受光照閃亮的尺寸穩定性較好人造革的制作方法
【專利摘要】本發明涉及一種受光照閃亮的尺寸穩定性較好人造革。它包括相互粘合的面層（4）和基層（5），面層（4）上粘合有珠光粉層（3），珠光粉層（3）上粘合有透明膜（2），透明膜（2）上壓制有鉆石紋（1）所述基層（5）由織物制成，所述織物由經紗和緯紗相互交織而成，所述的經紗和緯紗為兩上兩下設置，所述的經紗為50D/72F滌綸低彈絲，緯紗為50D/36F滌綸低彈絲，且所述經紗和緯紗為斜紋組織結構。人們在使用時能與眾不同，滿足了人們的需要。本發明基層采用的織物尺寸穩定性較好。
【專利說明】受光照閃亮的尺寸穩定性較好人造革
【技術領域】
[0001 ] 本發明涉及一種人造革。
【背景技術】
[0002]普通的人造革由基層和面層構成，基層為普通的織物，面層為PVC塑料層，由于面層材料為塑料且表面光滑，因此受光照不發光，滿足不了人們的需要。另外，基層所采用的織物采用一上一下的平紋組織結構，存在彈力不好、質地不豐滿蓬松、尺寸穩定性較不好等不足。
【發明內容】
[0003]本發明的目的在于克服上述不足，提供了一種受光照閃亮的尺寸穩定性較好人造革。
[0004]本發明的目的是這樣實現的:
一種受光照閃亮的尺寸穩定性較好人造革，其特點是:所述人造革包括相互粘合的面層和基層，所述面層上粘合有珠光粉層，所述珠光粉層上粘合有透明膜，所述透明膜上壓制有鉆石紋，所述基層由織物制成，所述織物由經紗和緯紗相互交織而成，所述的經紗和緯紗為兩上兩下設置，所述的經紗為50D/72F滌綸低彈絲，緯紗為50D/36F滌綸低彈絲，且所述經紗和緯紗為斜紋組織結構。
[0005]本發明的有益效果是:
1、本發明一種受光照閃亮的尺寸穩定性較好人造革，由于面層上粘合有珠光粉層，珠光粉層上粘合有透明膜，所述透明膜上壓制有鉆石紋，因此人造革在受到光照時有閃光，人們在使用時能與眾不同，滿足了人們的需要。
[0006]2、相對于一上一下的平紋組織結構來說，本發明使得經紗和緯紗之間的空間變大，具有較好的彈力，且穿著舒適。所述的經紗為50D/72F滌綸低彈絲，緯紗為50D/36F滌綸低彈絲，布面呈現亞光含蓄之感，又有豐滿蓬松的質地。本發明所采用的織物使用了滌綸低彈絲，既具有象氨綸類彈性織物的優點，又比氨綸類彈性織物的價格低，且織物的尺寸穩定性較好。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0007]圖1為本發明一種受光照閃亮的尺寸穩定性較好人造革的結構示意圖。
[0008]圖中:
鉆石紋1，
透明膜2，
珠光粉層3，
面層4，
基層5。
【具體實施方式】
[0009]參見圖1，本發明一種受光照閃亮的尺寸穩定性較好人造革，它包括相互粘合的面層4和基層5，所述面層4上粘合有珠光粉層3，所述珠光粉層3上粘合有透明膜2，所述透明膜2上壓制有鉆石紋I。
[0010]所述基層5由織物制成，所述織物由經紗和緯紗相互交織而成，所述的經紗和緯紗為兩上兩下設置，所述的經紗為50D/72F滌綸低彈絲，緯紗為50D/36F滌綸低彈絲，且所述經紗和緯紗為斜紋組織結構。
【權利要求】
1.一種受光照閃亮的尺寸穩定性較好人造革，其特征在于:所述人造革包括相互粘合的面層(4 )和基層(5 )，所述面層(4 )上粘合有珠光粉層(3 )，所述珠光粉層(3 )上粘合有透明膜(2)，所述透明膜(2)上壓制有鉆石紋(1)，所述基層(5)由織物制成，所述織物由經紗和緯紗相互交織而成，所述的經紗和緯紗為兩上兩下設置，所述的經紗為50D/72F滌綸低彈絲，緯紗為50D/36F滌綸低彈絲，且所述經紗和緯紗為斜紋組織結構。
【文檔編號】B32B33/00GK104342999SQ201310327145
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2013年7月31日 優先權日:2013年7月31日
【發明者】郭亞娟 申請人:江陰市遠天機械廠