

請參閱圖12，圖12的第一傳輸線104a與第二傳輸線110a的形式相同于圖10的第一傳輸線104a與第二傳輸線110a的形式。圖12與圖10的差異在于，在本實施例中，導電圖樣130g包圍了第一傳輸線104a的外側、第二傳輸線110a的外側、第一差動接墊140a、第二差動接墊141a并位于第一傳輸線104a的第一部分105a與第二傳輸線110a的第一部分112a之間的部位。更明確地說，導電圖樣130g位于第一傳輸線104a且遠離于第二傳輸線110a的一側、第二傳輸線110a且遠離于第一傳輸線104a的一側、繞過第一差動接墊140a、第二差動接墊141a且延伸至圖12的右半部，并伸入第一傳輸線104a的第一部分105a與第二傳輸線110a的第一部分112a之間。并且，導電圖樣130g與第一傳輸線104a、第二傳輸線110a、第一差動接墊140a及第二差動接墊141a電性絕緣。在本實施例中，導電圖樣130g分別與第一傳輸線104a的第一部分105a、第二傳輸線110a的第一部分112a、第一差動接墊140a及第二差動接墊141a維持固定的間距。

另外，值得一提的是，導電圖樣130a、130b、130c、130d、130g與第一差動接墊140a、140b、第二差動接墊141a、141b在多層線路結構100上的位置可以是在表面或是內層。下面以導電圖樣130a與第一差動接墊140a為例，但也可應用于導電圖樣130b、130c、130d、130g與第一差動接墊140b、第二差動接墊141a、141b。

圖13、圖14與圖15是本發明的三實施例的局部剖面示意圖。請參閱圖13，在本實施例中，導電圖樣130a可以是位于多層線路結構100的表面的微帶線(mircostrip)線路，通過盲孔(blindvia)150a電連接到位于內部的參考平面122。或者，如圖14所示，在本實施例中，導電圖樣130a也可以是位于多層線路結構100內部的帶狀線(stripline)線路，通過埋孔(buriedvia)150c電連接到位于內層的導電圖樣130a的下方(或上方)的參考平面122。或者，如圖15所示，在本實施例中，導電圖案130a也可以是微帶線(mircostrip)線路，通過貫通孔(platedthroughvia)150d電連接到參考平面122。

綜上所述，在本發明的多層線路結構的差動傳輸線對中，第一傳輸線的第一部分與第二傳輸線的第一部分的間距存在變化，將第一傳輸線的第一部分與第二傳輸線的第一部分之間劃分為第一區，與第一區相對且位于第一傳輸線的第一部分的一側的區域劃分為第二區，與第一區相對且位于第二傳輸線的第一部分的一側的區域劃分為第三區，通過位于差動傳輸線對的第一區、第二區及第三區的至少其中之一配置導電圖樣，而且導電圖樣電連接于參考平面且與此差動傳輸線對電性絕緣，而改善此差動傳輸線對段在具有間距變化處的阻抗控制，達到減少阻抗不連續點、降低高頻信號反射、及提高信號完整性的效果。

雖然結合以上實施例揭露了本發明，然而其并非用以限定本發明，任何所屬技術領域中熟悉此技術者，在不脫離本發明的精神和范圍內，可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護范圍應以附上的權利要求所界定的為準。