一種防指紋殼體的制作方法
【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及具有防指紋功能的殼體。
【背景技術】
[0002] 手機、電腦等電子設備在日常使用中，用戶手指接觸后會殘留指紋痕跡，同時還有 外界的污物，如灰塵等也容易掉落到產品外殼上，影響表面的清潔度，如何簡單的去除和防 止這些污物越來越受人們關注。防指紋膜是一種同時具有疏水性和疏油性的薄膜，不易粘 附外界的灰塵及污物，且即使被灰塵、指紋等污染也較易去除。
[0003] 但通常情況下，防指紋膜與基才之間的附著力普遍較差，容易從基材表面剝離，影 響使用效果及使用壽命。 【實用新型內容】
[0004] 為解決防指紋層在基材上易磨損、易脫離的問題，本實用新型的提供了一種防指 紋殼體，可以使防指紋層在殼體基材上形成良好附著。
[0005] 本實用新型提供一種防指紋殼體，所述防指紋殼體包含殼體基材，殼體基材上依 次設置有氧化鋁層，SiO2緩沖層和防指紋層，所述殼體基材為鋁或鋁合金。所述防指紋層為 疏水性和疏油性的含氟高分子聚合物。這種防指紋殼體具有良好的防指紋能力，同時殼體 基材上的防指紋膜附著緊密，不易發生脫落。
[0006] 如本實用新型的一個實施例，所述氧化鋁層的厚度為15~25nm。氧化鋁層的厚度 應控制在一定的范圍內，厚度過高則容易發生爆膜，同時影響膜層色澤；厚度過低則影響與 其他膜層的附著效果。
[0007] 如本實用新型的一個實施例，所述Si02緩沖層厚度為15~30nm。
[0008] 如本實用新型的一個實施例，所述防指紋層厚度為8~15nm。
[0009] 如本實用新型的一個實施例，所述氧化鋁層中還包含有第一過渡層，所述第一過 渡層含有Al2O3和SiO2。
[0010] 如本實用新型的一個實施例，所述SiOgl沖層與防指紋層之間有第二過渡層，所 述第二過渡層含有Si、F和0元素。
[0011] 有本實用新型獲得的防指紋殼體具有良好的防指紋特性，防指紋膜與殼體之間連 接緊密，不易脫落，同時，其耐劃傷性能有一定程度的提高。
【附圖說明】
[0012] 圖1為本實用新型殼體一個實施例的層次結構示意圖；
[0013] 其中：10 殼體基材；11 氧化錯層；12 3;10 2緩沖層；13 防指紋層。
【具體實施方式】
[0014] 為了使本實用新型所解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚明白，以下 結合附圖及實施例，對本實用新型作進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例 僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。
[0015] 如圖1 :其是顯示本實用新型防指紋殼體的結構示意圖。該防指紋殼體依次包括 殼體基材10,氧化鋁層ll，Si02緩沖層12以及防指紋層13。其中，殼體基材10選自鋁，鋁 合金中的一種。氧化鋁層11直接附著在殼體基材上，可以有效改善強殼體基材10與SiO2緩沖層12的結合力。為了進一步確保防指紋層在殼體基材10上的附著效果，氧化鋁層11 厚度在15~25nm之間時能充分發揮在殼體基材10與SiO2緩沖層12與防指紋層13之間的 介質連接作用；SiO2緩沖層12厚度為15~30nm，膜層制作過程中，磁控濺射SiO2緩沖層時其 中部分SiO2會進入氧化鋁層內部，與氧化鋁中的Al 203混合形成第一過渡層，第一過渡層中 具有Al2O3和SiO2形成的物理滲透結合結構，可以進一步增強防指紋膜層間的結合力。同 時，SiOgl沖層中的部分SiO2會與防指紋層13中的部分F元素結合，形成含有Si-F復合 結構的第二過渡層。最外的防指紋層13厚度在8~15nm之間為最佳，太厚影響殼體色澤，太 薄則防指紋效果欠佳。
[0016] 防指紋殼體的制備工藝：通過采用磁控濺射鍍膜與蒸發鍍膜相結合，在真空度為 8X10 3Pa~5X10 3Pa 情況下，通入 Ar 和 02，Ar 流量為 300~600sccm ;02流量為 200~400sccm。 先打開鋁靶，功率為9KW，鍍膜15~30min后，關閉鋁鈀，獲得氧化鋁層11 ;之后，調整氧氣流 量，打開硅靶，功率在3~5KW之間，鍍膜30~45min后，關閉硅靶，獲得SiO2緩沖層12 ;關閉氣 流，打開蒸發鍍電源，在三個不同的電壓檔位下鍍防指紋層13,所述電壓檔位為第一檔電壓 為10~30V，第二檔電壓為30~35V，第三檔電壓為35~45V。關閉蒸發鍍電源，鍍膜完畢，爐內 冷卻后即可得所需產品。
[0017] 在本實用新型中，除非另有明確的規定和限定，術語"設置"、"連接"、"相連"等應 做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機械連接，也 可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內部的連 通或兩個元件的相互作用關系。對于本領域的普通技術人員而言，可以根據具體情況理解 上述術語在本發明中的具體含義。
[0018] 實施例1
[0019] 樣品基材為壓鑄鋁合金；膜層從內至外依次為氧化鋁層、SiO2緩沖層和防指紋層。
[0020] 制作方法：采用真空鍍膜機(型號SP-1912ASI-XH)設備，在6X 10 3Pa真空條件下 通入Ar和O2，打開鋁鈀，在9KW的功率下鍍膜20min后關閉鋁鈀，獲得氧化鋁層。調整02流 量，打開硅鈀，在3KW的功率下鍍膜40min后關閉硅鈀，即獲得SiOgl沖層。
[0021 ] 關閉氣體，在I. 0 X 10 2Pa的真空條件下打開蒸發鍍裝置，在28V電壓下蒸鍍2min， 33V下蒸鍍2min，38V下蒸鍍6min，即可得防指紋層。關閉蒸發鍍電壓，鍍膜完成。爐內冷 卻5min后，獲得樣品A1。
[0022] 對比例1
[0023] 樣品基材為壓鑄鋁合金；膜層從內至外依次為SiO2和防指紋層。
[0024] 制作方法：采用真空鍍膜機(型號SP-1912ASI-XH)設備，在6X 10 3Pa真空條件下 通入Ar和O2，打開硅鈀，在3KW的功率下鍍膜40min后關閉硅鈀，即獲得SiOgl沖層。
[0025] 關閉氣體，在1.0 X 10-2的真空條件下打開蒸發鍍裝置，在28V電壓下蒸鍍2min， 33V下蒸鍍2min，38V下蒸鍍6min，即可得防指紋層。關閉蒸發鍍電壓，鍍膜完成。爐內冷 卻5min后，獲得樣品Dl。
[0026] 性能測試：
[0027] 測試樣品水接觸角，使用下述測試1中方法測試樣品水接觸角值，水接觸角測試 值越高，說明疏水性越好；通常要求初始值大于90°，則產品防指紋性合格，否則為不合 格。耐摩擦性能測試，用下述測試2中的方法樣品表面進行摩擦后，測試樣品表面的水接觸 角，水接觸角測試值變化越小，說明耐摩擦性能越好；通常變化值在20°以內為合格。
[0028] 測試1、水接觸角測試：采用東莞康迪電子CA07電子水滴接觸角量測儀，對上述制 備的樣品AU Dl進行測試。
[0029] 測試2、耐摩擦測試：使用韓國MINOAN耐磨橡皮擦，橡皮擦荷重為500g，對樣品 AUDI進行500次往返摩擦。摩擦后使用水滴接觸角量測儀對摩擦后樣品水接觸角進行測 試。
[0030] 測試結果見下表：
[0032] 根據上述的測試結果可以看出：按照本實用新型提供的技術方案獲得的防指紋殼 體具有優良的防指紋特性，同時，防止指紋膜層與殼體基材間還具有更好的附著力。
[0033] 以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本 實用新型的特征和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型 的保護范圍之內。
【主權項】
1. 一種防指紋殼體，其特征在于，所述殼體包含殼體基材，殼體基材上依次設置有氧化 鋁層，SiO 2緩沖層和防指紋層；所述殼體基材為鋁或鋁合金。2. 如權利要求1所述的防指紋殼體，其特征在于，所述氧化鋁層的厚度為15~25nm。3. 如權利要求1所述的防指紋殼體，其特征在于，所述SiOgl沖層為15~30nm。4. 如權利要求1所述的防指紋殼體，其特征在于，所述防指紋層厚度為8~15nm。5. 如權利要求1所述的防指紋殼體，其特征在于，所述氧化鋁層與SiO 2緩沖層之間有 第一過渡層。6. 如權利要求1所述的防指紋殼體，其特征在于，所述SiO 2緩沖層與防指紋層之間有 第二過渡層。
【專利摘要】為解決防指紋層在基材上易磨損、易脫離的問題，本實用新型提供了一種防指紋殼體，依次包括殼體基材，氧化鋁層，SiO2緩沖層和防指紋層，具有良好的防指紋效果，同時防指紋層與殼體基材間有良好的附著力，不易脫落。
【IPC分類】B32B9/04, B32B15/04
【公開號】CN204869869
【申請號】CN201520264386
【發明人】吳濤, 王繼厚, 陳梁
【申請人】比亞迪股份有限公司
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2015年4月28日