一種柔光瓷磚的制作方法
【專利說明】
[0001]
技術領域： 本發明涉及一種瓷磚。
[0002]
【背景技術】： 目前市場上常規的柔光瓷磚是由一種透明的水晶粒子通過噴、撒、甩等工藝，使粒子自 然地附著在瓷磚表面，經過高溫燒制后，使產品表面上形成硬度為莫氏5-6級的保護層，使 產品耐磨性極佳、抗污力強，產品飾面閃閃生輝。
[0003] 現有的柔光瓷磚，又稱柔光雅面瓷磚，其制造工藝主要有以下幾種：一是通過噴釉 柜或甩釉柜以濕式方式把透明的水晶粒子均勻平鋪在陶瓷磚表面上，其優點是與坯體的結 合性好，缺點是干粒流動性差，易堵噴槍眼，生產不好控制，平整度較差，硬度較低；二是通 過淋釉柜以濕式方式把透明的水晶粒子均勻平鋪在陶瓷磚表面上，優點是燒制成的瓷磚平 整度較好，缺點是硬度較低，干粒流動性差，易沉淀，生產不好控制；三是把干粒制成花釉通 過絲網印花機以印花的方式印在磚面上，雖然，其優點是干粒分布均勻，硬度高，平整度較 好，但是，由于花釉是釉與水晶粒子混合而成的，受花釉自身的性質所決定，其缺點是網版 破損率大，成本高。
[0004] 現有的制造工藝存在不同的缺陷，導致柔光瓷磚的成品率較低，生成成本高，且硬 度較低以及平整度較差。
[0005]
【發明內容】
： 本發明的發明目的在于提供一種成品率較高，生成成本低，且硬度較高以及平整度較 好的柔光瓷磚。
[0006] 本發明柔光瓷磚是采用以下方法實現的，包括在坯體上布施面釉，在布施面釉后 通過絲網印花機印制特殊干粒釉，燒制成瓷磚后，經柔拋處理得到柔光效果陶瓷磚，其中干 粒釉包括重量份為100的水晶粒子、重量份為50-80的溶劑。由于先施面釉，再絲網印刷 干粒釉，而干粒釉采用溶劑的方式，使干粒釉既能均勻地布設在面釉上，同時，又不會損傷 絲網，印刷后，水晶粒子有效地滲入進面釉內，使最終產品硬度高，平整度較好。
[0007] 溶劑包括乙二醇和水。
[0008] 這里，絲網為70- 90目全通網，這樣，既能使干粒釉均勻地布設在面釉上，同時， 又不容易損傷絲網。
[0009] 水晶粒子的粒徑在250-325目之間。采用適當的粒度，既使干粒釉均勻地布設在 面釉上，同時，又不容易損傷絲網。
[0010] 為了使水晶粒子快速地滲入面釉，面釉包括成釉900-1100重量份、硅酸鋯90-110 重量份、增稠劑I. 1_1. 5重量份、二聚磷酸鈉1. 0-1. 3重量份、腐植酸鈉1_3重量份。
[0011] 釉漿細度為300g釉漿過325目篩后，篩余為0. 8~I. 6g。
[0012] 本發明與要研究生下部，由于采用先施面釉，再絲網印刷干粒釉，因此，具有成品 率較高，生成成本低，且硬度較高以及平整度較好的優點。
[0013]
【具體實施方式】： 現結合實施例對本發明做進一步詳細描述： 包括在坯體上布施面釉，在布施面釉后通過絲網印花機印制特殊干粒釉，燒制成瓷磚 后，經柔拋處理得到柔光效果陶瓷磚，其中干粒釉包括水晶粒子、溶劑。
[0014] 溶劑包括重量含量為15-25乙二醇和重量含量為30-45的水。
[0015] 絲網為70- 90目全通網。
[0016] 水晶粒子的粒徑在250-325目之間。
[0017] 面釉包括成釉、硅酸鋯、CH9羧甲基纖維素鈉(增稠劑)、三聚磷酸鈉、腐植酸鈉。
[0018] 釉漿細度為300g釉漿過325目篩后，篩余為0. 8~I. 6g。
【主權項】
1. 一種柔光瓷磚，其特征在于柔光瓷磚是采用以下方法制成的，包括在坯體上布施面 釉，在布施面釉后通過絲網印花機印制特殊干粒釉，燒制成瓷磚后，經柔拋處理得到柔光效 果陶瓷磚，其中干粒釉包括重量份為100的水晶粒子、重量份為50- 80的溶劑。2. 根據權利要求1所述的柔光瓷磚，其特征在于絲網為70- 90目全通網。3. 根據權利要求1或2所述的柔光瓷磚，其特征在于水晶粒子的粒徑在250-325目之 間，溶劑包括重量含量為15-25乙二醇和重量含量為30-45的水。4. 根據權利要求1或2所述的柔光瓷磚，其特征在于面釉包括成釉900-1100重量份、 硅酸鋯90-110重量份、增稠劑1. 1-1. 5重量份、三聚磷酸鈉1. 0-1. 3重量份、腐植酸鈉1-3 重量份。5. 根據權利要求4所述的柔光瓷磚，其特征在于釉漿細度為300g釉漿過325目篩后， 篩余為〇· 8~I. 6g。6. 根據權利要求3所述的柔光瓷磚，其特征在于面釉包括成釉900-1100重量份、硅酸 鋯90-110重量份、增稠劑1. 1-1. 5重量份、三聚磷酸鈉1. 0-1. 3重量份、腐植酸鈉1-3重量 份。7. 根據權利要求6所述的柔光瓷磚，其特征在于釉漿細度為300g釉漿過325目篩后， 篩余為〇· 8~I. 6g。8. 根據權利要求1或2或5或7所述的柔光瓷磚，其特征在于拋光采用多組磨頭進行， 磨頭參數如下：〇9. 根據權利要求3所述的柔光瓷磚，其特征在于拋光采用多組磨頭進行，磨頭參數如 下：〇10. 根據權利要求4所述的柔光瓷磚，其特征在于拋光采用多組磨頭進行，磨頭參數如 下：
【專利摘要】<b>一種柔光瓷磚</b>，其特征在于<b>柔光瓷磚是采用以下方法制成的，</b>包括在坯體上布施面釉，在布施面釉后通過絲網印花機印制特殊干粒釉，燒制成瓷磚后，經柔拋處理得到柔光效果陶瓷磚，其中干粒釉包括重量份為100的水晶粒子、重量份為？50—80的溶劑。本發明與已有技術相比，具有成品率較高，生成成本低，且硬度較高以及平整度較好的優點。
【IPC分類】C03C8/14, C04B41/86
【公開號】CN105175021
【申請號】
【發明人】林家生, 劉漢津, 梁瑞平, 石潁, 王杏達, 李宣營, 田劍興, 梁勇海, 鐘玉純, 吳建洲, 陸月星, 朱岸權, 吳云平, 黃金保
【申請人】廣東博華陶瓷有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年8月27日