光學復合層結構的制作方法
【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及一種光學復合層結構，且特別涉及一種結合金屬及非金屬復合導 電層的光學復合層結構。
【背景技術】
[0002] 透明導電膜廣泛地被使用在太陽能板、液晶顯示器或電激發光(EL)顯示器等平面 顯示器或電子觸控輸入裝置的觸控面板的透明電極等電氣、電子領域。這些透明導電膜利 用有機透明塑料如乙烯對苯二甲酸酯(PET)等，于該透明膠片表面以物理鍍膜方式將無機 金屬氧化物如氧化銦錫（ΙΤ0)、氟摻雜氧化錫(FT0)或氧化銻錫(ΑΤ0)等，于膠片表面構成一 透明導電層。
[0003] 金屬氧化物鍍膜在面電阻抗上可以低于500 Ω/□，光學透光率也可以大于80%以 上。然而，目前金屬氧化物鍍膜的導電層具有易碎的缺點，所制作的透明導電膜不易彎曲， 若彎曲會使導電層斷裂發生電性斷路的不良情況，因此在加工的難度變高。特別是大尺寸 透明導電層，如氧化銦錫或其他金屬或金屬氧化濺鍍或蒸鍍而成透明導電層，其為求高穿 透率致使該導電層結構越來越薄，進而影響該導電層的阻抗提高或是對于壽命及環境的耐 候性劣化。相反地，對于鍍膜或是涂布方式制作的導電層在阻抗上若欲更降低，需要再增加 導電層的厚度，因此往往會犧牲掉導電膜的透光率，所以雖然現階段透明導電膜已廣泛使 用于相關產品的應用需求，但仍有改善的空間而須加以改良，例如如何提高導電膜的韌性， 又或如何在特定的阻抗下可以提高透光率。在應用上，如搭載于較大型的觸控面板的平板 電腦或桌上型顯示器，尺寸需求已逐漸大型化。因此配合觸控面板的大型化，則各圖案電 極的各配線加長的相對電阻也將提高，電性反應效率恐下降。因此，期望有表面電阻值更低 的透明導電膜結構外，再制作加工上更需要提升導電膜的韌性以利于良率的提升。
[0004] 于是，本發明人潛心研究并配合學理的運用，終于提出一種結合金屬及非金屬復 合導電層的光學復合層結構，且有效改善上述缺陷的本實用新型。 【實用新型內容】
[0005] 鑒于以上的問題，本實用新型的一目的為提供一種光學復合層結構，其具有良好 的透光性，足夠低的面電阻，且有良好的韌性。
[0006] 本實用新型提供一種光學復合層結構，其包括一基板、一無機金屬氧化物導電層 及一有機導電涂料層，無機金屬氧化物導電層設置于基板的一側。有機導電涂料層設置于 無機金屬氧化物導電層的一側，其中無機金屬氧化物導電層與有機導電涂料層的面電阻的 差異在50%以內。
[0007] 進一步地，所述光學復合層結構還包括一硬化層，所述硬化層設置于所述基板與 所述無機金屬氧化物導電層之間，其中所述硬化層為一亞克力層、一環氧樹脂層或一二氧 化娃層。
[0008] 進一步地，所述無機金屬氧化物導電層是一氧化銦錫層、一氟摻雜氧化錫層或一 氧化銻錫層。
[0009] 進一步地，所述無機金屬氧化物導電層的色坐標為a*〈0.5，b*>2。
[0010] 進一步地，所述無機金屬氧化物導電層的透光率為70%~95%。
[0011] 進一步地，所述無機金屬氧化物導電層的折射率為1.7~2.5。
[0012] 進一步地，所述有機導電涂料層為一聚二氧乙烯噻吩：聚苯乙烯磺酸復合物層或 納米碳管層。
[0013] 進一步地，所述有機導電涂料層的色坐標為a*〈0.5，b*〈-l。
[0014] 進一步地，所述有機導電涂料層的透光率是70%~90%。
[0015] 進一步地，所述有機導電涂料層的折射率為1.4~1.8。
[0016] 本實用新型在透明基材上形成一無機金屬氧化物導電層，并進一步涂布一有機導 電涂料層而成的透明導電層結構，無機金屬氧化物導電層和有機導電涂料層的阻抗差距在 50%以內，利用鍍膜方式形成的無機金屬氧化物導電層，可以有較好的反射率及一特定的 光澤色坐標，且有機導電涂料層有相對無機金屬氧化物導電層較低的光學折射率及一特定 的光澤色坐標，可用以改善透明導電膜的色澤及提升透光率。此外，有機導電涂料層進一步 亦可改善原無機金屬氧化物導電層易碎裂的問題，提升導電膜的韌性，使得壽命提升、耐候 性佳、進一步應用于觸控面板可以大型化及產品的多樣適用性。
[0017] 為使能更進一步了解本實用新型的特征及技術內容，請參閱以下有關本實用新型 的詳細說明與附圖，然而所附圖式僅提供參考與說明用，并非用來對本實用新型加以限制 者。
【附圖說明】
[0018] 圖1顯示本實用新型一實施例的光學復合層結構的剖視示意圖。
[0019] 圖2顯示本實用新型一實施例的光學復合層結構的剖視示意圖。
[0020]圖3顯示本實用新型一實施例的光學復合層結構的剖視示意圖。
[0021]【符號說明】
[0022] 100:光學復合層結構
[0023] 102:基板
[0024] 104:硬化層
[0025] 106:無機金屬氧化物導電層
[0026] 108:有機導電涂料層
[0027] 112:表面
[0028] 200:光學復合層結構
[0029] 202:基板
[0030] 204:硬化層
[0031] 206:第一無機金屬氧化物導電層
[0032] 208:有機導電涂料層
[0033] 210:第二無機金屬氧化物導電層
[0034] 212:第一表面
[0035] 300:光學復合層結構
[0036] 302:基板
[0037] 304:硬化層
[0038] 306:第一有機導電涂料層
[0039] 308:無機金屬氧化物導電層
[0040] 310:第二有機導電涂料層 [0041 ] 312:第一表面
【具體實施方式】
[0042]以下是通過特定的具體實例來說明本實用新型所披露有關"光學復合層結構"的 實施方式，以下的實施方式將進一步詳細說明本實用新型的相關技術內容，但所披露的內 容并非用以限制本實用新型的技術范疇。
[0043]〔第一實施例〕
[0044] 圖1顯示本實施例的光學復合層結構的剖視示意圖。請參照圖1，本實施例提供一 種光學復合層結構100,其包括一基板102、一硬化層104、一無機金屬氧化物導電層106、一 有機導電涂料層108。基板102包括一表面112,硬化層104在基板102的表面112側。無機金屬 氧化物導電層106在硬化層104的一側。有機導電涂料層108在無機金屬氧化物導電層106的 一側。
[0045] 基板102可以為一透明基板，其可以為一透光塑料或透光玻璃基板。在基板透光塑 料的范例中，透光塑料可以為乙烯對苯二甲酸酯(PET)、聚乙烯(PE)、聚亞酰胺(PI)、聚酰胺 (PA)、聚氨基甲酸酯(PU)或亞克力塑料等。基板102的厚度可以為ΙΟμπι~500μπι。如圖1所示， 硬化層104形成在表面112的該側。在一實施例中，硬化層104可以是一亞克力層、一環氧樹 脂層或二氧化娃層，或上述材料的組合。在一實施例中，硬化層104的厚度為500nm~50μηι， 在另一實施例中，硬化層104的厚度為Ιμπι~5μπι。硬化層104的折射率可以為1.1~2.5。硬 化層104的一目的為使得基板102更具挺性利于加工，并提供基板更佳的光學特性。
[0046] 更詳細來說，無機金屬氧化物導電層106形成于硬化層104與基板102接觸的相反 表面(亦即遠離基板102的硬化層104的一側），使得無機金屬氧化物導電層106和硬化層104 皆形成于基板102的表面112該側。在一實施例中，無機金屬氧化物導電層106為一氧化銦錫 層、一氟摻雜氧化錫層或一氧化銻錫層，其上述材料可經鍍膜技術形成于硬化層104上。在 一實施例中，無機金屬氧化物導電層106的厚度可以為10nm~500nm，在另一實施例中，無機 金屬氧化物導電層106的厚度優選為10nm~100nm。無機金屬氧化物導電層106的色坐標可 以為a*〈0.5,b*>2,無機金屬氧化物導電層106的透光率可以為70%~95%，折射率可以為 1.7~2.5。無機金屬氧化物導電層106可以有足夠低的面電阻，例如當其為氧化銦錫層，其 面電阻約為100 Ω/□，然而，無機金屬氧化物導電層106因為硬度較高，較容易產生脆裂。此 特性在將無機金屬氧化物導電層106圖案化制作成導電線路則相當不利，而容易產生斷線 或斷路的不良結果。
[0047] 有鑒于此缺點，本實用新型于無機金屬氧化物導電層106的一側形