專利名稱：帶有特殊凸起部的足跖矯形墊的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種新型的足跖矯形墊(orthèse plantaire)或矯形底墊(semelle orthopédique)。
背景技術：
該底墊可以實施成可拆卸的形式，或足跖矯形墊又或干凈墊，或者該底墊可以不是可拆卸的，并且構成一粘貼的干凈墊，或構成鞋子的首墊層的上部。
在矯形外科中，一般根據需要制作足跖矯形墊，至少要由矯形外科醫生對需要穿帶矯形墊的人確定足跖矯形墊。其結果是幾乎要單獨地進行手工制作，因此導致高成本。
發明內容
本發明的目的是克服這些缺點。
已經通過本發明發現，在現實中，可以制出單一的矯形墊或矯形底墊的型件，其能夠治療大多數的個體病例，并且這與個人的解剖學和病理學特征無關。因此可以通過本發明驚人地工業制出相同的底墊(為左足和右足的形狀，并且顯然考慮不同的尺碼)，它們可以滿足所遇到的80％以上、甚至90％以上直到95％的病癥中對矯形底墊的需求。因此只有少量的病理癥狀需要不同的底墊，這些底墊應單獨地適應這些不常見的病理癥狀。
本發明的目的是一種足跖矯形墊，這種足跖矯形墊從前向后在一基本為平面的區域17上包括稱為下跖骨頭位的區域，即對于第一跖骨位的一區域11和對于第四和第五跖骨位的一區域12；并且在這些互相分開的區域后面包括一后跖骨頭位空隙區或后跖骨頭位支承區13，這些區域具有基本如圖1所示的輪廓，和基本如圖2的剖面中出現的凸起部分。
優選地，足跖矯形墊可以可選地還包括一向后部的內半穹形區14和一外半穹形區15，足跖矯形墊終止于一足跟環16，所述區域具有基本如圖1所示的輪廓，和基本如圖2中的剖面示出的凸起部分。
在一符合本發明的足跖矯形墊中，所有這些區域的結合實現幾乎通用的足跖矯形墊的特征，從一水平幾何參照平面起，所述區域分別具有以下特征
-下跖骨頭位區11和12具有一介于0.5mm到10mm之間的高度，并且它們是平的，或稍微向前傾斜；[10]-后跖骨頭位空隙區13在不同跖骨頭位的后面有一中間隆起(其橫截面上具有一平的或凸起的形狀，并且在縱向截面上具有一向后傾斜的形狀)，該區域的最大高度為2-10mm，優選為4-5mm；[11]-或者用一位于第二、第三和第四跖骨頭位后面的后跖骨頭位支承區代替后跖骨頭位空隙區，所述區域的最大高度為2-10mm；[12]-內半穹形區14在一縱向平面內整體上凸起，并且與足部的內足底弓相吻合，且在一橫向平面內它是凹陷的、或凸起的，或者呈拱耳形；該區域一般在它的長度方向上是凹陷的，并且它的橫截面有規律地凹陷、凸起或呈拱耳形，最大高度在2mm-25mm之間，所述區域從跟骨位的約后1/3部位處向第一跖骨頸部位的后面縱向延伸，并且橫向地一直延伸到足部寬度的約2/3部位處；[13]-外半穹形區在縱向平面中是凸起的，其從跟骨位的約后三分之一處向第五跖骨頭位的后面延伸，支撐外足底弓，并且橫向地一直延伸到足部的大約一半寬度處，橫向截面是凹陷的、平面傾斜的或凸起的；[14]-足跟環區16的形狀為凹陷的半環形，兩分支的縱向截面的高度恒定，或者稍微向前傾斜，剖截面輕微凸起、平面傾斜或凹陷。
閱讀下面參照附圖進行的作為非限定例子的描述，本發明的其他特征和優點將更加清楚地體現出來，附圖如下[16]-圖1表示一符合本發明的足跖矯形墊的俯視圖，該圖示出矯形墊的所有區域；[17]-圖2表示在一具體實施例中該矯形墊的俯視圖，其中矯形墊由多組部安裝形成，其中有些組部是疊置的，以便形成符合圖1的矯形墊的區域，該圖2還表示多個沿線1-1至7-7的截面，所述截面相對放置在一水平面中的底墊是豎直的；[18]-圖3表示下跖骨頭位(sous-capitales)部分的縱向剖面；[19]-圖4表示足跟環的俯視圖和在不同高度的縱向和橫向的截面；[20]-圖5表示根據內半穹形部的一縱向截面視圖和根據其三個變型的三個橫向截面；[21]-圖6表示中間的后跖骨頭位支承區(zone d′appui rétro-capitale)的縱向和橫向截面；[22]-圖7表示根據可形成后跖骨頭位空隙區(barre rétro-capitale)的組部的不同變型的縱向截面和橫向截面；[23]-圖8表示外半穹形部的縱向截面和橫向截面的變型。
具體實施例方式圖1所示足跖矯形墊在其下部有一基底10，所述基底例如在一種平面材料的厚片材中切割而成，并形成一平的首墊層。某些區域凸起地布置于該基底上，所述區域即第一跖骨的一下跖骨頭位區11、第四和第五跖骨的一下跖骨頭位區12、一后跖骨頭位空隙區或后跖骨頭位支承區13、一內半穹形區14、一外半穹形區15和一足跟環16。
根據本發明，圖1所示的布置確定不同區域的輪廓線，當然這些區域在它們的寬度或長度上可以變化。所述區域的長度和/或寬度優選可以相對于圖中出現的尺寸在±10％的限度內改變，并優選在±7％的限度內變化，這些尺寸與矯形墊的尺碼成正比。
區域11至16的存在使得出現一保持平坦的輔助區域，即對于趾骨的前部區域17，并可能還有一在足跟環處并且也被半穹形部限定的內平面區域18，但是該區域也可以略呈凹陷。
不同區域11-16與平面區域17和18連接，并且對于相鄰區域通過柔性的連接線互相連接，從而避免任何可能形成令腳感覺不適的凸緣的突然過渡區。
可以通過不同的方式形成不同的區域。因此，第一實施例可以從一適當切割、并且變形和硬化的平面片材制出符合圖1的矯形墊，以便使得在單獨一部件中呈現不同的區域11至18。
另一實施例在于通過模制形成矯形墊。
另一實施例可以在于按圖1所示的線條切割而形成區域11至16，然后把這些區域并置且例如通過粘貼或縫合固定在片體或首墊層上，所述片體或首墊上出現有平面區域17和18。
另一實施方式——其為示于圖2的實施例——在于制出一些局部疊置和組裝的組部，組裝優選通過粘貼進行。
例如，在圖2看到，矯形墊包括一第一組部A，所述第一組部的前端分別形成區域11和12。在它的中間部分，一組部B形成后跖骨位空隙區。所述組部B在其表面可以設置一組部C，該組部C在組部B的中部加厚所述組部B。
另一組部D形成外半穹形部15，并且向前和向內側延伸。該組部延伸出矯形墊10的外側。
一組部E形成足跟環16，并且該組部為U形，該U形組部E延伸到內、外半穹形部下面。
一組部F形成內半穹形部，該內半穹形部局部地重疊在組部A的內跖骨位部分上，局部地重疊在組部D的中央部分上，且局部地重疊在組部E的其中一分支上。和通常一樣，該半穹形部14在內側延伸到底墊10的輪廓之外。
這些組部的輪廓如下[37]組部A[38]-前邊界21、22在足印上，它們對應于距離前足掌印的前邊界前部幾毫米的下足趾間隙，以便考慮到在腳步趾行階段足底脂肪組織(capiton plantaire)和跖骨的前移。從嚴格的解剖學的觀點看，該邊界位于與腳趾的近側骨干相對齊處。從幾何的觀點看，前邊界位于底墊的切割線上3/4(1/6；3/10)部位處。每一構件占據這個寬度的1/6。
-后邊界如果單獨制作下跖骨頭位部件，后邊界23位于利斯弗朗關節(即跗趾關節articulation de Lisfranc)處；如果下跖骨頭位部件與后跖骨頭位部件以單體件形式連接為一體，該邊界對應于跖骨頸部位的邊界；[40]-側向邊界24、25、26、27它們對應于前足掌在其寬度的1/6部位處的橫向分割部。
凸起11和12的高度優選在0.5mm到10mm之間。這些區域可以是平的，或稍微向前傾斜。
參照圖3，看到組部A確定的第一、第四和第五跖骨位的下及前跖骨頭位構部(éléments sous et antérocapitaux)可能的縱向截面的三種變型，最大厚度基本位于跖骨頸部位處，跖骨頸部位與1/6部位的邊界之間的傾斜或平面表面是暴露的，以便形成區域11或12，而位于利斯弗朗關節頸部之間的后部分將被組部B覆蓋。
組部B[44]該組部用于形成后跖骨頭位空隙(BRC)區，或作為變型，形成后跖骨頭位支承(ARC)區[45]-BRC這是一正好位于跖骨頭位后面的構部，這些跖骨頭位整體構成跖骨盤位(palette métatarsienne)。該構部整體有一中間隆起(正好在第二和第三跖骨頭位的后面)，它的下邊界是無關緊要的；[46]-縱向上，正是這樣一構部其正好在跖骨頭位的后面具有一最大的撓曲高度(hauteur de flèche)，并且該構部規則地向它的下邊界傾斜轉變成平面；[47]-除了構部位于第二、第三和第四跖骨頭位后面外，ARC與前面的構部相同。
對于BRC，邊界是[49]-前邊界31它對應于跖骨頸部位線；[50]-后邊界32它對應于利斯弗朗關節的關節間隔線；[51]-內側邊界33它對應于與鞋子的內凸起相適應的凸出邊，該凸出邊在2-4mm之間變化。
-外側邊界34，其向外凸出，凸伸部在2-4mm之間變化。
對ARC，邊界是[54]-前邊界沿著第二、第三和第四跖骨的頸部位的邊界；[55]-后邊界位于利斯弗朗關節間隔線的相交處的點，或正好位于足部幾何軸線相交處的點，或者正好位于后足軸線的相交處的點；[56]-側向邊界稍微凸起，寬度等于對應第二、第三和第四跖骨的3/6部位處。在內部為橫向的2/6部位處，在外部為縱向的2/6部位處，橫向的5/6部位處，縱向的2/5部位處。
厚度優選在1-10mm之間。
參照圖7，該圖表示向后傾斜的后跖骨頭位空隙區的中間部分的縱向截面視圖。在橫截面中，它可能是平的，或者是帶有一溝槽的凸起，如圖2的剖面4-4所示，或者它仍是平的，并帶有一中間隆起，而沒有側溝槽，或者它是凸起的，并帶有一溝槽和一些側向翼。
最厚部分的高度最少為2-5mm，直到最大為8或9mm。
在圖6中看到，當它實施成后跖骨頭位支承區的形式時，它有一與后跖骨頭位空隙區類似的縱向中間截面，但是只延伸在中央跖骨下面，即第二、第三和第四跖骨下面，因此具有凸起橫截面，所述凸起橫截面的最大高度在第二、第三或第四跖骨下面。高度可以從最小為2-5mm，變化到最大為8或9mm。
內半穹形部F[62]這是一與足部的內足底弓吻合的構部。它在一縱向平面中是整體凸起的。在一橫向平面中，它或者是完全凸起的，或者是完全凹陷的，或者呈拱耳形(oreille de )，即在它的上部是凹陷的，而在其下部是凸起的。它可以在跟骨的后1/3部位之后一直往前延伸到第一跖骨頸部位。橫向上它可以一直延伸到足部寬度的2/3部位處。
邊界為[64]-前邊界41第一跖骨的頸部；[65]-后邊界42跟骨長度的1/2處，或跟骨長度的1/3處；[66]-內側邊界43適配凸邊直線或稍微向內凸起的邊界；[67]-外側邊界44向外凸起的線條，最大寬度在與舟骨對齊處。在首墊層寬度的1/2部位處。
參照圖5，一方面看到該內半穹形部的凸起部分的縱向截面，另一方面看到其橫向截面的三種變型。對于縱向截面的凸起部分，最大高度可以在對齊舟骨、或者對齊舟骨關節(articulation scapho-cunéenne)、或者對齊內利斯弗朗關節(cunéo-métatarsienne)的內邊緣處。
在橫向上，在其最大高度處取得的截面可以有規律地凸起，或者呈拱耳形，或者有規則地凹陷。
高度在2-25mm之間變化。
外半穹形部D[72]這是一與腳的外足底弓或外拱形吻合的構部(見根據Kapandji的足部外拱形的結構)。在一縱向平面中，該外半穹形部整體凸起，但也可以是平的，甚至凹陷的。
在一橫向平面中，該外半穹形部或者完全凸起，或者完全凹陷，或者呈拱耳形，即在它的上部凹陷，而在其下部凸起。該外半穹形部可以從跟骨的后三分之一部位后一直向前延伸到第五跖骨頭位的后面；橫向上它可以延伸到足部的2/3寬度處。
邊界為[75]-前邊界51第五跖骨的頸部位；[76]-后邊界52跟骨長度的前1/3部位處，或跟骨寬度的1/2部位處；[77]-內側邊界在對齊第五跖骨的莖突的首墊層的1/2寬度處；[78]-外側邊界稍微向外凸出的適配凸邊。
參照圖8看到該外半穹形部的一縱向截面和三種橫向截面的變型。最大高度基本在與 或莖突對齊處。
橫向凸起部可以是凹陷的，或傾斜平面的，甚至是凸出的。
高度在2-25mm之間。
足跟環E[83]這是一與足跟部(跟骨)的印痕相吻合并予以加強的構部。該足跟環沿著跟骨在地面上的后支撐的解剖學輪廓。該足跟環具有一凸起部分和一厚度，該凸起部分和厚度可形成足跟在地面的支承。該構部給出的凸起部分基本上是凹面的。
邊界為[85]-前-內邊界61它與舟骨關節相對；[86]-前-外邊界62與外利弗斯朗關節相對的首墊層外邊緣；[87]-內邊界63在它的內部，邊界或多或少是凸起的。在它的前部，該部分的寬度等于首墊層寬度的內1/3，然后在后部它是凹陷的。凹陷部分的寬度在其外部等于首墊層寬度的內1/5。在前部，它在內部凸起，其寬度等于首墊層的外四分之一，然后在它的后部是凹陷的，且寬度對應于外1/5；[88]-側邊界64、65這是與鞋子相適應的適配凸邊相對應的邊界。這些邊界是凸起的，大約3-5mm的最大凸邊位于構部長度的1/2處。
參照圖4看到縱向凸起部分，在左邊的圖中，所述凸起部分或者高度基本恒定，或者稍微向前傾斜。橫剖面1-1、2-2、3-3處的凸起部分可以尤其稍微凸出，或者在對應剖面1-1的前部為傾斜的平面，或者對于剖面2-2和3-3其是傾斜的平面或稍微凹陷。高度可以在2mm到25mm之間變化。
符合本發明的矯形墊可以用不同的方式實現。
整體上說，足跖矯形墊之下優選存在一空間，該空間是空的或包含一種輕質或帶孔隙的材料，矯形墊本身保證變形阻力，而該變形是由于重量和作用力而產生的。
例如，一符合圖1的矯形墊可以用單一片材通過注模進行制造，或者優選在一帶有配以適當區域的模具的壓力機中通過變形制造，以便提供一矯形墊，雖然該矯形墊是剛性的，但也帶有一定彈性，并且大體通過它的周邊擱靠于一只鞋子的基底或底墊本身上，矯形墊凸起部分之間的空間例如是空的。
正如已經描述的，在另一實施例中，矯形墊可以這樣制造分別生產它的不同組成部分，然后把這些組成部分組裝在一起，并且例如通過粘貼固定在平面基底10上。
正如在圖2看到的，作為變型，可以通過組成部分的局部疊放——其中某些部分延伸在其它部分下面——而得到不同的組成部分。
最后，矯形墊可以與整個鞋底墊一起制造，但不構成一個以后要集成到底墊中的干凈墊。例如可以通過適當材料模壓得到。通常所用的材料的肖式硬度在0-200之間。
總之，符合本發明的矯形墊可以構成一干凈墊，或形成該干凈墊的上部，或屬于安裝首墊層的一部分，或者成為外墊體的一部分，根據鞋子的不同類型，符合本發明的矯形墊可以是附加的，或者相反地與干凈墊、或安裝首墊或外墊形成為一體，矯形墊可以是相對于鞋子可拆卸的，也可以是不可拆卸的。
權利要求
1.足跖矯形墊，該矯形墊從前向后在一基本為平面的區域(17)上包括稱為下跖骨頭位的區域，即對于第一跖骨位的一區域(11)和對于第四和第五跖骨位的一區域(12)；并且在這些互相分開的區域后面包括一后跖骨頭位空隙區或后跖骨頭位支承區(13)，這些區域具有基本如圖1所示的輪廓，和基本如圖2的剖面中出現的凸起部分。
2.如權利要求1所述的足跖矯形墊，該矯形墊朝所述后跖骨頭位空隙區或后跖骨頭位支承區(13)后面包括一內半穹形區(14)和一外半穹形區(15)，矯形墊終止于一足跟環(16)，這些區域具有基本如圖1所示的輪廓，和基本如圖2的剖面中出現的凸起部分。
3.足跖矯形墊，該矯形墊從前向后包括在一基本為平面的區域(17)上包括稱作下跖骨頭位的區域，即對于第一跖骨位的一區域(11)和對于第四和第五跖骨位的一區域(12)；并在這些互相分開的區域后面包括一區域(13)，該區域或者形成后跖骨頭位空隙區，或者形成后跖骨頭位支承區；并且可選地，朝后部包括一內半穹形區(14)、一外半穹形區(15)和一足跟環(16)，這些區域具有以下特征—下跖骨頭位區(11)和(12)具有一介于0.5mm到10mm之間的高度，并且它們是平的，或稍微向前傾斜；—內半穹形區(14)在一縱向平面內整體上凸起，并且與足部的內足底弓相吻合，且在一橫向平面內它是凹陷的、或凸起的，或者呈拱耳形；該區域一般在它的長度方向上是凹陷的，并且它的橫截面有規律地凹陷、凸起或呈拱耳形，最大高度在2mm-25mm之間，所述區域從跟骨的后1/3部位處向第一跖骨頸部位的后面縱向延伸，并且橫向地一直延伸到足部寬度的2/3部位處；—外半穹形區在縱向平面中是凸起的，其從跟骨的約后三分之一處向第五跖骨頭位的后面延伸，支撐外足底弓，并且橫向地一直延伸到足部的大約一半寬度處，橫向截面是凹陷的、平面傾斜的或凸起的；—足跟環區(16)的形狀為凹陷的半環形，兩分支的縱向截面的高度恒定，或者稍微向前傾斜，剖面輕微凸起、平面傾斜或凹陷。
4.如權利要求3所述的足跖矯形墊，其特征在于，該矯形墊有一后跖骨頭位空隙區(13)，該區在跖骨頭位后面具有一隆起(其橫截面上形狀是平面的或凸起的而縱截面上形狀是向后傾斜的)，所述區的最大高度在2mm-10mm之間。
5.如權利要求3所述的足跖矯形墊，其特征在于，該矯形墊具有一位于第二、第三和第四跖骨頭位后面的后跖骨頭位支承區，該區的最大高度在2mm-10mm之間。
6.如權利要求1至5中任一項所述的足跖矯形墊，該矯形墊在它的下表面下面具有一空的或充填有帶孔隙材料的空間。
7.如權利要求1至5中任一項所述的足跖矯形墊，該矯形墊在它的下表面下面包括一種實心材料。
8.如權利要求1至7中任一項所述的足跖矯形墊，其特征在于，該矯形墊相對于鞋子是可拆卸的。
9.如權利要求1至7中任一項所述的足跖矯形墊，其特征在于，該矯形墊相對于鞋子不是可拆卸的。
10.如權利要求1至5中任一項所述的鞋墊，其特征在于，它形成鞋的完整底墊的上部。
11.如權利要求1至9中任一項所述的足跖矯形墊，其特征在于，該矯形墊屬于鞋子的安裝首墊層的一部分。
12.如權利要求1至9中任一項所述的足跖矯形墊，其特征在于，該矯形墊屬于鞋子外墊體的一部分。
全文摘要
足跖矯形墊，該矯形墊從前向后在一基本為平面的區域(17)上包括稱為下跖骨頭位的區域，即對于第一跖骨位的一區域(11)和對于第四和第五跖骨位的一區域(12)；并且在這些互相分開的區域后面包括一后跖骨頭位空隙區或后跖骨頭位支承區(13)，這些區域具有基本如圖1和圖2所示的輪廓。
文檔編號A43B13/38GK1960651SQ200580017992
公開日2007年5月9日 申請日期2005年4月27日 優先權日2004年5月3日
發明者埃里克·帕蘭 申請人:埃里克·帕蘭