筆跡效果模擬方法及裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及筆跡模擬仿真技術，特別是涉及一種筆跡效果模擬方法及裝置。
【背景技術】
[0002]在目前的繪畫軟件中，為滿足不同用戶群體對繪畫筆跡的需求，通常設置有不同類型的筆刷，如蠟筆筆刷、記號筆筆刷、水彩刷等，但是往往繪圖軟件中所設置的筆刷的類型是有限的，通常只能針對某些常用的筆跡設定對應的筆刷，而無法根據用戶的需求模擬出用戶自定義的筆所對應的筆跡，即實現不了對用戶自定義的筆跡效果的模擬，因而在一定程度上限制了繪畫軟件的功能豐富性和使用靈活性。
【發明內容】
[0003]基于此，有必要針對繪畫軟件無法根據用戶的需求模擬出用戶自定義的筆所對應的筆跡效果的問題，提供一種筆跡效果模擬方法及裝置，通過該筆跡效果模擬方法及裝置能夠實現對用戶自定義的筆跡效果的模擬，提高了用戶的繪畫體驗。
[0004]為實現上述目的，本發明實施例中采用如下技術方案:
[0005]—種筆跡效果模擬方法，所述方法包括以下步驟:
[0006]獲取當前時刻繪制模擬筆跡的繪制點的坐標；
[0007]以所述坐標作為坐標原點構建坐標系，并以所述坐標系下待模擬筆跡的筆跡布局函數的各個點為對稱中心生成對應的基礎圖形，所述基礎圖形由待模擬筆跡獲得；
[0008]根據所述坐標系下待模擬筆跡的透明度分布函數設置各個所述基礎圖形的透明度，得到當前時刻的所述模擬筆跡。
[0009 ]同時，本發明還提出了一種筆跡效果模擬裝置，所述裝置包括:
[0010]獲取單元，用于獲取當前時刻繪制模擬筆跡的繪制點的坐標；
[0011]生成單元，用于以所述坐標作為坐標原點構建坐標系，并以所述坐標系下待模擬筆跡的筆跡布局函數的各個點為對稱中心生成對應的基礎圖形，所述基礎圖形由待模擬筆跡獲得；
[0012]設置單元，用于根據所述坐標系下待模擬筆跡的透明度分布函數設置各個所述基礎圖形的透明度，得到當前時刻的所述模擬筆跡。
[0013]上述筆跡效果模擬方法及裝置通過獲取當前時刻繪制模擬筆跡的繪制點，并以該繪制點作為坐標原點構建坐標系，在所構建的坐標系下以基礎圖形代替筆跡布局函數進行顯示，且根據該坐標系下待模擬筆跡的透明度分布函數設置各個基礎圖形的透明度，使得各個基礎圖形的透明度隨其在筆跡布局函數上位置的變化而變化，最終得到當前時刻的模擬筆跡，即通過本發明所提出的筆跡效果模擬方法及裝置利用筆跡布局函數及透明度分布函數，能夠實現對用戶自定義的待模擬筆跡的筆跡效果進行模擬，從而豐富繪畫軟件的功能，提尚用戶的繪畫體驗。
【附圖說明】
[0014]圖1為本發明其中一個實施例中筆跡效果模擬方法的流程示意圖；
[0015]圖2為本發明其中一個實施例中筆跡模擬效果裝置的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0016]下面將結合附圖及較佳實施例對本發明的技術方案進行詳細描述。
[0017]在其中一個實施例中，參見圖1所示，本發明提供了一種筆跡效果模擬方法，該方法包括以下步驟:
[0018]SlOO獲取當前時刻繪制模擬筆跡的繪制點。通常情況下，繪畫軟件都在其畫布上設置有坐標系，畫布上每一點均對應于唯一的位置坐標，因此這里獲取繪制點即為獲取到繪制點在繪畫軟件上的位置坐標。
[0019]作為一種具體的實施方式，本步驟中的繪制點為鼠標光標所在的點或者接收觸摸事件的點，若繪制模擬筆跡的操作是用戶以鼠標光標實現的，則當前時刻鼠標光標在繪畫軟件的畫布上的點就作為當前時刻的繪制點，繪制點的坐標即為鼠標光標所在點的坐標；若繪制模擬筆跡的操作是用戶以觸摸的方式實現的，則接收觸摸事件的點在軟件畫布上的點就作為當前時刻的繪制點，繪制點的坐標即為接收觸摸事件的點的坐標。
[0020]SllO以所述坐標作為坐標原點構建坐標系，并以所述坐標系下待模擬筆跡的筆跡布局函數的各個點為對稱中心生成對應的基礎圖形，所述基礎圖形由待模擬筆跡獲得。在步驟SlOO獲取當前時刻繪制模擬筆跡的繪制點后，本步驟以繪制點作為坐標原點重新構建坐標系，在該坐標系下，以筆跡布局函數的各個點作為基礎圖形的對稱中心、生成與各個點一一對應的基礎圖形，其中基礎圖形是由待模擬筆跡確定的圖形，具體可以根據繪制待模擬筆跡的筆頭的形狀來確定基礎圖形，例如筆頭為圓形，該筆頭繪制出來的待模擬筆跡實際上是由多個圓形的點共同組成的，因此在模擬待模擬筆跡時，以圓形來進行模擬更為合理。
[0021]S120根據所述坐標系下待模擬筆跡的透明度分布函數設置各個所述基礎圖形的透明度，得到當前時刻的所述模擬筆跡。在以繪制點為坐標原點構建的坐標系下，筆跡布局函數中每一點均對應于一個基礎圖形，同時筆跡布局函數中每一點的橫坐標均為透明度分布函數變化量的取值，即筆跡布局函數上的每一基礎圖形均對應于透明度分布函數的函數值，因此通過對透明度分布函數的設置可以改變各個基礎圖形的透明度，而且透明度分布函數可以根據待模擬筆跡的透明度分布情況獲得，因此經過對基礎圖形的透明度的設置最終獲得當前時刻的模擬筆跡。
[0022]本實施例所提出的筆跡效果模擬方法通過獲取當前時刻繪制模擬筆跡的繪制點，并以該繪制點作為坐標原點構建坐標系，在所構建的坐標系下以基礎圖形代替筆跡布局函數進行顯示，且根據該坐標系下的透明度分布函數設置各個基礎圖形的透明度，使得各個基礎圖形的透明度隨其在筆跡布局函數上位置的變化而變化，最終得到當前時刻的模擬筆跡，即通過本發明所提出的筆跡效果模擬方法利用筆跡布局函數及透明度分布函數，能夠實現對用戶自定義的待模擬筆跡的筆跡效果進行模擬，從而豐富繪畫軟件的功能，提高用戶的繪畫體驗。
[0023]作為一種具體的實施方式，根據單位長度待模擬筆跡的透明度信息和點分布函數確定所述透明度分布函數，所述點分布函數由組成所述待模擬筆跡的點的數量信息確定；對所述點分布函數的系數進行循環取值模擬，得到筆跡布局函數。在本實施方式中，以單位長度且具有一定寬度的待模擬筆跡為模擬的對象，首先，根據待模擬筆跡可以獲得透明度信息以及點分布函數，例如以炭筆繪制出的一段待模擬筆跡為例，待模擬筆跡的中心亮度較暗，而邊緣部分則較亮，表明在該待模擬筆跡中，其透明度信息具有類似于二次函數的分布規律，同時，根據繪制待模擬筆跡的筆頭部位的大小可以獲得組成待模擬筆跡的點的數量信息，例如對于繪制于單位長度矩形內的待模擬筆跡而言，假設筆頭為直徑I毫米的圓形，那么數量信息包括在該矩形內的點的數量，約為30?50個點，且這些點具有一定的分布規律，而根據組成待模擬筆跡的點的數量以及分布規律就可以得到點分布函數，如果待模擬筆跡中的點的數量是中心部位多而邊緣部位少，則可以確定點分布函數為二次函數，如果待模擬筆跡中的點的數量遞減或者遞增的趨勢，則可以確定點分布函數為一次函數，例如，以炭筆所畫的待模擬筆跡為例，根據其點的數量信息可以確定點分布函數為f(x)=_kx2+b，若待模擬筆跡的點集變換平緩，則該點分布函數中的k值可以取較小的值，如k [(0.5，