專利名稱：光致抗蝕劑膜的剝離液組合物的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，特別適用于封裝基板制程中所用的厚度為100 μ m以上的光致抗蝕劑膜的剝離，也適用于PCB、FPC、TFT、IXD的光致抗蝕劑膜的剝離。
背景技術：
在PCB、FPC、TFT、IXD的制程中，線路圖形的轉移是必須的步驟。在實現線路圖形轉移，光致抗蝕劑的使用起著至關重要的作用。在“成像”完成后，光致抗蝕劑膜能否順利完全去除，直接影響著蝕刻等后工序。封裝基板可為芯片提供電連接、保護、支撐、散熱、組裝等功效，以實現多引腳化，縮小封裝產品體積、改善電性能及散熱性、超高密度或多芯片模塊化的目的。封裝基板制程中所用光致抗蝕劑膜的厚度(10011、12(^!11)，比較在？08、？ (、 TFT、IXD中所常用的光致抗蝕劑膜的厚度(30μπι、40μπι)增加很多。對于薄干膜的剝離， 中國專利CN14^659A中提出季銨氫氧化物、水溶性胺、水溶性有機溶劑組合物剝離光致抗蝕劑膜。中國專利CN101692155A提出了一種包含環胺或/和二胺、乙二醇醚類、極性溶劑的光致抗蝕劑膜剝離組合物。中國專利CN101544932A中提出了含有羥胺、溶劑、胺的光致抗蝕劑膜剝離組合物。對于大于100 μ m的厚干膜，用現有的剝離方法，在較低溫度、較短時間內難以完全退除干凈。雖然通過延長接觸時間，提高工作溫度，或者增加溶液的攻擊性可以使剝離效果得到改善，但是也帶來了生產效率降低，設備負荷增加，基材腐蝕加重等新問題。
發明內容
本發明提供一種光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，特別適用于封裝基板的厚度為 100 μ m以上的光致抗蝕劑膜的剝離，以克服現有技術剝離方法無法完全將光致抗蝕劑膜退除干凈、且容易使基材腐蝕加重等技術問題。本發明的技術方案如下一種光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，包含(1)有機堿，含量為5_50wt% ；( 有機溶劑，含量為l-60Wt% ；(3)防腐蝕劑，含量為0. 5-15wt% ；(4)余量為水。本發明的剝離液組合物的較佳的配方為(1)有機堿，含量為 10_40wt% ；(2)有機溶劑，含量為5_50wt % ；(3)防腐蝕劑，含量為I-IOwt% ；(4)余量為水。本發明的剝離液組合物的更佳的配方為
(1)有機堿，含量為 15_30wt% ；( 有機溶劑，含量為10-40Wt% ；(3)防腐蝕劑，含量為2-8wt% ；(4)余量為水。上述的有機堿優選烷醇胺、季胺堿、膽堿、羥胺、N，N_ 二乙基羥胺中的任意一種、任意兩種或任意兩種以上以任意比例混合。實際上，一般常用的有機堿均能夠應用于本發明。上述的有機溶劑優選N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、 二甲基亞砜、烷基醇醚、烷基或芳香基醇中的任意一種、任意兩種或任意兩種以上以任意比例混合。實際上，一般常用的有機溶劑均能夠應用于本發明。上述的防腐蝕劑優選芳香族羥基化合物或/和唑類化合物中的任意一種、任意兩種或任意兩種以上以任意比例混合。實際上，一般常用的金屬防腐劑，特別是銅面防腐劑均能夠應用于本發明。上述芳香族羥基化合物優選沒食子酸、單寧酸、植酸、鄰苯二酚、對苯二酚中的至少一種；唑類化合物優選三氮唑、甲基三氮唑、苯并三氮唑、苯并四氮唑、氨基四氮唑、巰基苯并噻唑中的任意一種、任意兩種或任意兩種以上以任意比例混合。本發明光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，用于封裝基板的光致抗蝕劑膜的剝離，也用于PCB、FPC、TFT、IXD的光致抗蝕劑膜的剝離。本發明具有以下優點1、對于厚度為ΙΟΟμπι以上的光致抗蝕劑膜的剝離效果優秀。2、實施溫度低 (55-750C )、時間短(< 30min)。3、體系低泡性，無須添加消泡劑，因此，板面無硅斑、凝膠缺陷。4、碎膜、溶膜效果好，易于生產操作。
具體實施例方式本發明的光致抗蝕劑剝離劑組合物是含有有機堿、有機溶劑、防腐蝕劑以及水的組合物。本發明中所述的有機堿包括烷醇胺、季胺堿、膽堿、羥胺、N, N- 二乙基羥胺中的一種或兩種以上任意混合。作為烷醇胺的具體例，可以選自單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、 2-(2-氨基甲氧基)乙醇、2-(2-乙氧基)乙醇、N-甲基乙醇胺、N，N-二甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N- 丁基乙醇胺、單異丙基醇胺、二異丙基醇胺、三異丙基醇胺中的1種或2種。作為季胺堿的具體例，可以選自四甲基氫氧化銨、三甲基乙基氫氧化銨、二甲基二乙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、甲基三丁基氫氧化銨、(2-羥基乙基)三甲基氫氧化銨中的1種或2種。所述有機堿的含量為5-50wt%， 優選10-40Wt%，更優選15-30Wt% .濃度小于5wt%時，起不到攻擊光致抗蝕劑膜的作用； 大于50Wt%時，對基材的攻擊腐蝕加重。本發明中所述的有機溶劑包括N-甲基吡咯烷酮、N，N- 二甲基甲酰胺、N，N- 二甲基乙酰胺、二甲基亞砜、烷基醇醚、烷基或芳香基醇中的一種或兩種以上任意混合。作為烷基醇醚的具體例，可以選自乙二醇一甲基醚、乙二醇一乙基醚、乙二醇一丁基醚、乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、丙二醇一甲基醚、二乙二醇一甲基醚、二乙二醇一乙基醚、二乙二醇一丙基醚、二乙二醇一丁基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇甲乙醚、二丙二醇一甲基醚、二丙二醇一丙基醚、二丙二醇一丁基醚中的1種或2種以上。作為烷基或芳香基醇的具體例，可以選自苯氧乙醇、異丙氧乙醇、苯甲醇、苯乙醇、丙三醇、丁醇、仲丁醇、乙二醇中的1種或2種以上。所述有機溶劑含量為為l-60wt%，優選5-50wt%，更優選 10-40wt%.濃度小于Iwt%時，起不到改善溶解光致抗蝕劑膜的作用；大于60Wt%時，得不到更好的改善溶解膜層的效果，而且體系的去水要求高，成本高。本發明中所述的防腐蝕劑包括芳香族羥基化合物和唑類化合物中的至少一種。芳香族羥基化合物具體例有沒食子酸、單寧酸、植酸、鄰苯二酚、對苯二酚中的至少一種。唑類化合物具體例有三氮唑、甲基三氮唑、苯并三氮唑、苯并四氮唑、氨基四氮唑、巰基苯并噻唑中的一種或兩種以上任意混合。所述的防腐蝕劑含量0. 5-15wt%，優選I-IOwt %，更優選 2-8wt%.濃度小于0.5%時，得不到充分的防止基材金屬被腐蝕的作用；大于15%時，降低光致抗蝕劑膜層的剝離速率。本發明中水是包括離子交換水、純水、超純水，含量為5-95wt% .含量小于5%時， 組合物剝離能力降低，成本高；含量大于95%時，剝離能力低。本發明所述的光致抗蝕劑剝離劑組合物，使用溫度無特別限定，優選55-75°C，低于55°C時，光致抗蝕劑膜層剝離速率慢，生產時間上是不經濟的；高于75°C時，雖然光致抗蝕劑膜層剝離速率增大，但組分揮發量增大，對體系的穩定性不利，同時會增加設備負荷。以下的本發明實施例，用于對本發明進行進一步說明，但本發明并不限于以下實施例。用作測試的板大小為5 X 5cm，光致抗蝕劑層厚為120 μ m.配制500mL剝離液，水浴 55-75°C，攪拌條件下，把測試板浸于剝離液液中30分鐘。取出，水洗，干燥，顯微鏡下觀察剝離效果，氧化程度，基材腐蝕程度。表1光致抗蝕劑剝離液組合物(wt % )
有機堿有機溶劑防腐蝕劑水實施例1MEA(15)NMP(40)GC(2), BTZ(I)42實施例2TMAH(I) CL⑷DMF(20) NMP(35)TA(0.5) BTT(0.5)39實施例3MEA(20)DMSO(60)CC⑵，ATZ(0.5)17.5實施例4MEA(40)NMP(50)GC(0.5)，BTZ(I)8.5實施例5CL(15)DMF(40)TA(I)，BTT(2)42實施例6TMAH(OJ)DGBE(3)CC(0.5)90
權利要求
1.一種光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，其特征在于該組合物按質量百分比計包括(1)有機堿，含量為5-50wt%；(2)有機溶劑，含量為l-60wt%；(3)防腐蝕劑，含量為0.5-15wt%；(4)余量為水。
2.根據權利要求1所述的光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，其特征在于該組合物按質量百分比計包括(1)有機堿，含量為10-40wt%；(2)有機溶劑，含量為5-50wt%；(3)防腐蝕劑，含量為I-IOwt%；(4)余量為水。
3.根據權利要求2所述的光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，其特征在于該組合物按質量百分比計包括(1)有機堿，含量為15-30wt%；(2)有機溶劑，含量為10-40wt%；(3)防腐蝕劑，含量為2-8wt%；(4)余量為水。
4.根據權利要求1至3任一所述的光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，其特征在于所述的有機堿包括烷醇胺、季胺堿、膽堿、羥胺、N，N-二乙基羥胺中的任意一種、任意兩種或兩種以上以任意比例混合。
5.根據權利要求4所述的光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，其特征在于所述的有機溶劑包括N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、二甲基亞砜、烷基醇醚、 烷基或芳香基醇中的任意一種、任意兩種或兩種以上以任意比例混合。
6.根據權利要求5所述的光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，其特征在于所述的防腐蝕劑包括芳香族羥基化合物或/和唑類化合物中的任意一種、任意兩種或兩種以上以任意比例混合。
7.根據權利要求6所述的光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，其特征在于所述芳香族羥基化合物包括沒食子酸、單寧酸、植酸、鄰苯二酚、對苯二酚中的至少一種；唑類化合物包括三氮唑、甲基三氮唑、苯并三氮唑、苯并四氮唑、氨基四氮唑、巰基苯并噻唑中的任意一種、 任意兩種或兩種以上以任意比例混合。
8.根據權利要求1所述的光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，其特征在于所述剝離液組合物用于封裝基板的光致抗蝕劑膜的剝離。
9.根據權利要求1所述的光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，其特征在于所述剝離液組合物用于PCB、FPC、TFT、IXD的光致抗蝕劑膜的剝離。
全文摘要
本發明提供一種光致抗蝕劑膜的剝離液組合物，包括有機堿、有機溶劑、防腐蝕劑和水。光致抗蝕膜劑的剝離液組合物，該組合物按質量百分比計包括5-50wt％的有機堿，1-60wt％的有機溶劑，0.5-15wt％的防腐蝕劑，其余為水。本發明的剝離液尤其適用于厚度為100μm以上的厚干膜的剝離，可以在較低溫度(55-75℃)、較短時間(＜30min)條件下，完全剝離厚干膜。
文檔編號G03F7/42GK102411269SQ20111036766
公開日2012年4月11日 申請日期2011年11月18日 優先權日2011年11月18日
發明者常積東, 張軍, 李承孝 申請人:西安東旺精細化學有限公司