專利名稱：寬帶增透膜的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種光學增透膜，特別涉及一種寬帶增透膜。
背景技術：
高檔光學儀器根據應用的要求，需要提高光能透過率或按使用要求將光束按比例 分開或要折反光路又不能損失光能，尤其是背投成像系統中，這種要求相對更高寬帶增透 的波長在420-700匪范圍內要求高透過，光反射率要小于0.5%;因此光學部件要達到此要 求，必須使用日本或韓國或其它國家的高檔鍍膜機對光學元件鍍制薄膜。這類鍍膜機重復 性能好，可以同時用幾種鍍膜材料(最多有十四個坩堝可以鍍十四種膜料)，使用晶控儀控 制，采用規則膜系控制膜層的幾何厚度，重復鍍制幾十層膜來達到上述技術要求。但這種方 式設備投入資金大，工作人員工作時間長，勞動強度高。由于國產低成本的鍍膜機重復性、 穩定性差，無法完成數十層鍍膜的需要，致使我國的光學成像產品一直處于低檔水平，如要 使用高檔光學儀器必須從國外進口整機、部件或進口鍍膜機。隨著光學技術的快速發展，背 投成像技術也隨之蓬勃發展，其核心部件——光學引擎(尤其是合色棱鏡)使用光學元件 多，相應的薄膜種類較多，必須從國外進口整機、部件或進口鍍膜機，大大提高了成本，同時 制約了國內光學技術的發展。因此，需要開發一種利用國產鍍膜機進行鍍制的寬帶增透膜，有機控制膜層的組 成、幾何厚度和物理厚度，使鍍制的增透膜層在420-700匪范圍內光反射率小于0. 5% ；同 時鍍膜層數由使用進口設備的幾十層減少到幾層，鍍膜材料減少到少數幾種。
實用新型內容有鑒于此，本實用新型提供一種寬帶增透膜，有機控制膜層的組成、幾何厚度和物 理厚度，使鍍制的增透膜層在420-700NM范圍內光反射率小于0. 5%，同時鍍膜層數由使用 進口設備的幾十層減少到幾層，鍍膜材料減少到少數幾種。本實用新型的寬帶增透膜，由光學基底依次向外包括第一層氧化鋁層、第二層 氧化鋯層和第三層氟化鎂層；第一層氧化鋁層的厚度為(透射率極大值所對應的最小膜 厚-60nm) X0. 106-透射率極小值所對應的最小膜厚；第二層氧化鋯層的厚度為40nm-(透 射率極大值所對應的最小膜厚-透射率極小值所對應的最小膜厚)X0. 618+透射率極小 值所對應的最小膜厚；第三層氟化鎂層的厚度為(90nm-透射率極小值所對應的最小膜 厚)X0. 28+透射率極小值所對應的最小膜厚；計算透射率極大值和極小值的透射光波長 為 420nm 至 700nm。本實用新型的有益效果本實用新型的寬帶增透膜，利用國產真空鍍膜機進行鍍 制，采用精密計算設計的非規則膜系，有機控制膜層的組成、幾何厚度和物理厚度，使鍍制 的增透膜層在420-700匪范圍內光反射率小于0. 5%，同時鍍膜層數由使用進口設備的幾 十層減少到三層，鍍膜材料減少到三種，簡化工藝流程，降低勞動強度；而且鍍膜后的光學 元件表面有防生酶、生霧的作用；本實用新型利用不同折射率的介質在真空、高溫狀態下溶解、按設計規定的膜系蒸發而后吸附到光學基底上，經過表面鍍膜的光學元件，其光學性能 可以達到光學儀器的各種使用需求；本實用新型改變光學元件薄膜的鍍制定式，利于國產 鍍膜機的推廣使用，提高元件附加值，同時對提高國產光學儀器質量和批量生產具有非常
重要意義。
以下結合附圖
和實施例對本實用新型作進一步描述。附圖為本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
附圖為本實用新型的結構示意圖，如圖所示由光學基底1依次向外包括第一層 氧化鋁層2、第二層氧化鋯層3和第三層氟化鎂層4 ；第一層氧化鋁層2的厚度為(透射率 極大值所對應的最小膜厚-60nm) X0. 106-透射率極小值所對應的最小膜厚；第二層氧化 鋯層3的厚度為40nm-(透射率極大值所對應的最小膜厚-透射率極小值所對應的最小膜 厚)X0. 618+透射率極小值所對應的最小膜厚；第三層氟化鎂層4的厚度為(90nm-透射率 極小值所對應的最小膜厚)X0. 28+透射率極小值所對應的最小膜厚；計算透射率極大值 和極小值的透射光波長420nm至700nm。本發明中，根據膜層透射率公式
權利要求1. 一種寬帶增透膜，其特征在于由光學基底依次向外包括第一層氧化鋁層、第二層 氧化鋯層和第三層氟化鎂層；第一層氧化鋁層的厚度為(透射率極大值所對應的最小膜 厚-60nm) X0. 106-透射率極小值所對應的最小膜厚；第二層氧化鋯層的厚度為40nm-(透 射率極大值所對應的最小膜厚-透射率極小值所對應的最小膜厚)X0. 618+透射率極小 值所對應的最小膜厚；第三層氟化鎂層的厚度為(90nm-透射率極小值所對應的最小膜 厚)X0. 28+透射率極小值所對應的最小膜厚；計算透射率極大值和極小值的透射光波長 為 420nm 至 700nm。
專利摘要本實用新型公開了一種寬帶增透膜，由光學基底依次向外包括第一層氧化鋁層、第二層氧化鋯層和第三層氟化鎂層；本實用新型利用國產真空鍍膜機進行鍍制，采用精密計算設計的非規則膜系，有機控制膜層的組成、幾何厚度和物理厚度，使鍍制的增透膜層在420-700NM范圍內光反射率小于0.5％，同時鍍膜層數由使用進口設備的幾十層減少到三層，鍍膜材料減少到三種；而且鍍膜后的光學元件表面有防生酶、生霧的作用；本實用新型改變光學元件薄膜的鍍制定式，利于國產鍍膜機的推廣使用，提高元件附加值，同時對提高國產光學儀器質量和批量生產具有非常重要意義。
文檔編號G02B1/11GK201859226SQ20102023513
公開日2011年6月8日 申請日期2010年6月24日 優先權日2010年6月24日
發明者王貴海 申請人:重慶天締光電有限公司