專利名稱：一種鍍膜機的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及真空蒸發鍍膜技術領域，特別涉及一種鍍膜機。
背景技術：
目前，行業內鏡片鍍膜加工使用的蒸發鍍膜設備多采用旋轉基片的方式來保證膜層厚度的均勻性。如圖I所示，在鍍膜的真空腔室Γ上部設置有由電機2'驅動旋轉的鍍膜傘3'，鍍膜傘3'中心到邊緣的不同半徑的位置上設的數個鏡片放置孔31'，在鍍膜傘3'中心到邊緣的一中間位置處下方設置有由蒸發物質41'如金屬、化合物等置于坩堝 42'內構成的蒸發源4'，待真空腔室I'抽至高真空后，由電機2'驅動鍍膜傘3'以一定速度旋轉，同時，加熱坩堝42'使其上的蒸發物質41'蒸發。蒸發物質41'的原子或分子以冷凝方式沉積在鏡片表面，通過成膜過程，即散點一島狀結構-迷走結構-層狀生長而形成薄膜。薄膜厚度可由數百埃至數微米。由于，薄膜厚度決定于蒸發源4'的蒸發速率和時間，并與蒸發源4'和鏡片間的距離有關。故而蒸發源4'折中設置在鍍膜傘3'中心到邊緣的一中間位置處下方，但盡管如此，鍍膜傘3,上中部位置上鏡片的薄膜厚度往往厚于其它位置上鏡片的薄膜厚度，使得加工出來的產品膜厚誤差大，光學薄膜厚度均勻性不好。
實用新型內容為解決上述技術問題，本實用新型提供了一種鍍膜機，以達到減小膜厚誤差，提高光學薄膜厚度均勻性的目的。為達到上述目的，本實用新型的技術方案如下一種鍍膜機，包括真空腔室和設于所述真空腔室上部并由電機驅動旋轉的鍍膜傘，所述鍍膜傘中心到邊緣的不同半徑的位置上設有工件放置孔，所述鍍膜傘一側中心到邊緣的中間位置處下方設置有蒸發源，所述蒸發源和所述鍍膜傘之間還設置有一橄欖形修正板，所述修正板的兩端尖部分別位于所述鍍膜傘中心和邊緣的下方。優選的，所述修正板設于所述蒸發源的正上方，且其兩端尖部分別到所述鍍膜傘之間的距離相等。優選的，所述修正板由支撐桿支撐固定于所述真空腔室的底面上。通過上述技術方案，本實用新型提供的一種鍍膜機通過在蒸發源和鍍膜傘之間設置一橄欖形修正板，通過修正板中間寬，兩端趨于尖細的形狀特點，可有效調整、修正旋轉的鍍膜傘上中心到邊緣上各位置處工件上形成的薄膜厚度，減小膜厚誤差，大大提高光學薄膜厚度均勻性。
為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。[0011]圖I為現有技術中的鍍膜機示意圖；圖2為本實用新型實施例所公開的一種鍍膜機示意圖。
具體實施方式
下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述。本實用新型提供了一種鍍膜機，如圖2所示，包括真空腔室I、電機2、鍍膜傘3、蒸發源4和修正板5。所述鍍膜傘3設于所述真空腔室I的上部，其中心處通過轉軸連接有電機2，可由電機2驅動其旋轉；所述鍍膜傘3中心到邊緣的不同半徑的位置上環形陣列有數個工件放置孔31，用以放置工件；所述鍍膜傘3 —側中心到邊緣的中間位置處下方設置有蒸發源4，于此，即為鍍膜傘3弧形傘面一側的二分之一位置處下方設置有蒸發源4;于本實 施例中，由蒸發物質41置于坩堝42內作為蒸發源4 ;所述蒸發源4和所述鍍膜傘3之間設置有一所述修正板5，所述修正板5呈橄欖形，具體位于所述蒸發源4的正上方，即修正板5的對稱中心投影在所述蒸發源4的中心位置上，所述修正板5兩端尖部分別位于所述鍍膜傘3中心和邊緣的下方，且分別到所述鍍膜傘3中心和邊緣的距離相等。所述修正板5由支撐桿支撐固定于所述真空腔室I的底面上。工作時，將工件置于鍍膜傘3上的工件放置孔31上，并將鍍膜傘3安裝固定好后，將真空腔室I抽至高真空，由電機2驅動鍍膜傘3旋轉，同時加熱坩堝42，使其上的蒸發物質41蒸發，蒸發物質41的原子或分子以冷凝方式沉積在修正板5及工件表面，形成薄膜，由于修正板5具有中間粗，兩端尖細的形狀特點，通過將其置于所述蒸發源4和所述鍍膜傘3之間，可調整、修正鍍膜傘3上中心到邊緣的不同半徑的位置上工件的膜厚，減小工件的膜厚誤差，使得加工出來的工件膜厚誤差小，膜厚均勻性好。對所公開的實施例的上述說明，使本領域專業技術人員能夠實現或使用本實用新型。對這些實施例的多種修改對本領域的專業技術人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實用新型的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現。因此，本實用新型將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。
權利要求1.一種鍍膜機，包括真空腔室和設于所述真空腔室上部并由電機驅動旋轉的鍍膜傘，所述鍍膜傘中心到邊緣的不同半徑的位置上設有工件放置孔，所述鍍膜傘一側中心到邊緣的中間位置處下方設置有蒸發源，其特征在于，所述蒸發源和所述鍍膜傘之間還設置有一橄欖形修正板，所述修正板的兩端尖部分別位于所述鍍膜傘中心和邊緣的下方。
2.根據權利要求I所述的一種鍍膜機，其特征在于，所述修正板設于所述蒸發源的正上方，且其兩端尖部分別到所述鍍膜傘之間的距離相等。
3.根據權利要求2所述的一種鍍膜機，其特征在于，所述修正板由支撐桿支撐固定于所述真空腔室的底面上。
專利摘要本實用新型公開了一種鍍膜機，包括真空腔室和設于所述真空腔室上部并由電機驅動旋轉的鍍膜傘，所述鍍膜傘中心到邊緣的不同半徑的位置上設有工件放置孔，所述鍍膜傘一側中心到邊緣的中間位置處下方設置有蒸發源，所述蒸發源和所述鍍膜傘之間還設置有一橄欖形修正板，所述修正板的兩端尖部分別位于所述鍍膜傘中心和邊緣的下方。通過橄欖形修正板中間寬，兩端尖細的形狀來調整修正鍍膜傘上工件的膜厚均勻性，具有減小膜厚誤差，提高光學薄膜厚度均勻性的優點。
文檔編號C23C14/24GK202766611SQ201220244520
公開日2013年3月6日 申請日期2012年5月29日 優先權日2012年5月29日
發明者許峰 申請人:蘇州市博飛光學有限公司