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一種閃光釉瓷磚的制作方法

文檔序號:8957533閱讀:1484來源:國知局
一種閃光釉瓷磚的制作方法
【專利說明】
[0001]
技術領域: 本發明涉及一種瓷磚。
[0002]
【背景技術】: 閃光釉瓷磚是一種在坯體施釉噴印圖案后印制的一種特殊的釉層,燒制后產生一種明 亮淡雅、閃閃發光的裝飾效果,豐富空間視覺體驗。
[0003] 現有的閃光釉瓷磚,其制造工藝主要有以下幾種:一是通過甩釉柜以濕式方式隨 機把閃光釉甩在坯體表面,優點是閃光效果隨機性較強,缺點是生產不易控制,不能制成指 定的閃光區域;二是通過絲網印花機以印花的方式印在磚面上,優點是閃光區域可控,閃光 釉分布均勻,易于生產,但是,由于已有的閃光釉是采用特殊的釉內添加閃光干粒而成的, 受該閃光釉自身的性質所決定,其缺點是網版破損率大,成本尚。
[0004]

【發明內容】
: 本發明的發明目的在于提供一種成品率較高,生成成本低,且閃光區域可控,閃光釉分 布均勾,易于生產的閃光釉瓷磚。
[0005] 本發明閃光釉瓷磚是采用以下方法實現的,包括在坯體上布施面釉,在布施面釉 后通過絲網印花機印制閃光釉,經1150-1250°C高溫燒制成瓷磚,閃光釉中閃光干粒、印刷 粉、溶劑的重量用量比為=30:60-80:50-70。其中溶劑采用甲基乙二醇。
[0006] 由于先施面釉,再絲網印刷閃光釉,而閃光釉采用溶劑的方式,使閃光釉既能均勻 地布設在面釉上,同時,又不會損傷絲網,印刷后,閃光粒子有效地滲入進面釉內,使最終產 品硬度高,平整度較好。
[0007] 這里,絲網為120目全通網,這樣,既能使閃光釉均勻地布設在面釉上,同時,又不 容易損絲網。
[0008] 閃光干粒的粒徑在200-250目之間。采用適當的粒度,既使干粒釉均勻地布設在 面釉上,同時,又不容易損傷絲網。
[0009]面釉的組成為:成釉1000重量份、硅酸鋯90-110重量份、增稠劑1. 2-1. 4重量份、 三聚磷酸鈉1. 0-1. 2重量份、腐植酸鈉1-3重量份。
[0010] 釉漿細度為300g釉漿過325目篩后,篩余為0? 8~I. 6g。
[0011] 本發明與已有技術相比,由于采用先施面釉,再絲網印刷閃光釉,因此,具有成品 率較高,生成成本低,且閃光區域可控,閃光釉分布均勻,易于生產的優點。
[0012] 【具體實施方式】: 現結合實施例對本發明做進一步詳細描述: 本發明包括在坯體上布施面釉,在布施面釉后通過絲網印花機印制閃光釉,經 1150-12 50 °C高溫燒制成瓷磚,閃光釉包括閃光干粒、印刷粉、溶劑的重量用量比為: 30:60-80:50-70,其中溶劑采用一種特殊的印油調制而成。溶劑包括增稠劑(CH9羧甲基纖 維素鈉)、乙二醇和水,各成分的重量含量是:
[0013] 絲網為120目全通網。
[0014] 閃光干粒的粒徑在200-250目之間。
[0015] 面釉包括成釉、硅酸鋯、CH9羧甲基纖維素鈉(增稠劑)、三聚磷酸鈉、腐植酸鈉。
[0016] 釉漿細度為300g釉漿過325目篩后,篩余為0. 8~I. 6g。
[0017] 閃光釉及面釉成分含量如下(單位為重量份):
【主權項】
1. 一種閃光釉瓷磚,其特征在于閃光釉瓷磚是采用以下方法制成的,包括在坯體上布 施面釉,在布施面釉后通過絲網印花機印制閃光釉,經1150- 1250°C高溫燒制成瓷磚,閃光 釉中閃光干粒、印刷粉、溶劑的重量用量比為:30:60-80:50-70。2. 根據權利要求1所述的閃光釉瓷磚,其特征在于絲網為120目全通網。3. 根據權利要求1或2所述的閃光釉瓷磚,其特征在于閃光干粒的粒徑在200-250目 之間,其中溶劑包括增稠劑(CH9羧甲基纖維素鈉)、乙二醇和水,各成分的重量含量是:〇4. 根據權利要求1或2所述的閃光釉瓷磚,其特征在于面釉包括成釉900-1100重量 份、硅酸鋯90-110重量份、增稠劑1. 1-1. 4重量份、三聚磷酸鈉1. 0-1. 3重量份、腐植酸鈉 1_3重量份。5. 根據權利要求4所述的閃光釉瓷磚,其特征在于釉漿細度為300g釉漿過325目篩 后,篩余為0. 8~I. 6g。6. 根據權利要求3所述的閃光釉瓷磚,其特征在于面釉包括成釉900-1100重量份、硅 酸鋯90-110重量份、增稠劑1. 1-1. 5重量份、三聚磷酸鈉1. 0-1. 3重量份、腐植酸鈉1-3重 量份。7. 根據權利要求6所述的閃光釉瓷磚,其特征在于釉漿細度為300g釉漿過325目篩 后,篩余為0. 8~I. 6g。
【專利摘要】<b>一種閃光釉瓷磚</b>,其特征在于<b>閃光釉瓷磚是采用以下方法制成的,</b>包括在坯體上布施面釉,在布施面釉后通過絲網印花機印制閃光釉,經1150-1250℃高溫燒制成瓷磚,閃光釉中閃光干粒、印刷粉、溶劑的重量用量比為:30:60-80:50-70。本發明與已有技術相比,具有成品率較高,生成成本低,且閃光區域可控,閃光釉分布均勻,易于生產的優點。
【IPC分類】C04B41/86, C03C8/14
【公開號】CN105175022
【申請號】
【發明人】林家生, 劉漢津, 梁瑞平, 石潁, 王杏達, 李宣營, 田劍興, 梁勇海, 鐘玉純, 吳建洲, 陸月星, 朱岸權, 吳云平, 黃金保
【申請人】廣東博華陶瓷有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年8月27日
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