專利名稱：臥式光學調整架的制作方法
技術領域：
臥式光學調整架技術領域[0001]本實用新型涉及一種光學調整架，尤其涉及一種臥式光學調整架。
背景技術：
[0002]光學調整架產品是光機產品中重要的一個組成部分，光學調整架通常包括:固定板、活動板、驅動機構(螺紋副)、復位機構(彈簧)等，主要解決光學元件(或光電器件)的夾持和調整。[0003]光學調整架的穩定性，在實際使用過程中非常重要，通常影響光學調整架穩定性的因素包括外界環境變化和調整架本身的漂移，在外界接環境可控或者變化不大的情況下，調整架的漂移變成影響穩定性主要的因素，漂移主要由調整架的結構、高度等因素引起。傳統的光學調整架是立式的，光學調整架和基座的接觸面小，且其Z軸則使用較高的高度，一般高度都在60_左右，使得光學元件容易受到外界影響而受迫震動，從而影響光學元件的穩定性，從而進一步影響到整個光學系統的穩定性。實用新型內容[0004]本實用新型的目的是提供一種臥式光學調整架，可避免光學元件受到外界影響而做受迫震動，保證光學元件的穩定性，從而使整個光學系統穩定性得到更好的保證。[0005]為實現上述目的，本實用新型提供一種臥式光學調整架，包括固定板、活動板、驅動機構和復位機構，所述固定板安裝在一基座上方，所述活動板安裝在所述固定板上方，且所述活動板與所述固定板之間形成夾持光學元件的夾槽，所述驅動機構安裝在所述活動板上，用于調節光學元件在二維平面上的移動，所述復位機構位于所述夾槽內且兩端分別連接在所述固定板和所述活動板上，所述固定板與所述基座接觸的面積為55mmX75mm 65mmX85mm，所述固定板的底面到所述活動板的頂面的距離為臥式光學調整架Z向高度，該Z向高度為23.5mm 25.5mm。[0006]較佳地,所述固定板與所述基座接觸的面積為60_X80mm,臥式光學調整架的Z向高度為24.5mm。[0007]較佳地，所述驅動機構由開設在所述活動板上且具有內螺紋的孔和旋合在所述孔內的具有外螺紋的螺栓組成，所述復位機構由一對彈簧組成。[0008]較佳地，所述固定板和所述活動板上均設有容納各所述彈簧兩端的容納槽。[0009]較佳地，還包括樞接部，所述樞接部于所述固定板和所述活動板的相同側邊樞接所述固定板和所述活動板。[0010]與現有技術相比，本實用新型的臥式光學調整架由于所述固定板與所述基座接觸的面積為55mmX75mm 65mmX85mm,所述固定板的底面到所述活動板的頂面的距離為臥式光學調整架Z向高度，該Z向高度為23.5mm 25.5mm，相比傳統的立式調整架，本實用新型的臥式光學調整架不僅和基座的接觸面積大，而且在Z軸方向的高度又不高，穩定性明顯要高于立式調整架，并且在同樣外力作用下，其高度上優勢，也使光學元件受到外界影響而做受迫震動的影響也低于立式調整架，保證夾持的光學元件的穩定性，從而使整個光學系統穩定性得到更好的保證。[0011]通過以下的描述并結合附圖，本實用新型將變得更加清晰，這些附圖用于解釋本實用新型的實施例。
[0012]圖1為本實用新型臥式光學調整架的主視圖。[0013]圖2為圖1的俯視圖。
具體實施方式
[0014]現在參考附圖描述本實用新型的實施例，附圖中類似的元件標號代表類似的元件。[0015]請參考圖1-2，所述的臥式光學調整架包括固定板1、活動板2、驅動機構3、復位機構4和樞接部5。[0016]所述固定板I安裝在一基座上方。所述活動板2安裝在所述固定板I上方，且所述活動板2與所述固定板I之間形成夾持光學元件的夾槽10。所述固定板I與所述基座接觸的面積為55mmX 75mm 65mmX 85mm,所述固定板I的底面到所述活動板2的頂面的距離為臥式光學調整架Z向高度，該Z向高度為23.5mm 25.5mm。本實施例中，所述固定板I與所述基座接觸的面積為60_ X80mm,臥式光學調整架的Z向高度24.5_。所述驅動機構3安裝在所述活動板2上，用于調節光學元件在二維平面上的移動，具體地，所述驅動機構3由開設在所述活動板2上且具有內螺紋的孔21和旋合在所述孔21內的具有外螺紋的螺栓22組成，通過旋轉螺栓22，可以調節光學元件光學元件在二維平面上的移動，以調整光學元件的在光路中的位置。所述復位機構4位于所述夾槽10內且兩端分別連接在所述固定板I和所述活動板2上，具體地，所述復位機構4由一對彈簧組成，所述固定板I和所述活動板2上均設有容納各所述彈簧兩端的容納槽12。所述樞接部5于所述固定板I和所述活動板2的相同側邊樞接所述固定板I和所述活動板2，使所述活動板2可相對所述固定板I轉動，以方便放置光學元件至夾槽10內。[0017]由于所述固定板I與所述基座接觸的面積為60mmX80mm (60mm為寬度LI,80mm為長度L2)，臥式光學調整架的Z向高度H為24.5mm,而傳統立式調整架和底部基座接觸面是采用本實施例中臥式光學調整架的縱向這個面，故傳統的立式調整架和基座的接觸面小，且Z軸高度較高，因而相比傳統的立式調整架，本實用新型的臥式光學調整架不僅和基座的接觸面積大，而且在Z軸方向的高度又不高，穩定性明顯要高于立式調整架，并且在同樣外力作用下，其高度上優勢，也使光學元件受到外界影響而做受迫震動的影響也低于立式調整架，保證夾持的光學元件的穩定性，從而使整個光學系統穩定性得到更好的保證。[0018]以上結合最佳實施例對本實用新型進行了描述，但本實用新型并不局限于以上揭示的實施例，而應當涵蓋各種根據本實用新型的本質進行的修改、等效組合。
權利要求1.一種臥式光學調整架，包括固定板、活動板、驅動機構和復位機構，所述固定板安裝在一基座上方，所述活動板安裝在所述固定板上方，且所述活動板與所述固定板之間形成夾持光學元件的夾槽，所述驅動機構安裝在所述活動板上，用于調節光學元件在二維平面上的移動，所述復位機構位于所述夾槽內且兩端分別連接在所述固定板和所述活動板上，其特征在于:所述固定板與所述基座接觸的面積為55mmX 75mm 65mmX 85mm,所述固定板的底面到所述活動板的頂面的距離為臥式光學調整架Z向高度，該Z向高度為23.5mm 25.Smnin
2.如權利要求1所述的臥式光學調整架，其特征在于:所述固定板與所述基座接觸的面積為60mmX80mm，臥式光學調整架的Z向高度為24.5mm。
3.如權利要求1所述的臥式光學調整架，其特征在于:所述驅動機構由開設在所述活動板上且具有內螺紋的孔和旋合在所述孔內的具有外螺紋的螺栓組成，所述復位機構由一對彈簧組成。
4.如權利要求3所述的臥式光學調整架，其特征在于:所述固定板和所述活動板上均設有容納各所述彈簧兩端的容納槽。
5.如權利要求1所述的臥式光學調整架，其特征在于:還包括樞接部，所述樞接部于所述固定板和所述 活動板的相同側邊樞接所述固定板和所述活動板。
專利摘要本實用新型公開了一種臥式光學調整架，包括固定板、活動板、驅動機構和復位機構，固定板安裝在一基座上方，活動板安裝在固定板上方，且活動板與固定板之間形成夾持光學元件的夾槽，驅動機構安裝在活動板上，用于調節光學元件在二維平面上的移動，復位機構位于夾槽內且兩端分別連接在固定板和活動板上，固定板與基座接觸的面積為55mm×75mm～65mm×85mm，固定板的底面到活動板的頂面的距離為臥式光學調整架Z向高度，該Z向高度為23.5mm～25.5mm。本實用新型的臥式光學調整架可避免光學元件受到外界影響而做受迫震動，保證光學元件的穩定性，從而使整個光學系統穩定性得到更好的保證。
文檔編號G02B7/00GK202975440SQ20122070089
公開日2013年6月5日 申請日期2012年12月17日 優先權日2012年12月17日
發明者陳聰, 何鐵鋒, 李文 申請人:廣州安特激光技術有限公司