清洗設備的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及顯示技術領域，具體地，涉及一種清洗設備。
【背景技術】
[0002]在半導體及顯示領域，生產薄膜晶體管等器件的過程中需要使用大量的托盤進行周轉，雖然產線中的潔凈度很高，但長期使用之后，托盤上還是會不可避免地粘附一些異物，這樣會對一些工藝流程，例如貼附偏光片的工藝，綁定(Bonding)工藝等，產生不良影響，導致產品的良率降低，增加了物料損耗。
[0003]現有技術中，主要通過粘塵滾輪等對托盤以及托盤墊上異物較多的區域進行清洗，但這樣的清洗方式對異物的清洗不徹底，清洗效果不佳;而且，采用這樣方式對托盤和托盤墊進行清洗的效率較低，粘塵滾輪的耗費量較大，導致清洗的成本較高。
【發明內容】
[0004]本實用新型旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一，提出了一種清洗設備，其具有更好的清洗效果，更高的清洗效率和更低的清洗成本。
[0005]為實現本實用新型的目的而提供一種清洗設備，其包括傳送機構、清潔劑供給機構、水供給機構和毛刷盤結構;所述傳送機構用于將待清洗工件傳送到清洗工藝位;所述清潔劑供給機構用于向清洗工藝位提供清潔劑;所述水供給機構用于向清洗工藝位提供清洗用水;所述毛刷盤結構用于與所述待清洗工件摩擦接觸，對待清洗工件進行清洗。
[0006]其中，待清洗工件包括托盤和托盤墊。
[0007]其中，所述傳送機構包括傳送帶和驅動電機，所述驅動電機用于驅動所述傳送帶轉動。
[0008]其中，所述傳送帶上設置有多個凸起結構，所述凸起結構用于防止放置在傳送帶上的待清洗工件與傳送帶之間產生相對滑動。
[0009]其中，所述清潔劑供給機構包括清潔劑噴管和清潔劑存儲容器，所述清潔劑噴管與清潔器存儲容器連接，且其噴口朝向清洗工藝位。
[0010]其中，所述水供給機構包括水噴管和水源，所述水噴管與水源連接，且其噴口朝向清洗工藝位。
[0011]其中，所述毛刷盤結構包括立柱、橫臂、毛刷盤和驅動電機;所述橫臂安裝在立柱上，所述毛刷盤和驅動電機安裝在所述橫臂上，且所述驅動電機與毛刷盤通過聯軸器連接，用于驅動毛刷盤轉動或移動。
[0012]其中，所述毛刷盤結構還包括滑塊、緊固件和可旋轉卡盤;所述立柱具有沿豎直方向設置的滑軌，所述滑塊沿所述滑軌在豎直方向移動，所述緊固件用于將移動至指定位置的所述滑塊固定在所述立柱上;所述橫臂通過可旋轉卡盤與所述立柱連接。
[0013]其中，所述傳送帶的兩側均設置兩個毛刷盤結構，且四個所述毛刷盤結構沿所述傳送帶的傳送方向交錯設置。
[0014]其中，所述清洗設備還包括水回收機構，所述水回收機構包括儲水容器和集水管道，所述集水管道與儲水容器連接，且其進水口位于所述傳送帶的下方，以及，所述清洗工藝位位于所述集水管道的進水口在所述清洗工藝位所在平面的投影內。
[0015]其中，所述清洗設備還包括壓縮空氣刀，所述壓縮空氣刀位于所述清洗工藝位的后端，用于向清洗后的工件噴射壓縮空氣，以去除工件上的水分。
[0016]本實用新型具有以下有益效果:
[0017]本實用新型提供的清洗設備，其通過毛刷盤結構與托盤、托盤墊等待清洗工件之間的摩擦，并使用清潔劑，且以水洗的方式對托盤、托盤墊等待清洗工件進行清洗，與現有的通過粘塵滾輪進行清洗的方式相比，其清洗效果更好，清洗效率更高，而且減少了粘塵滾輪等物料的耗費，從而還可以降低成本。
【附圖說明】
[0018]附圖是用來提供對本實用新型的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與下面的【具體實施方式】一起用于解釋本實用新型，但并不構成對本實用新型的限制。在附圖中:
[0019]圖1為本實用新型實施方式提供的清洗設備的示意圖；
[0020]圖2為去除傳送機構之后的清洗設備的示意圖；
[0021]圖3為毛刷盤結構的不意圖；
[0022]圖4為毛刷盤結構的分布方式的示意圖。
[0023]其中，附圖標記:
[0024]I:傳送機構;2:清潔劑供給機構;3:水供給機構;4:毛刷盤結構;5:壓縮空氣刀；
[0025]10:傳送帶；11:驅動電機;20:清潔劑噴管;30:水噴管;40:立柱;41:橫臂;42:毛刷盤;43:驅動電機;45:聯軸器;46:滑塊;47:緊固件;48:可旋轉卡盤;49:滑軌;60:集水管道。
【具體實施方式】
[0026]以下結合附圖對本實用新型的【具體實施方式】進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的【具體實施方式】僅用于說明和解釋本實用新型，并不用于限制本實用新型。
[0027]本實用新型提供一種清洗設備的實施方式。圖1為本實用新型實施方式提供的清洗設備的示意圖。如圖1所示，在本實施方式中，所述清洗設備包括傳送機構1、清潔劑供給機構2、水供給機構3和毛刷盤結構4;所述傳送機構I用于將待清洗工件(如托盤、托盤墊等)傳送到清洗工藝位;所述清潔劑供給機構2用于向清洗工藝位提供清潔劑;所述水供給機構3用于向清洗工藝位提供清洗用水;所述毛刷盤結構4用于與所述待清洗工件摩擦接觸，對待清洗工件進行清洗。
[0028]參看圖1?圖4，所述傳送機構I包括傳送帶10和驅動電機11，所述驅動電機11用于驅動所述傳送帶10轉動。具體地，所述傳送帶10上設置有多個凸起結構(圖1中黑點所示，在圖4中以小圓圈表示)，所述凸起結構用于防止放置在傳送帶10上的待清洗工件與傳送帶10之間產生相對滑動。所述清潔劑供給機構2包括清潔劑噴管20和清潔劑存儲容器，所述清潔劑噴管20與清潔器存儲容器連接，且其噴口朝向清洗工藝位。所述水供給機構3包括水噴管30和水源，所述水噴管30與水源連接，且其噴口朝向清洗工藝位。
[0029]如圖3所示，所述毛刷盤結構4包括立柱40、橫臂41、毛刷盤42和驅動電機43;其中，所述橫臂41安裝在立柱40上，所述毛刷盤42和驅動電機43安裝在所述橫臂41上，且所述驅動電機43與毛刷盤42通過聯軸器45連接，用于驅動毛刷盤42轉動或移動，所述毛刷盤42在轉動或移動過程中與托盤、托盤墊等待清洗工件摩擦接觸，清洗托盤、托盤墊等上的異物。
[0030]進一步地，所述毛刷盤結構4還可以包括滑塊46、緊固件47和可旋轉卡盤48;所述立柱40具有沿豎直方向設置的滑軌49，所述滑塊46沿所述滑軌49在豎直方向移動，所述緊固件47用于將