1.一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：
1)圖像3D建模；
2)將建模后的3D圖，按照菲涅爾的變化規律進行量化處理；
3)通過等高投影或等寬投影進行像素微結構模擬；
4)像素化拼接；
5)通過光刻工藝將整個圖像光刻完成；
6)通過轉移工藝將模板轉移到應用材料上。
2.根據權利要求1所述的一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，所述步驟2)中，量化后將圖像分解為位置變量、位置變量、取向角度變量和坡度變量。
3.根據權利要求2所述的一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，將每一個具有取向角和坡度的像素微結構進行像素化拼接。
4.根據權利要求1所述的一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，所述步驟3)中，所述等高投影為微結構在模擬后通過有傾斜角度的條紋疏密圖來表示；其中：所述微結構的坡度用條紋疏密來表示；所述微結構的角度為取向角，用條紋的傾斜角度來表示。
5.根據權利要求1所述的一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，所述步驟3)中，所述等寬投影為微結構在模擬后通過有傾斜角度的灰度圖來表示；其中：所述微結構的坡度用灰度來表示；所述微結構的角度為取向角，用灰度傾斜角度來表示。
6.根據權利要求1所述的一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，所述步驟4)中，采用空間光調制器將像素灰度圖或像素條紋疏密圖，按序在記錄材料上光刻，并控制二位移動平臺相應移位，直至整個圖像光刻完成。
7.根據權利要求1所述的一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，所述步驟5)中，經顯影處理完成任意形狀菲涅爾器件的模板制作，再經過后續工序，最終轉移到應用材料上。
8.一種菲涅爾器件的制作裝置，其特征在于，包括：
空間光調制器，其用于顯示圖像數據；
光源，其發出的光照明所述空間光調制器；
精縮光學系統，其將所述空間光調制器上的圖像微縮到記錄材料表面，形成結構光場，該光場與感光材料發生光化學作用；
二維移動平臺，其提供光學系統和記錄材料的相對移動；
控制系統，其用于圖像顯示、曝光、工件臺移動協調工作。
9.根據權利要求8所述的一種菲涅爾器件的制作裝置，其特征在于，所述空間光調制器為透射式的LCD、反射式的DMD或反射式的LCOS。