專利名稱：有封閉水圈的臺盆的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及衛浴，特別是一種臺盆，這種臺盆是安裝在臺面以下的臺盆。
背景技術：
所述的臺面是指臉盆上面的一個平面，所述的臺盆是指安裝在臺面以下的臺盆， 在現有技術中，臺盆安裝在臺面以下，臺面和臺盆一般是接觸結合的，具有從中間漏水的缺點；有的在臺面和臺盆之間涂有乳膠，具有粘接不嚴、不經久耐用、也會漏水的缺點，影響其正常使用。
發明內容本實用新型的目的就是針對上述缺點，提供一種安裝簡單、不會漏水、經久耐用的臺盆——有封閉水圈的臺盆。本實用新型的技術方案是這樣實現的有封閉水圈的臺盆，包括臺盆本體，臺盆本體上面具有臺盆上沿，所述的臺盆上沿是臺盆本體上面的凸起，臺盆上沿位于一個平面上， 其特征是所述的臺盆上沿中間具有一圈凹槽。本實用新型的有益效果是這樣的臺盆具有安裝簡單、經久耐用、不會漏水的優
點ο
圖1為本實用新型有封閉水圈的臺盆的結構示意圖。其中1、臺盆本體2、臺盆上沿3、凹槽
具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型作進一步說明。如圖1所示，有封閉水圈的臺盆，包括臺盆本體1，臺盆本體1上面具有臺盆上沿 2，所述的臺盆上沿2是臺盆本體1上面的凸起，臺盆上沿2位于一個平面上，其特征是所述的臺盆上沿2中間具有一圈凹槽3。安裝時可用一圈橡膠條放置的凹槽處，是臺盆和臺面結合緊密，不會漏水，相比粘接經久耐用。
權利要求1.有封閉水圈的臺盆，包括臺盆本體，臺盆本體上面具有臺盆上沿，所述的臺盆上沿是臺盆本體上面的凸起，臺盆上沿位于一個平面上，其特征是所述的臺盆上沿中間具有一圈凹槽。
專利摘要本實用新型涉及衛浴，特別是一種臺盆，這種臺盆是安裝在臺面以下的臺盆，有封閉水圈的臺盆，包括臺盆本體，臺盆本體上面具有臺盆上沿，所述的臺盆上沿是臺盆本體上面的凸起，臺盆上沿位于一個平面上，其特征是所述的臺盆上沿中間具有一圈凹槽。這樣的臺盆具有安裝簡單、經久耐用、不會漏水的優點。
文檔編號A47K1/04GK202191217SQ20112024702
公開日2012年4月18日 申請日期2011年6月30日 優先權日2011年6月30日
發明者張延偉 申請人:長葛市新大都瓷業有限公司