一種涂料印花的配方和方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種涂料印花的配方和方法。
【背景技術】
[0002]涂料印花是用涂料直接印花，而不是用染料來生產印花，該工藝通常叫做干法印花，以區別于濕法印花(或染料印花)，涂料印花印制的印花織物，可賦于織物豐滿、干爽及柔軟的手感，其應用已經非常廣泛。
[0003]本發明人根據多年的經驗，提供一種金粉和銀粉印花的配方和方法，印花色漿化學、物理穩定性優良，制備的印花織物有明亮艷麗的色澤且光照穩定性好。
【發明內容】
[0004]針對上述問題，本發明提供一種涂料印花的配方和方法，印花色漿化學、物理穩定性優良，制備的印花織物有明亮艷麗的色澤且光照穩定性好。
[0005]為實現上述技術目的，達到上述技術效果，本發明通過以下技術方案實現:
一種涂料印花的配方，其特征在于，其原料組成為:
金粉印花漿:16-18份；
350?400目金粉:2-5份；
上述份數均為質量份數。
[0006]優選，所述金粉印花漿為17份，所述份數為質量份數。所述350?400目金粉為3.5份，所述份數為質量份數。
[0007]一種涂料印花的方法，其特征在于，包括如下步驟:
501:印花，涂料印花的配方為:金粉印花漿為17份，350?400目金粉為3.5份，所述份數均為質量份數；
502:第一次焙烘；
503:第二次焙烘；
504:成品。
[0008]本發明的有益效果是:制造工藝簡單，且印花后進行二次不同的焙烘，印花色漿化學、物理穩定性優良，制備的印花織物有明亮艷麗的色澤且光照穩定性好。
【具體實施方式】
[0009]下面結合具體的實施例對本發明技術方案作進一步的詳細描述，以使本領域的技術人員可以更好的理解本發明并能予以實施，但所舉實施例不作為對本發明的限定。
[0010]一種涂料印花的配方，其原料組成為:
金粉印花漿:16-18份；
350?400目金粉:2-5份；
上述份數均為質量份數。
[0011]優選，所述金粉印花漿為17份，所述350?400目金粉為3.5份，上述份數均為質量份數。
[0012]一種涂料印花的方法，包括如下步驟:
501:印花，涂料印花的配方為:金粉印花漿為17份，350?400目金粉為3.5份，所述份數均為質量份數；
502:第一次焙烘；
503:第二次焙烘；
504:成品。
[0013]優選，所述步驟S02在100_105°C的溫度下進行至少3分鐘。
[0014]優選，所述步驟S03在155-170°C的溫度下進行2_3分鐘。最好是在162.5°C的溫度下進行2分鐘。
[0015]上述配方和制造工藝簡單，且印花后進行二次不同的焙烘，印花色漿化學、物理穩定性優良，制備的印花織物有明亮艷麗的色澤且光照穩定性好。
[0016]以上僅為本發明的優選實施例，并非因此限制本發明的專利范圍，凡是利用本發明說明書內容所作的等效結構或者等效流程變換，或者直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發明的專利保護范圍內。
【主權項】
1.一種涂料印花的配方，其特征在于，其原料組成為: 金粉印花漿:16-18份； 350?400目金粉:2-5份； 上述份數均為質量份數。
2.根據權利要求1所述的一種涂料印花的配方，其特征在于，所述金粉印花漿為17份，所述份數為質量份數。
3.根據權利要求1所述的一種涂料印花的配方，其特征在于，所述350?400目金粉為3.5份，所述份數為質量份數。
4.一種涂料印花的方法，其特征在于，包括如下步驟: 501:印花，涂料印花的配方為:金粉印花漿為17份，350?400目金粉為3.5份，所述份數均為質量份數； 502:第一次焙烘； 503:第二次焙烘； 504:成品。
5.根據權利要求4所述的一種涂料印花的方法，其特征在于，所述步驟S02在100-105°C的溫度下進行至少3分鐘。
6.根據權利要求5所述的一種涂料印花的方法，其特征在于，所述步驟S03在155-170°C的溫度下進行2-3分鐘。
7.根據權利要求5所述的一種涂料印花的方法，其特征在于，所述步驟S03在162.50C的溫度下進行2分鐘。
【專利摘要】本發明公開了一種涂料印花的配方和方法，其特征在于，其原料組成為：金粉印花漿：16-18份；350～400目金粉：2-5份；上述份數均為質量份數。一種涂料印花的方法，其特征在于，包括如下步驟：S01：印花，涂料印花的配方為：金粉印花漿為17份，350～400目金粉為3.5份，所述份數均為質量份數；S02：第一次焙烘；S03：第二次焙烘；S04：成品。制造工藝簡單，且印花后進行二次不同的焙烘，印花色漿化學、物理穩定性優良，制備的印花織物有明亮艷麗的色澤且光照穩定性好。
【IPC分類】D06P1-673, D06P1-00
【公開號】CN104532610
【申請號】CN201410803248
【發明人】包文波
【申請人】包文波
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2014年12月23日