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等離子顯示屏顯影、剝膜和刻蝕加工一體化裝置的制作方法

文檔序號:2784921閱讀:337來源:國知局
專利名稱:等離子顯示屏顯影、剝膜和刻蝕加工一體化裝置的制作方法
技術領域
本實用新型涉及一種制作等離子顯示屏用的裝置,特別涉及一種對等離子顯示屏進行顯影、剝膜、刻蝕加工的一體化裝置。
背景技術
當采用光刻技術,在等離子顯示屏的研發線進行研發的過程中,需對等離子顯示屏上的涂層分別進行顯影、刻蝕和剝膜的加工作業。目前完成上述三道工序的裝置通常都是相對獨立的,即采用顯影機、剝膜機和刻蝕機三種設備來完成不同功能的作業。此三種設備體積都比較大,結構上都是通過均勻分布的噴嘴,對等離子顯示屏PDP上的圖層均勻噴灑藥液,藥液通常是具有一定溫度和濃度的堿液或酸液,當藥液與等離子顯示屏PDP上的圖層發生充分反應后,通過純水清洗、高壓空氣風刀風干后,完成各自的功能。他們有相同的清洗區、風刀風干區及PDP的移栽機構等。每臺設備長約16米,寬2.2米,這三道工序所作用的設備需占用潔凈廠房近300m2,清洗、干燥工位功能設置重復。

發明內容
本實用新型的目的在于克服上述現有技術的缺點,提供了一種能夠完成等離子顯示屏顯影、剝膜和刻蝕加工的一體化裝置,采用本裝置不僅能夠保證等離子顯示屏的制造要求,同時還能夠減少設備體積,降低設備購置成本。
為達到上述目的,本實用新型采用的技術方案是包括配置有傳送帶的送入平臺和送出平臺,其特點是,在送入平臺和送出平臺之間依次設置有刻蝕工位、一號純水清洗工位、剝膜工位、顯影工位、二號純水清洗工位和風刀風干工位。
本實用新型的另一特點是刻蝕工位的進出口處還分別設置有自動隔離門。
本實用新型在一臺設備上設置有刻蝕、剝膜、顯影三大功能,將相似的工位公用,減掉多余的工位配置,即由于剝膜和顯影都使用弱堿性液,可以共用純水清洗工位,刻蝕采用酸性液,單獨設置純水清洗工位;所有的功能作業完成后,用同一處風刀風干工位進行干燥。這樣比三臺獨立設備節約了兩個純水清洗工位,兩個風刀風干工位和兩條屏傳送線。


附圖是本實用新型結構示意圖。
具體實施方式
下面結合了附圖對本實用新型的結構原理的工作原理作進一步詳細說明。
參見附圖,本實用新型包括配置有傳送9的送入平臺1和送出平臺8,在送入平臺1和送出平臺8之間依次設置有刻蝕工位2、一號純水清洗工位3、剝膜工位4、顯影工位5、二號純水清洗工位6和風刀風干工位7,由于刻蝕工位2與剝膜工位4相鄰,為了使兩個工位的酸堿氣氛不相互影響,在刻蝕工位2的進出口處還分別設置有自動隔離門10。
本實用新型的工作過程如下顯影作業首先將待顯影的等離子顯示屏11放置在送入平臺1上,經傳送帶9送入顯影工位,此時刻蝕工位2、一號純水清洗工位3、剝膜工位4關閉,等離子顯示屏11通過,等離子顯示屏11進入顯影工位5進行顯影,顯影完成后進入二號純水清洗工位6,經二號純水清洗工位6清洗后,進入風刀風干工位7進行風干,再經送出平臺8送出,顯影作業完成;
剝膜作業將待剝膜的等離子顯示屏放置在送入平臺1上,經傳送帶9送入剝膜工位4,此時刻蝕工位2和一號純水清洗工位3關閉,等離子顯示屏11通過,等離子顯示屏11進入剝膜工位4進行剝膜,剝膜完成后,顯影工位5關閉,等離子顯示屏11通過,并進入二號純水清洗工位6對等離子顯示屏11進行清洗,清洗完成后進入風刀風干工位7進行風干,再經送出平臺8送出,剝膜作業完成。
刻蝕作業將待刻蝕的等離子顯示屏放置在送入平臺1上,等離子顯示屏11經傳送帶9送入刻蝕工位2進行刻蝕,刻蝕完成后,等離子顯示屏11被送入一號純水清洗工位3進行清洗,此時剝膜工位4、顯影工位5和二號清洗工位6關閉,清洗完成后,經傳送帶9送入風刀風干工位7風干,再經送出平臺8送出,刻蝕作業完成。
由于刻蝕工位2與剝膜工位4相鄰,為了兩個工位的酸堿氣氛不相互影響,在刻蝕工位2的進出口處,加裝自動隔離門10,在保證等離子顯示屏11正常通過和作業的情況下,始終處于關閉狀態。
采用本實用新型僅占用潔凈面積約100m2,節約設備采購費用近100萬美元。
權利要求1.一種等離子顯示屏顯影、剝膜和刻蝕加工一體化裝置,包括配置有傳送帶[9]的送入平臺[1]和送出平臺[8],其特征在于在送入平臺[1]和送出平臺[8]之間依次設置有刻蝕工位[2]、一號純水清洗工位[3]、剝膜工位[4]、顯影工位[5]、二號純水清洗工位[6]和風刀風干工位[7]。
2.根據權利要求1所述的等離子顯示屏顯影、剝膜和刻蝕加工一體化裝置,其特征在于所說的刻蝕工位[2]的進出口處還分別設置有自動隔離門[10]。
專利摘要一種等離子顯示屏顯影、剝膜和刻蝕加工一體化裝置,包括帶有傳送帶的送入平臺和送出平臺,在送入平臺和送出平臺之間依次設置有刻蝕工位、一號純水清洗工位、剝膜工位、顯影工位、二號純水清洗工位和風刀風干工位。本實用新型在一臺設備上設置有刻蝕、剝膜、顯影三大功能,將相似的工位公用,減掉多余的工位配置,由于剝膜和顯影都使用弱堿性液,可以共用純水清洗工位,刻蝕采用酸性液,單獨設置純水清洗工位。所有的功能作業完成后,用同一處風刀風干工位進行干燥。這樣比三臺獨立設備節約了兩個純水清洗工位,兩個風刀風干工位和兩條屏傳送線。
文檔編號G03F7/26GK2833869SQ20052007940
公開日2006年11月1日 申請日期2005年9月19日 優先權日2005年9月19日
發明者徐家舒, 丁興隆, 王振江 申請人:彩虹集團電子股份有限公司
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