專利名稱：多模干涉分束器及其制備裝置和方法
技術領域：
本發明屬于光學信息處理和精密微光電子學器件領域，特別涉及一種多模干涉分束器及其制備方法和裝置。所述的制備方法是一種利用超短激光脈沖在透明材料體內制備多模干涉(MMI，Multimode Interference)分束器及其相關光子器件的方法。
背景技術：
光束分束器是光信息處理系統和光通信系統的關鍵器件，也是集成光學中重要的組成部分。常見的光束分束器有光功分器、TE/TM模式分離器、M-Z光開關、光分波/合波器等。傳統的分束器件中，用于3dB分光的主要有Y分支波導和X分支波導。但這兩種元件的夾角很小，因此難以控制其制備工藝。而且，如果要實現多址傳送功能，就需要眾多的分支波導和光開關單元按樹枝狀網路連接組成大規模的矩陣，從而不但使連接光波導的累計光程加長、網路分布復雜、晶片面積很大，而且光傳輸的損耗也會增加。因此，需要開發短程多址分束器。
自1975年德國馬普研究所R.Ulrich等人提出平面光波導的自映像效應以來，人們對多模干涉(MMI)器件的成像特性和應用等進行深入研究，根據這個效應制備得到3dB耦合器和濾波器。近年來根據自映像原理發展起來的MMI分束器就是一種短程多址分束器。MMI分束器是利用相干光源在多模平面光波導中，沿波導方向傳輸過程形成的自映像，即在傳播方向上可以周期性地形成輸入場的單個、兩個或多個入射光的像點，從而達到將入射光進行分束的目的。只要平面波導足夠長，所有的單像點和多像點在傳播方向上都會周期出現。MMI分束器具有分光光束數量可控、傳輸損耗低、結構精巧、較寬頻帶、容易制作加工且容差性好等特點。它由一個多模光波導和兩側連接的輸入、輸出的單模光波導構成。單模波導入射的光束進入多模波導后形成的多模干涉，在波導的不同截面形成不同級別、強度均衡的多模光斑，其傳播方向和相位與入射光波一致。根據分束系統的需求來確定多模波導的長度便可獲得1×N多模分束器，實現多址分束功能。
現有的MMI分束器所用的材料一般有InP，GaAs和Si等半導體，都是基于平面結構而且需要多步工藝才能完成制備。
發明內容
針對上述問題，本發明的一個目的在于提供一種以透明的電介質材料為原料的新型多模干涉(MMI)分束器，是利用超短激光脈沖聚焦到透明的電介質材料樣品體內一次掃描成型，從而在樣品體內形成的三維的多模干涉光波導。其中，MMI分束器的多模波導長度由激光在材料體內掃描的距離決定，波導截面寬度由激光成絲長度決定，而波導的截面厚度則由激光自聚焦成絲的粗細決定。因此，若要得到較大的波導寬度，則可以通過激光在樣品體內的多層或多次掃描實現。此外，還可以通過制備多個MMI波導并進行耦合，形成可以輸出陣列光束的陣列分束器。
以下介紹本發明構思的原理介質平面光波導一般都存在三種傳輸模式導波模式，襯底模式和輻射模式。熔融石英體內光波導的襯底和覆蓋層材料折射率相同，只存在導波模式和輻射模式。如圖1所示，如果將曝光區域的波導折射率等效為階梯型nf，熔融石英波導上下的襯底和覆蓋層折射率用ns和nc表示，傳輸光為TM模，傳播常數為β。則，能夠在波導中傳輸的波導模式必須滿足如下條件sin-1(nsnf)<θ<π2kns<β<knf---(1)]]>激光在平面光波導中傳輸，上下表面反射造成的相位移動分別為φ2和φ0，以相位領先為正，則平面光波導的本征值方程為knfdcosθ-φ2-φ0＝mπ (2)其中，d為波導厚度，m取整數。
以往采用半導體材料制作的平面光波導，襯底、覆蓋層和傳輸層折射率各不相同，由(3)式存在截止厚度dmin。波導傳輸層的厚度小于截止厚度dmin則不能形成傳輸模式。
dmin,i=λ2π(nf2-n02)1/2arctan(αi1/2)---(3)]]>其中，i代表不同偏振TE或者TM模式，激光在波導中由菲涅爾定律給出的反射系數α表示為αTE=ns2-nc2nf2-ns2αTM=nf4ns2-nc2nc4nf2-ns2---(4)]]>
波導上下熔融石英的折射率相等nc＝ns＝n0，則αTE＝αTM＝0dmin＝0，即這種波導截止厚度為0。光波導中的模式分布與光波導的折射率分布及工作波長等有直接關系。定義波導歸一化工作頻率V=2πλρnf2-n02=2πλρnf2Δn---(5)]]>其中，ρ為波導橫向特征尺寸。橫向尺寸相對波長越大，V值越大，容納波導模式也越多。如圖2所示，為本發明提供MMI分束器的示意圖，其MMI波導XY截面兩個方向，X為成絲形成的波導寬度W比較長(可達100μm以上)容易形成多個模式，Y截面為掃描的波導厚度很薄一般只能形成單模。
只要平面波導L足夠長，歸一化工作頻率V值足夠大，在傳播方向上將形成單像點和多像點周期性分布，實現分束作用。MMI平面波導兩個最低階模周期長度[191-200]Lπ=4nfWmmi23λ0---(6)]]>其中Lπ兩個最低階模周期長度，Wmmi為MMI平面光波導的寬度，λ0為真空中的波長，nf為波導的折射率。
圖2是飛秒激光聚焦到熔融石英體內，掃描形成的MMI波導示意圖。波導長度L、波導寬度W和波導厚度d分別由掃描移動距離，聚焦成絲長度和成絲的截面尺度決定。多層掃描可以增加波導厚度，而多次掃描用于提高折射率增量。由上述公式可以得到MMI光波導長度和輸入輸出位置計算如表1所述表1 多模干涉分束器不同分束類型的光束輸入輸出位置(N是光束數目)
對光波導的傳輸和耦合模擬計算，需要求解Helmholtz方程。一般的計算都是基于有限差分光束傳輸方法(Beam Propagation Method，簡稱BPM)。下面采用BPM方法分別對階梯型和近高斯型分布的MMI波導調制區域進行傳輸擬合結果。透明基底材料折射率設為1.468；折射率增量范圍取3×10-4～3×10-3；耦合輸入He-Ne激光波長632.8nm；實驗能獲得MMI結構的幾何參數長度L可調范圍0～20mm，寬度范圍40～250μm，厚度范圍1.5μm以上。
如圖3和圖4所示，分別為聚焦He-Ne激光耦合輸入到折射率階梯型和高斯型分布的MMI多模光波導的傳輸情況。根據本發明的構思，采用本發明提供的裝置和方法得到的MMI分束器的波導傳輸情況如圖3所示。根據上述擬合結果進行分析，得知制備參數對MMI分束器的影響有1)多模成像跟折射率增量Δn有密切關系根據公式(5)，Δn越大工作頻率V越高、模式越多、越容易形成多像點，周期長度也越小；2)平面光波導寬度波導寬度較小時，工作頻率V越小、波導模式越少、不易形成多像點，要得到多光束輸出最好采用較寬的波導結構；3)平面光波導厚度熔融石英體內平面光波導截止厚度為0，只要工作頻率V足夠小，滿足單模傳輸條件，厚度大小就不影響激光的傳輸。
4)平面光波導橫截面折射率分布波導橫截面的折射率分布影響很大，階梯型折射率分布和高斯型折射率分布形成不同的多模干涉模式。而且對折射率分布的對稱性要求很高，不對稱截面的MMI分束器獲得的分光光束也將不對稱；5)輸入激光準確的輸入位置對像點形成很重要，激光輸入輸出的位置如表1所示。根據自映像原理，輸出端各光束的截面大小由輸入激光的截面大小直接決定。
根據上述的構思，本發明的另一個目的在于提供一種制備上述的MMI分束器的裝置，包括用于產生激光束的激光裝置；用于調節激光束能量和脈寬的調節裝置；用于控制激光曝光的快門裝置；用于激光束整形和濾波的濾波裝置；用于聚焦激光束的聚焦裝置；用于裝載和移動樣品的工作平臺；用于檢測激光束寫入狀態的同步監控裝置；用于根據探測裝置反饋的信息控制快門裝置和移動平臺的控制裝置。
其中，所述的激光裝置采用鈦藍寶石飛秒激光器或光纖飛秒激光器等短脈沖激光系統，其輸出激光脈沖的重復頻率可以為1Hz到幾十MHz可變調節，輸出波長可變，脈寬從幾個飛秒到幾百皮秒等范圍可變。
其中，所述的濾波系統可以包括空間濾波器。一般情況下，激光輸出模式較好，不需要空間濾波。在輸出模式較差時，將飛秒激光光源輸出的光束用小孔進行空間濾波，再用倒置望遠鏡進行空間擴束，以得到較好的空間基模，并注入聚焦系統。
其中，所述的聚焦裝置采用平場復消色差低數值孔徑等顯微物鏡對激光束聚焦。焦點必須在樣品體內合適距離，以利于產生自陷激光束。根據制備MMI結構所需的寬度，選用相應低數值孔徑的顯微鏡。一般情況下，也可采用普通的低數值孔徑透鏡聚焦。
所述的控制裝置可以是實時加工計算機控制系統。為了在數控平臺移動的同時精確地將波導制備在相應位置上，可以采用計算機同步實時控制快門和數控平臺。利用快門，在數控平臺移動到相應位置時，快門打開放出激光脈沖進行加工制備。所用快門可以由計算機控制、與三維數控平臺同步工作。這種快門可準確實現短時間曝光，如可達1/8000秒以下的曝光量。這樣對重復率低的脈沖激光，可選取到單個脈沖。
本發明的又一個目的在于提供一種利用上述的裝置制備上述的MMI分束器的方法，利用超短激光脈沖與普通激光不同的超快超強特性，使其聚焦到透明的電介質材料體內引起非線性多光子過程，從而改變聚焦區域的折射率。該方法采用低數值孔徑物鏡將超短激光聚焦到透明的電介質材料體內成絲，一次成型制備多模干涉分束器，具體包括如下步驟(1)產生激光脈沖步驟，調整激光裝置，形成脈寬為幾個飛秒至幾百個皮秒、脈沖能量nJ至mJ的激光束；其中，所述的激光脈沖可以采用鈦藍寶石飛秒激光器等及脈沖放大系統發生，其輸出激光脈沖的重復頻率可以為1Hz到幾十MHz可變調節。
(2)整形和濾波步驟，利用整形和濾波裝置處理激光束，并注入聚焦裝置；(3)聚焦步驟，根據制備MMI結構所需的寬度，選用數值孔徑合適的顯微鏡將超短激光脈沖聚焦至對激光波長透明的電介質材料樣品體內，激光脈沖與電介質材料相互作用產生自陷等非線性光學效應，形成長絲狀傳輸，長絲光束引起傳輸區域折射率改變；(4)定位步驟，將樣品放置在移動平臺上，通過調節移動平臺使激光束的焦點達到樣品體內的寫入位置，其中，所述的樣品是透明的電介質材料，優選為熔融石英、摻雜和無摻雜光學玻璃、無機鹽晶體和有機聚合物等透明電介質材料；(5)寫入步驟，打開快門輸出激光束，同時移動樣品，讓折射率變化長絲在樣品內橫向移動，從而形成層狀的折射率改變，實現MMI分束器的制備。
其中，快門用于控制激光脈沖在樣品中寫入的開始和停止，即在樣品移動到相應位置時，快門打開放出激光脈沖進行加工制備，制備完畢時快門關閉，從而能夠在樣品移動的同時精確地將MMI結構制備在相應位置上。所述的快門可以由控制裝置同步實時控制。
由上述步驟，則可以制得本發明所提供的三維多模干涉分束器。其中，在所述的寫入步驟，激光束在樣品體內可以通過多次重復寫入，以提高波導折射率。
此外，根據光學元件在較高溫度工作的穩定性要求和/或光學元件在對輸入信號偏振敏感性要求，還可以在相應的溫度下對制得的多模干涉分束器進行退火處理。
在上述的步驟2)中，一般在飛秒激光輸出模式較好的情況下，不需要空間濾波。在輸出模式較差時，為制備高質量均勻的MMI波導，可以用小孔空間濾波器進行空間濾波，再用倒置顯微鏡進行空間擴束，以得到較好的空間基模，并注入聚焦系統。
在上述的步驟4)和5)中，可以利用數控平移臺來控制樣品的移動方向和速度，讓樣品垂直于激光束移動，從而使激光束在樣品內自陷傳播產生的折射率變化長絲在樣品內橫向移動。或者采用轉鏡系統，讓激光焦點在材料體內進行掃描制備。
其他特殊形狀的MMI分束器的制備，如弧形、X型、Y型和T型等，只要控制激光在樣品中的行走方向即可得到。多個MMI分束器的組合構成的波導間相互耦合，制備方法也類似先設計好耦合區域的耦合長度和MMI波導之間耦合距離等有關參數，通過精密控制樣品相對光束的移動即可獲得。與波導相關的光學器件的制備，如MMI波導型Mach-Zehnder干涉儀、光調制器、光開關、光分波/合波器等，同理只需修改樣品移動平臺控制參數即可。
因此，利用本發明的方法，只要控制激光脈沖能量、脈寬、聚焦物鏡數值孔徑、樣品移動速度、重復掃描次數和退火工藝等參數，即可實現快速高精度制備光波導及其相關器件。與現有其他制備方法相比，本發明的方法具備如下優點(1)制備方法簡單，容易實施，一次成型。只需將激光束準直輸入到樣品相應位置上，精確控制樣品移動即可；(2)容易制備各種形狀的MMI單導光波導結構和多MMI分束器組合結構。不同形狀的光波導只需改變樣品移動方向即；(3)適用范圍廣，對于由平面光波導構成的光子器件，如耦合器、Mach-Zehnder干涉儀、光調制器、光開關、光合波/分波器等的制備，只需控制這些器件中相應MMI結構的加工即可；(4)便于集成器件的加工，將激光直接聚焦到樣品體內，可在樣品體內多層制備，或將各種器件直接連接成一體，結構精致緊湊，減少各種損耗；(5)MMI結構本身具有很好的容差性，超短激光脈沖又具有加工質量精細的優點，而且是無接觸式的。利用超短激光脈沖與樣品極短時間作用，避免熱積累效應等不良因素的影響。無接觸式加工可避免對樣品的損壞，適應各種透明樣品加工，制備的MMI結構再經過退火處理會更加均勻平整，提高傳輸效率；(6)制備速度快，設備價格也不高，材料透明穩定適合工業應用。
綜上，本發明的技術效果在于，根據MMI多模光波導結構對折射率改變量范圍大的特點，即平面波導的折射率增量從10-5到10-1跨越4個數量級都可作為MMI分束器的多模波導，提出采用飛秒激光在普通玻璃和熔融石英等透明材料體內制備MMI分束器的方法。選用低數值孔徑的顯微物鏡來聚焦飛秒激光脈沖用以制造MMI分束器和及其相關器件，如可集成耦合器、光分波/合波器的技術，第一次實現了超短脈沖激光在透明電介質材料體內利用自組織實現三維MMI分束器及其相關器件的快速制備，并由此提供了一種嶄新的立體MMI分束器結構。
圖1是熔融石英體內平面光波導的導波模式傳輸示意圖；圖2是多模干涉分束器的示意圖；圖3表示本發明提供的折射率階梯型的MMI波導傳輸情況；圖4表示折射率調制非均勻的MMI波導傳輸情況；圖5是制備多模干涉分束器的裝置實施例的示意圖；圖6為MMI分束器實施例的平面光波導的側面圖；圖7為MMI分束器實施例的平面光波導的截面圖；圖8為MMI分束器的傳輸和輸出檢測光路圖；圖9是多模干涉分束器又一實施例的雙波導光耦合器的截面圖；圖10表示He-Ne激光耦合輸入到陣列分束器獲得的1×3×2的陣列分束；圖11表示多次掃描將折射率增量從10-4提高到10-3的圖示；圖12表示400℃和600℃退火改變折射率結構高溫工作穩定性和偏振敏感性的圖示；圖中，相同的標號表示相同的部件，其中1-超短脈沖激光器， 2-激光束， 3-能量和脈寬調諧測量裝置，4-快門，5-光束整形和濾波器，6-聚焦物鏡， 7-樣品， 8-三維數控平移臺，9-CCD探測器， 10-信號傳輸線，11-計算機， 12-測試激光器，13-測試激光束， 14-起偏器，15-透鏡， 16-檢偏器。
具體實施例方式
以下通過優選的實施例詳細描述本發明，但不構成對本發明的限制。
實施例一單MMI波導結構分束器及其制備裝置和方法如圖5所示，為制備多模干涉分束器(MMI)的裝置的示意圖，包括超短脈沖激光器1、能量和脈寬調諧測量裝置3、快門4、光束整形和濾波器5、聚焦物鏡6、三維數控平移臺8、CCD探測器9、信號傳輸線10和計算機11，各部件之間的連接關系如圖5所示，其中，能量和脈寬調諧測量裝置3、快門4、三維數控平移臺8和CCD探測器9都是通過信號傳輸線和計算機連接。其中，超短脈沖激光器1采用鈦藍寶石飛秒激光器，其輸出激光光束2波長為800nm(納米)左右，脈寬約為120fs(飛秒)。
利用上述裝置，制備單MMI波導結構分束器的過程如下由超短脈沖激光器1輸出的激光束2經過小孔空間濾波器5濾波得到空間基模，經能量衰減器和能量計(圖中未給出)調節得到適當能量后，經快門4，再用低數值孔徑的聚焦顯微物鏡6進行聚焦到數控平移臺8上的樣品7上，所述的樣品采用普通玻璃作為原料。所用單脈沖能量約1.5μJ，由于激光束2在樣品7體內造成折射率改變而產生的長絲大約為150μm。當以10.0μm/s的速度垂直自陷激光光束移動樣品時，橫截面為2.0μmm×150μm的導光結構可形成，MMI傳輸結構的長度可以由樣品的移動距離確定。激光完成第一次掃描之后，繼續重復掃描4次以提高折射率改變量。由側面和縱向的CCD探測器9，可得到分別如圖6和圖7所示的平面光波導的側面圖和截面圖。在上述的過程中。通過計算機11同步實時控制快門4和三維數控平移臺8，以使得在三維數控平移臺8移動的同時精確地將波導制備在樣品7內合適的位置上。
由上述的裝置和方法，即制得以普通玻璃為原料的單MMI波導結構分束器。
采用如圖8所示檢測光路對其進行測試，該測試由測試激光器12、測試激光光束13、起偏器14、透鏡15和檢偏器16組成。采用He-Ne激光耦合輸入，測得近場分束情況，由光柵衍射法推導得到導光部分與周圍體介質的折射率之差Δn≈0.0014。采用BPM方法計算得到分束情況基本一致。
實施例二雙MMI分束器組成的陣列分束器及其制備裝置和方法制備雙MMI分束器組成的陣列分束器的裝置和實施例一的裝置相同，步驟也基本相同，具體過程如下由超短脈沖激光器1輸出的激光束2經過光束整形和濾波器5濾波得到空間基模，經能量衰減器和能量計(圖中未給出)調節得到適當能量后，經快門4，再用聚焦物鏡6進行聚焦到三維數控平移臺8上的樣品7上，所述的樣品采用熔融石英為原料制成。所用單脈沖能量約2.0μJ，由于激光束在樣品7體內造成折射率改變而產生的長絲大約為200μm。當以10.0μm/s的速度垂直自陷激光光束移動樣品時，橫截面為2.5μm×200μm的平面光波導結構可行成，平面光波導長度可以由樣品的移動距離確定。激光完成第一次掃描之后，繼續重復掃描4次以提高折射率改變量。將樣品移回起始位置，在與第一條波導上下相隔7.5μm處以同樣速度和能量制備另一個MMI分束器。圖9為制得的雙波導光耦合器的截面圖，側面圖和單MMI波導一致。同樣道理，可再寫入一條MMI分束器，成為三MMI耦合器，寫入N個MMI波導，每個波導形成M個分光光束，形成1×M×N陣列分束器。
通過以上的裝置和方法，獲得具有三維空間陣列分束功能的MMI分束器。采用與實施例一相同的檢測光路，測得從其中任意MMI分束器，均能在另一分束器耦合得到輸出光。如圖10所示，表示He-Ne激光耦合輸入到陣列分束器獲得的1×3×2的陣列分束。
上述制備方法中，采用了多次掃描保持多模波導的寬度不變，提高折射率增量。如圖11所示，表示多次掃描將折射率增量從10-4提高到10-3。
此外，雖然用飛秒激光制備的MMI分束器在室溫下放置都很穩定，但當元件工作在比較高的溫度下，比如400℃和600℃，折射率增量Δn將隨工作時間延長而逐漸降低，限制了光學器件在高溫環境條件下穩定工作。因此，還可以通過MMI分束器制得后的退火條件來改善其在不同溫度下的穩定性能。退火處理還能降低光學結構的傳輸損耗，減小成絲的不均勻性、抑制噪聲并提高傳輸效率。如圖12，表示分別經過400℃和600℃退火處理后，MMI分束器的折射率結構高溫工作穩定性和偏振敏感性的改變情況。
以上通過實施例詳細描述了MMI的制備方法，本領域的技術人員應當理解，在不超出本發明實質和范圍的情況下，可以進行一定的修改和變形。
權利要求
1.一種多模干涉分束器，其特征在于，包括透明的電介質材料樣品和在其體內形成的三維多模干涉光波導。
2.如權利要求1所述的多模干涉分束器，其特征在于，所述的透明的電介質材料為熔融石英或普通玻璃。
3.如權利要求1所述的多模干涉分束器，其特征在于，所述的三維多模干涉光波導是單層的或多層陣列式的光波導。
4.一種用于制備多模干涉分束器的系統，包括用于產生激光束的激光裝置；用于調節激光束能量和脈寬的調節裝置；用于控制激光曝光的快門裝置；用于激光束整形和濾波的濾波裝置；用于聚焦激光束的聚焦裝置；用于裝載和移動樣品的工作平臺；用于檢測激光束寫入狀態的同步監控裝置；用于根據探測裝置反饋的信息控制快門裝置和移動平臺的控制裝置。
5.一種制備多模干涉分束器的方法，其特征在于，采用低數值孔徑的聚焦物鏡將超短激光聚焦到透明的電介質材料體內成絲，一次成型制備多模干涉分束器。
6.如權利要求5所述的制備多模干涉分束器的方法，其特征在于，包括如下步驟(1)產生激光脈沖步驟，調整激光裝置，形成脈寬為幾個飛秒至幾百個皮秒、脈沖能量nJ至mJ的激光束；(2)整形和濾波步驟，利用整形和濾波裝置處理激光束，并注入聚焦裝置；(3)聚焦步驟，根據所要制備的多模干涉分束器的結構，通過相應的透鏡將激光束聚焦到移動平臺上某一點；(4)定位步驟，將樣品放置在移動平臺上，通過調節移動平臺使激光束的焦點達到樣品體內的寫入位置；(5)寫入步驟，打開快門輸出激光束，同時通過控制裝置讓移動平臺按照一定的軌跡移動，使激光束焦點在樣品體內移動，產生三維的多模干涉光波導；其中，所述的樣品是透明的電介質材料。
7.如權利要求6所述的制備多模干涉分束器的方法，其特征在于，還包括在寫入步驟之后進行的退火步驟根據光學元件在較高溫度工作的穩定性要求，在相應的溫度下對多模干涉分束器進行退火處理。
8.如權利要求6所述的制備多模干涉分束器的方法，其特征在于，還包括在寫入步驟之后進行的退火步驟根據光學元件在對輸入信號偏振敏感性要求，在相應的溫度下對多模干涉分束器進行退火處理。
9.如權利要求5-8所述的制備多模干涉分束器的方法，其特征在于，所述的透明的電介質材料為普通玻璃或熔融石英。
10.如權利要求6-8所述的制備多模干涉分束器的方法，其特征在于，在所述的寫入步驟中，激光束在樣品體內可以多次重復寫入。
全文摘要
本發明公開了一種多模干涉(MMI)分束器及其制備裝置和方法。所述的MMI分束器包括透明電介質材料樣品和在其體內形成的三維多模干涉光波導。所述的制備裝置包括用于產生激光束的激光裝置；用于調節激光束能量和脈寬的調節裝置；用于控制激光曝光的快門裝置；用于激光束整形和濾波的濾波裝置；用于聚焦激光束的聚焦裝置；用于裝載和移動樣品的工作平臺；用于檢測激光束寫入狀態的同步監控裝置；用于根據探測裝置反饋的信息控制快門裝置和移動平臺的控制裝置。所述的制備方法是采用低數值孔徑的聚焦物鏡將超短激光聚焦到透明電介質材料體內成絲，一次成型制備MMI分束器，包括如下步驟產生激光脈沖；整形和濾波步驟；聚焦步驟；定位步驟；寫入步驟。
文檔編號G02B6/10GK1885075SQ20051001196
公開日2006年12月27日 申請日期2005年6月20日 優先權日2005年6月20日
發明者李焱, 郭亨長, 蔣紅兵, 楊宏, 龔旗煌 申請人:北京大學