玻璃板的制作方法

專利名稱：玻璃板的制作方法
技術領域：
本發明涉及玻璃板，并且具體但不排它地涉及日光控制和/或低發射率的玻璃板和/或在向玻璃基底施加涂層疊層形式的濾光片之后可經受熱處理的玻璃板。本發明更具體地涉及通過真空沉積技術，例如通過濺射或磁控濺射將涂層疊層施加到玻璃上的情況。
背景技術：
當設計用于玻璃應用的涂層疊層時，必須考慮多種因素。這些因素不僅包括涂覆的玻璃板的所希望光-能量性能，而且還包括例如涂層疊層的耐磨性(以便于處理、運輸和加工)、涂層疊層的穩定性和化學耐久性(以便于在各種條件下儲存)以及制造工藝控制的容差(以促進可接受的生產率和產品批次之間的一致性)。
尤其是在試圖增加涂層疊層的耐磨性和/或化學耐久性時，已知會施加頂涂層到涂層疊層上。GB 2,293,179涉及用于提高涂覆的基底的化學和機械耐久性同時使光學性質的任何相應變化最小化的保護性附加層。這種保護性層由硅的氧化物或氧氮化物形成，或者由硅的氧化物、氮化物和氧氮化物中的一種或多種的混合物形成，并且具有10～100的厚度。
但是我們已經發現，如GB 2,293,179中所述的這種保護性附加層，當沉積在某些涂層疊層上時，例如沉積在“基本上由至少一種選自鈦、氧化鈦和氮化鈦的材料組成的基礎抗反射層/紅外反射層/頂部抗反射層/頂涂層”類型的涂層疊層上時，在運輸過程中并不總是提供良好的耐性，并且在涂層的表面可能出現劃痕。當涂覆的玻璃板在其運輸后進行熱處理時，劃痕變得更多和更明顯。“運輸”在本文中是指例如通過卡車成堆地或成箱地從例如涂布機傳送到批發商或變換器(transformer)或鋼化爐。

發明內容
本發明提供如獨立權利要求所定義的玻璃板、制造玻璃板的方法和頂涂層的用途。從屬權利要求中限定了優選的實施方式。
本發明可提供良好的機械耐性(尤其是在運輸過程中良好的耐刮擦性)、可熱處理性、化學耐久性、防潮性和制造參數穩定性的有利組合。
頂涂層可有利地為至少兩個子層的組合第一頂涂層子層被認為尤其提供在熱處理玻璃板時有用的“保留區(reserve)”，以保證在熱處理過程中對涂層疊層的其它部分的熱保護；并且第二頂涂層子層被認為尤其提供對涂覆的玻璃板的機械保護。
已經發現有利的是，頂涂層包括第一頂涂層子層，其在第二頂涂層子層的下面，基本上由至少一種選自鈦、氧化鈦和氮化鈦的材料組成。本發明的第一頂涂層子層的一個優點是它可為玻璃板提供在儲存過程中(例如在熱處理和/或裝配之前)特別好的化學耐久性，便于控制制造容差和生產工藝。這可與在熱處理過程中為涂層疊層的其它部分提供熱保護的能力相結合。優選地，第一和第二頂涂層子層彼此直接接觸，但在其它實施方式中，它們之間可存在另外的子層。仍然優選地，頂涂層由兩個頂涂層子層組成。但是，在一些實施方式中，頂涂層可包括另外的子層，例如在第一頂涂層子層之下。
第一頂涂層子層可包括除上述那些材料以外的材料，例如它可由以下材料組成、包括以下材料或基于以下材料■Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr或它們的混合物或這些金屬中的至少一種與Al和/或B的混合物或者■Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr的氧化物、亞化學計量氧化物、氮化物或氧氮化物，或它們的混合物，或者為這些金屬中的至少一種與Al和/或B的混合物的氧化物、亞化學計量氧化物、氮化物或氧氮化物。
第一頂涂層子層可具有20～100的幾何厚度，優選20～80或20～50或20～40或20～30，還更優選25～30。至少20的厚度可避免當熱處理玻璃板時的損害，不大于100，優選80或50的厚度可避免涂覆的玻璃板的透光率的過大下降。
第二頂涂層子層可基本上由氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、碳化硅、碳氮化硅、氧碳化硅或氧碳氮化硅組成。優選地，該層通過真空沉積技術，尤其是磁控濺射來沉積。如本領域中眾所周知的，用來沉積這種層的靶可由純Si或摻雜有例如Al(例如Si靶中8％的Al)、Zr、Ti、Ni Cr、Ni、B或Sb中的一種或多種的Si制成。因此第二頂涂層子層可結合相對少量的這種摻雜劑而不偏離本發明。也可使用SiC靶，如Carborundum公司的靶FG90。
第二頂涂層子層的幾何厚度有利地為10～50，優選10～40，還更優選15～30。當小于10時，第二頂涂層子層不能足夠厚以保護涂層疊層例如在運輸過程中不被刮擦。而且，當涂覆的玻璃板在其形成之后或在其形成和運輸之后被熱處理時，我們發現，大于50的第二頂涂層子層的厚度會導致不能接受的劃痕。在涂覆的玻璃板熱處理后出現的這些最后的劃痕看起來實際上是“枝狀晶體”，從而顯示出當進行熱處理時涂層中的脆性區域，即涂層本身的薄弱之處。這種枝狀晶體看起來沿著在熱處理之前已經進行機械接觸的路徑形成，在宏觀上顯示為“劃痕”，這使得玻璃板不可用。當第一頂涂層子層由Ti或其上述化合物之一組成，包括或基于Ti或其上述化合物之一時，第二頂涂層子層的幾何厚度有利地為15～30，優選15～25。
優選地，當第二頂涂層子層基本上由氧化硅組成時，這種氧化物被完全氧化；這可給涂層疊層提供光學優點，完全氧化的氧化硅的層對例如整個涂層疊層的顏色具有較小影響。可選擇地，第二頂涂層子層可基本上由亞化學計量氧化硅組成。
優選地，第二頂涂層子層暴露于空氣中，也就是說，其為涂層疊層的最外層。這可在機械耐性和可熱處理性方面提供特別良好的結果。
還可以在沒有第一頂涂層子層的情況下使用第二頂涂層子層。
在優選實施方式中，頂涂層包括基本上由氮化鈦組成的幾何厚度為20～40的第一頂涂層子層，以及基本上由氧化硅組成的幾何厚度為15～25的第二頂涂層子層。
可由本發明提供的性質的組合具有與可熱處理的和熱處理過的玻璃板相關的特定優點。不過，本發明也可用于不被熱處理的玻璃。這里所用的術語“可熱處理的玻璃板”指的是帶有涂層疊層的玻璃板適合于進行彎曲和/或熱鋼化和/或熱硬化操作和/或其它熱處理工藝，而這樣處理過的玻璃板的霧度不超過0.5，優選霧度不超過0.3。這種熱處理工藝可涉及到在大氣中將帶有涂層疊層的玻璃加熱到或暴露于大于約560℃的溫度，例如560℃～700℃。其它的這種熱處理工藝可以是陶瓷或搪瓷材料的燒結、雙玻璃單元的真空密封和濕涂覆的低反射性涂層或防閃光涂層的煅燒。該熱處理工藝，尤其當其為彎曲和/或熱鋼化和/或熱硬化操作時，可以在至少600℃的溫度下進行至少10分鐘、12分鐘或15分鐘，至少620℃下進行至少10分鐘、12分鐘或15分鐘，或者至少640℃下進行至少10分鐘、12分鐘或15分鐘。
涂層優選通過真空沉積技術，尤其是磁控濺射來沉積。
本發明的玻璃板可包括一個或多個紅外反射層。可由例如銀制成的這些層用來反射入射的紅外輻射。夾住紅外反射層的介電抗反射層用來減少光譜可見光部分的反射，否則銀層會引起這種反射。
每個抗反射介電層可由單層組成，或者可包括兩個或多個子層，這些子層一起形成抗反射介電層。抗反射介電層或者至少部分抗反射介電層可包括氧化物，例如包括鋅和錫和/或鋅和鋁的氧化物。
涂層疊層可包括在紅外反射層之下和/或之上的一個或多個阻擋層，這是本領域眾所周知的。可使用例如以下材料中的一種或多種材料的阻擋層Ti、Zn、Cr、“不銹鋼”、Zr、Nb、Ni、Ni Cr、Ni Ti、ZnTi和ZnAl。這種阻擋層可以以金屬層、低價氧化物(即部分氧化的層)或完全氧化的氧化物的形式沉積。可選擇地，也可使用氮化阻擋層。每個阻擋層可由單層組成，或可包括兩個或多個子層，這些子層一起形成阻擋層。阻擋層可包括基本上金屬形式的第一阻擋層，例如包括鎳和鉻，以及與第一阻擋層組成不同(例如包括鈦)的位于上面的第二阻擋層，其為選自氧化物、亞化學計量氧化物、氮化物、亞化學計量氮化物、氧氮化物和亞化學計量氧氮化物的形式。
在本發明的一種實施方式中，第二頂涂層子層可具有200～400的幾何厚度，優選250～350，或者還更優選約300。令人驚奇地發現，這種范圍的厚度可提供良好的機械性質，并且可減少或避免在玻璃板熱處理之后出現劃痕。但是，這種厚度會增加生產成本，并且也會必須要再檢查整個涂層疊層，例如在層厚度方面，以避免例如顏色變化。
我們已經注意到，模擬涂覆的玻璃板在被運輸時所經歷的過程的最佳工具是Automatic Web Rub Test(AWRT)。將覆蓋有棉布的活塞(標號由ADSOL供應的CODE 40700004)被放置與涂層接觸，并在表面上振動。活塞帶有砝碼，以具有作用在17mm直徑指狀物上的33N的力。在一定數量的循環之后，棉布在涂覆的表面上的磨耗將損害(除去)涂層。該試驗用來定義涂層脫色(除去頂層)之前和涂層中出現劃痕之前的閾值。在樣品上分開的距離處進行該試驗10、50、100、250、500和1000次循環。在人工天空(artificial sky)下觀察樣品，以確定在樣品上是否能看見脫色和/或劃痕。AWRT分數代表不引起降級或者引起非常輕的降級(在均勻的人工天空下離樣品80cm距離處用裸眼看不見)的循環次數。分別根據出現輕微劃痕或者根本沒有出現劃痕，在AWRT分數后面標出“-”或“+”。優選地，本發明的玻璃板顯示至少250的AWRT值，更優選至少500。
本發明的玻璃板的涂層疊層可以是這樣的如果施涂到4mm玻璃的透明片材上，它將給出大于約25％、30％、35％、40％、45％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或90％的用發光物C測定的TL。熱處理可引起玻璃板的透光率(TL)增加。這種TL的增加在確保TL對于玻璃板足夠高以用于高透光率的玻璃方面可能是有利的，例如在車輛的擋風玻璃或者建筑應用中，在這些應用中期望單一(monolithic)涂覆的玻璃板具有大于約25％、30％、35％、40％、45％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或90％的TL，或者在雙玻璃單元中，其中期望雙玻璃單元具有大于約55％、60％、65％、70％、75％、80％或85％的TL。在熱處理過程中TL的絕對值(absolute term)可增加例如大于約2.5％、大于約3％、大于約4％、大于約6％、大于約8％或大于約10％。
本發明的玻璃板可適合于在雙玻璃單元中裝配。它們可適于例如在位置3(內玻璃片材的內表面)或位置2(外玻璃片材的內表面)處具有涂層疊層的雙玻璃單元中裝配。形成雙玻璃單元的玻璃板的至少之一在其裝配在雙玻璃單元中之前可被熱處理。
具體實施例方式
下面將僅通過實施例和對比例進一步描述本發明的實施方式。
根據下面的表，涂層疊層已經通過磁控濺射沉積在玻璃基底上。涂層疊層全部被描述為是它們從磁控濺射涂布機中退出的狀態。除了實施例9中玻璃厚度為2.6mm之外，對于所有實施例，玻璃厚度為6mm。在其它厚度例如4mm的玻璃上預計得到類似的結果。
在實施例1～6和11以及對比例1～11中，除了頂涂層，涂層疊層總是相同的。抗反射層包括各種比例的鋅和錫的混合氧化物Zn(50)Sn(50)Ox表示包括50％鋅和50％Sn的混合氧化物，Zn(90)Sn(10)Ox表示包括90％鋅和10％Sn的混合氧化物。實際上，用來得到Zn(50)Sn(50)Ox層的靶的準確組成是Zn52％Sn48％，以這些金屬在靶中的重量計。它對應于可以容易地形成鋅錫酸鹽的組成，本領域中已知它在熱處理過程中的阻滯性質。
對比例1和2說明，包括單個TiN子層的頂涂層在AWRT試驗中顯示出差的結果，甚至當TiN子層的厚度較高時，涂層在小于50次循環之后變差。
對比例3～7和實施例1～3說明在TiN第一頂涂層子層上添加SiO2第二頂涂層子層，該SiO2子層顯示出不同的厚度。對比例3表明，添加10的SiO2頂涂層子層在AWRT試驗中不提供更好的結果。而實施例1～3和對比例4～7顯示出類似或良好的AWRT結果，其中SiO2頂涂層子層為15～300。然而這些涂層疊層被熱處理，例如被鋼化的能力彼此不同，在鋼化之后沒有顯示出劃痕。對比例4～7(其中SiO2厚度為36～100)在鋼化之后以及在運輸(用AWRT試驗模擬的)和鋼化之后都顯示出劃痕。然而實施例1、2和3(其中SiO2厚度為15、25和300)提供對AWRT試驗的良好耐性的優點，因此對運輸有良好耐性，并且在鋼化之后不顯示劃痕。因此作為本發明一部分的這些實施例是提供良好機械耐性的涂層，例如對運輸的良好耐性，具有可熱處理的優點。參考實施例3，注意到由于SiO2厚度較大，相比于沒有SiO2子層的涂覆的玻璃板，可能會出現顏色變化。這可通過調節形成涂層疊層的其它層的厚度來修正，而不損害具有SiO2頂涂層子層的涂層疊層的良好機械耐性和可熱處理性的優點。
對比例8、9和11說明TiN第一頂涂層子層確保涂覆的玻璃板的良好可熱處理性和穩定性的優點。
對比例10說明在TiN第一頂涂層子層上按順序具有SiO2第二頂涂層子層的優點。
實施例4、5和6說明本發明的其它實施方式Ti第一頂涂層子層或SiC第二頂涂層子層。實施例4顯示出在熱處理之前82％的透光率，0.070的發射率和6Ω/□的電阻，在熱處理之后89％的透光率，0.045的發射率和4.5Ω/□的電阻。實施例6顯示出在熱處理之前78％的透光率和熱處理之后89％的透光率。實施例11說明Zr第一頂涂層子層。
實施例7～9說明本發明應用到雙銀涂層疊層，具有不同的第一頂涂層子層，即TiN、Ti、TiO2。實施例7和8是提供高選擇性的可熱處理的涂層；它們顯示出在鋼化之前74％的透光率和鋼化之后81％的透光率，0.018的發射率和1.6Ω/□的每平方的電阻。實施例9的玻璃板可用于制造汽車用可加熱的日光控制擋風玻璃。這種擋風玻璃顯示出在發光物A下77％的透光率，44％的能量透過率和2.2Ω/□的每平方的電阻。
實施例10是本發明的玻璃板(玻璃片材帶有實施例1的涂層疊層，所不同的是SiO2厚度為20)和不是本發明的玻璃板(玻璃片材帶有對比例2的涂層疊層)的運輸試驗。使所有這些玻璃片材經過以下步驟■將玻璃片材聚集成每個2.5T的堆，在玻璃片材之間有每m2玻璃200mg的層間粉末。
■3個月庫存之后運送■裝載在卡車中，堆之間有卡紙板隔片■在墊子中壓力為4巴■大于1000km的路程，穿過阿爾卑斯山脈，這是臨界情況，因為道路彎曲并且溫度急劇變化■在聚光燈下檢查玻璃片材與沒有SiO2頂涂層子層的玻璃片材相反，具有SiO2頂涂層子層的玻璃片材有良好的結果(沒有劃痕，沒有脫色)■返回到出發點，重新檢查，具有SiO2頂涂層子層的玻璃片材總是有良好的結果■玻璃片材被涂覆之后6個月，將如上所述已經旅行的具有SiO2頂涂層子層的玻璃片材運送到鋼化爐中■搬運、切割、加工玻璃片材■鋼化■在爐出口，裸眼看不見機械缺陷。

層厚度是幾何厚度對于包括TiN或Ti的第一頂涂層子層給出的厚度以等價TiO2給出(19TiO2對應于10TiN)1AWRT分數代表不引起降級或者引起非常輕的降級(在均勻的人工天空下離樣品80cm距離處用裸眼看不見)的循環次數。根據出現輕微劃痕或者根本沒有出現劃痕，標出“-”或“+”。
26分鐘20秒內660℃-670℃3AWRT試驗100次循環410分鐘30秒內670℃

層厚度是幾何厚度對于包括TiN或Ti的第一頂涂層子層給出的厚度以等價TiO2給出(19 TiO2對應于10 TiN)1AWRT分數代表不引起降級或者引起非常輕的降級(在均勻的人工天空下離樣品80cm距離處用裸眼看不見)的循環次數。根據出現輕微劃痕或者根本沒有出現劃痕，標出“-”或“+”。
26分鐘20秒內660℃-670℃3AWRT試驗100次循環410分鐘30秒內670℃

層厚度是幾何厚度對于包括TiN或Ti或Zr的第一頂涂層子層給出的厚度是分別以等價TiO2(19 TiO2對應于10 TiN)或ZrO2給出的。
1AWRT分數代表不引起降級或者引起非常輕的降級(在均勻的人工天空下離樣品80cm距離處用裸眼看不見)的循環次數。根據出現輕微劃痕或者根本沒有出現劃痕，標出“-”或“+”。
26分鐘20秒內660℃-670℃3AWRT試驗100次循環410分鐘30秒內670℃
權利要求
1.帶有涂層疊層的玻璃板，該玻璃板按順序包括至少玻璃基底基礎抗反射層紅外反射層頂部抗反射層頂涂層其中頂涂層包括至少兩個子層第一頂涂層子層，其基本上由至少一種選自以下材料的材料組成Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr或它們的混合物或者這些金屬中的至少一種與Al和/或B的混合物，或Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr的氧化物、亞化學計量氧化物、氮化物或氧氮化物或它們的混合物，或者為這些金屬中的至少一種與Al和/或B的混合物的氧化物、亞化學計量氧化物、氮化物或氧氮化物，和第二頂涂層子層，其在第一頂涂層子層之上，基本上由氧化硅、亞化學計量氧化硅、氧氮化硅、碳化硅、碳氮化硅、氧碳化硅或氧碳氮化硅組成。
2.權利要求1的玻璃板，其中第二頂涂層子層的幾何厚度為15～30。
3.權利要求1的玻璃板，其中第二頂涂層子層的幾何厚度為200～400。
4.帶有涂層疊層的玻璃板，該玻璃板按順序包括至少玻璃基底基礎抗反射層紅外反射層頂部抗反射層頂涂層其中頂涂層包括至少兩個子層第一頂涂層子層，其基本上由至少一種選自以下材料的材料組成Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr或它們的混合物或這些金屬中的至少一種與Al和/或B的混合物，或Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr的氧化物、亞化學計量氧化物、氮化物或氧氮化物或它們的混合物，或者為這些金屬中的至少一種與Al和/或B的混合物的氧化物、亞化學計量氧化物、氮化物或氧氮化物，和第二頂涂層子層，其在第一頂涂層子層之上，基本上由氧化硅、亞化學計量氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、碳化硅、碳氮化硅、氧碳化硅或氧碳氮化硅組成，第二頂涂層子層的幾何厚度為15～30。
5.前述任何權利要求的玻璃板，其中第一頂涂層子層基本上由至少一種選自鈦、氧化鈦、亞化學計量氧化鈦、氮化鈦和氧氮化鈦的材料組成。
6.權利要求5的玻璃板，其中第一頂涂層子層基本上由至少一種選自鈦、氧化鈦和氮化鈦的材料組成。
7.前述任何權利要求的玻璃板，其中第二頂涂層子層與第一頂涂層子層直接接觸。
8.前述任何權利要求的玻璃板，其中第二頂涂層子層暴露于空氣中。
9.前述任何權利要求的玻璃板，其中第一頂涂層子層的幾何厚度為20～100。
10.權利要求9的玻璃板，其中第一頂涂層子層的幾何厚度為20～80。
11.前述任何權利要求的玻璃板，其中頂涂層包括基本上由氮化鈦組成的第一頂涂層子層和基本上由氧化硅組成的第二頂涂層子層。
12.權利要求11的玻璃板，其中基本上由氮化鈦組成的子層的幾何厚度為20～40，并且基本上由氧化硅組成的子層的幾何厚度為15～25。
13.前述任何權利要求的玻璃板，其中玻璃板是可熱處理的。
14.前述任何權利要求的玻璃板，其中至少一個抗反射層包括氧化物。
15.前述任何權利要求的玻璃板，其中至少一個抗反射層包括鋅和錫、鋁和鈦中一種或多種的混合氧化物。
16.前述任何權利要求的玻璃板，其帶有涂層疊層，該玻璃板按順序包括至少玻璃基底基礎抗反射層第一紅外反射層中心抗反射層第二紅外反射層頂部抗反射層頂涂層。
17.前述任何權利要求的玻璃板，其按順序包括至少玻璃基底；基礎抗反射層，該基礎抗反射層包括至少一個包括鋅和錫的混合氧化物的層；紅外反射層；阻擋層；頂部抗反射層，該頂部抗反射層包括至少一個包括鋅和錫的混合氧化物的層；和頂涂層，其按順序包括基本上由氮化鈦組成的第一子層和基本上由氧化硅組成的第二子層。
18.權利要求17的玻璃板，其中阻擋層選自基本上金屬形式的阻擋層以及包括基本上金屬形式的第一阻擋層和與第一阻擋層組成不同的位于上面的第二阻擋層的阻擋層，該第二阻擋層是選自氧化物、亞化學計量氧化物、氮化物、亞化學計量氮化物、氧氮化物和亞化學計量氧氮化物的形式。
19.權利要求17或18的玻璃板，其中阻擋層選自包括鈦的阻擋層以及包括第一阻擋層和位于上面的第二阻擋層的阻擋層，該第一阻擋層包括鎳和鉻，該第二阻擋層包括鈦。
20.前述任何權利要求的玻璃板，其中涂覆的玻璃板的透光率大于70％。
21.前述任何權利要求的玻璃板，其中熱處理引起玻璃板的透光率增加。
22.前述任何權利要求的玻璃板，其適合于在雙玻璃單元中裝配。
23.權利要求22的玻璃板，其中玻璃板適合于在其裝配在雙玻璃單元中之前被熱處理。
24.前述任何權利要求的玻璃板，其顯示出至少250的AWRT分數。
25.包括至少一個前述任何權利要求的玻璃板的雙玻璃單元。
26.包括至少一個前述任何權利要求的熱處理過的玻璃板的雙玻璃單元。
27.權利要求25或26的雙玻璃單元，其中雙玻璃單元的透光率大于70％。
28.制造熱處理過的玻璃板的方法，其按順序包括以下步驟a)在玻璃基底上沉積涂層疊層，以提供權利要求1～20或22～24中任一項的中間玻璃板，b)在空氣中和大于550℃的溫度下使涂覆的中間玻璃板進行熱處理工藝。
29.權利要求28的方法，其中熱處理步驟之后，熱處理過的玻璃板的透光率比中間玻璃板的透光率大至少6％。
30.頂涂層的用途，該頂涂層包括至少兩個子層第一頂涂層子層，其基本上由至少一種選自以下材料的材料組成Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr或它們的混合物或這些金屬中的至少一種與Al和/或B的混合物，或Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr的氧化物、亞化學計量氧化物、氮化物或氧氮化物或它們的混合物，或者為這些金屬中的至少一種與Al和/或B的混合物的氧化物、亞化學計量氧化物、氮化物或氧氮化物，和第二頂涂層子層，其在第一頂涂層子層之上，基本上由氧化硅、亞化學計量氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、碳化硅、碳氮化硅、氧碳化硅或氧碳氮化硅組成，用來提高可熱處理的涂覆的玻璃板在熱處理之前的機械耐性，該玻璃板具有至少一個夾在介電層之間的金屬紅外反射涂層，并且用來減少熱處理之后涂覆的玻璃板表面上可見的劃痕數目。
31.權利要求30的頂涂層的用途，其中第二頂涂層子層的幾何厚度為15～30，或200～400。
32.制造霧度小于約0.5的玻璃板的方法，其包括在至少570℃下對權利要求1～20或22～24中任一項的玻璃板進行鋼化和/或彎曲操作的步驟。
33.帶有涂層疊層的玻璃板，該玻璃板按順序包括至少玻璃基底基礎抗反射層紅外反射層頂部抗反射層頂涂層其中頂涂層基本上由氧化硅、亞化學計量氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、碳化硅、碳氮化硅、氧碳化硅或氧碳氮化硅或其混合物組成，其幾何厚度為15～30。
34.帶有涂層疊層的玻璃板，該玻璃板按順序包括至少玻璃基底基礎抗反射層紅外反射層頂部抗反射層頂涂層其中頂涂層基本上由氧化硅、亞化學計量氧化硅、氧氮化硅、碳化硅、碳氮化硅、氧碳化硅或氧碳氮化硅或其混合物組成，其幾何厚度為200～400。
全文摘要
本發明涉及一種玻璃板，該玻璃板具有涂層疊層，該涂層疊層按順序包括至少基礎抗反射層、紅外反射層、頂部抗反射層和頂涂層，該頂涂層按順序包括至少兩個子層基本上由至少一種選自鈦、氧化鈦和氮化鈦的材料組成的第一子層，以及基本上由氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、碳化硅、碳氮化硅、氧碳化硅或氧碳氮化硅組成的第二子層。第二頂涂層子層的幾何厚度可為15～30
文檔編號C03C17/36GK101068755SQ200580041250
公開日2007年11月7日 申請日期2005年11月8日 優先權日2004年11月8日
發明者P·羅奎尼, J-M·德鮑夫 申請人:格拉沃貝爾公司