一種用于制備α_SiH膜的設備的制作方法

一種用于制備α_SiH膜的設備的制作方法
【專利摘要】本發明公開了一種用于制備α_SiH膜的設備，其特征在于：包括有真空室，在所述真空室內設有基片安裝座，基片設置在所述基片安裝座上，在所述真空室上連接有Si2H6進氣管，在所述的真空室上設有石英管，在所述的石英管上設有微波源，在所述石英管一端上設有H2進氣管，在所述的真空室上設有真空泵連接管。本發明的目的是為了克服現有技術中的不足之處，提供一種結構簡單，生產成本低，用于制備α_SiH膜的設備。
【專利說明】—種用于制備ct_SiH膜的設備
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種用于制備a_SiH膜的設備。
【背景技術】
[0002]現有的用于制備a _SiH膜的設備其結構相對比較復雜，生產成本高。故有必要提供一種結構簡單，投入成本低的用于制備a_SiH膜的設備，以滿足需求。

【發明內容】

[0003]本發明的目的是為了克服現有技術中的不足之處，提供一種結構簡單，生產成本低，用于制備a_SiH膜的設備。
[0004]為了達到上述目的，本發明采用以下方案:
[0005]一種用于制備a_SiH膜的設備，其特征在于:包括有真空室，在所述真空室內設有基片安裝座，基片設置在所述基片安裝座上，在所述真空室上連接有Si2H6進氣管，在所述的真空室上設有石英管，在所述的石英管上設有微波源，在所述石英管一端上設有H2進氣管，在所述的真空室上設有真空泵連接管。
[0006]如上所述的一種用于制備a _SiH膜的設備，其特征在于在所述的真空室上連接
有真空計。
[0007]如上所述的一種用`于制備a _SiH膜的設備，其特征在于所述基片安裝座設置在與所述石英管正對的位置上。
[0008]如上所述的一種用于制備a _SiH膜的設備，其特征在于所述的Si2H6進氣管伸入所述真空室。
[0009]如上所述的一種用于制備a _SiH膜的設備，其特征在于在所述基片安裝座內設有加熱器。
[0010]綜上所述，本發明相對于現有技術其有益效果是:
[0011]本發明產品結構簡單，生產成本相對較低。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1為本發明的示意圖。
【具體實施方式】
[0013]下面結合【專利附圖】

【附圖說明】和【具體實施方式】對本發明作進一步描述:
[0014]如圖1所示的一種用于制備a _SiH膜的設備，包括有真空室1，在所述真空室I內設有基片安裝座2，基片3設置在所述基片安裝座2上，在所述真空室I上連接有Si2H6進氣管4，在所述的真空室I上設有石英管5，在所述的石英管5上設有微波源6，在所述石英管5 —端上設有H2進氣管7，在所述的真空室I上設有真空泵連接管8。
[0015]本發明中在所述的真空室I上連接有真空計9。所述基片安裝座2設置在與所述石英管5正對的位置上。所述的Si2H6進氣管4伸入所述真空室I。在所述基片安裝座2內設有加熱器10。
[0016]本發明裝置利用紫外線引起的Si2H6光致分解制備高質量a_SiH膜。在這個裝置中由微波源激發引起的H2放電用著真空紫外線源，用稀釋的Si2H6作為反應氣體源引入到靠近基片的真空室處，Si2H6/He和He流量分別保持在45SCCm和138sCCm。沉積過程中反應室的總氣壓為270Pa，將Si片在30~300度之間沉積持續了 6小時。
[0017]本發明裝置真空紫外線可以在沒有任何吸收損失的條件下被直接引向窗口 ；在窗口處可避免薄膜沉積；沒有光線直接到達基片。
[0018]以上顯示和描述了本發明的基本原理和主要特征以及本發明的優點。本行業的技術人員應該了解，本發明不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本發明的原理，在不脫離本發明精神和范圍的前提下，本發明還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本發明范圍內。本發明要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效 物界定。
【權利要求】
1.一種用于制備a_SiH膜的設備，其特征在于:包括有真空室(1)，在所述真空室(I)內設有基片安裝座(2)，基片(3)設置在所述基片安裝座(2)上，在所述真空室(I)上連接有Si2H6進氣管(4)，在所述的真空室(I)上設有石英管(5)，在所述的石英管(5)上設有微波源(6)，在所述石英管(5)—端上設有H2進氣管(7)，在所述的真空室(I)上設有真空泵連接管(8)，所述基片安裝座(2)設置在與所述石英管(5)正對的位置上。
2.根據權利要求1所述的一種用于制備a_SiH膜的設備，其特征在于在所述的真空室(I)上連接有真空計(9)。
3.根據權利要求1所述的一種用于制備a_SiH膜的設備，其特征在于所述的Si2H6進氣管(4)伸入所述真空室(I)。
4.根據權利要求1所述的一種用于制備a_SiH膜的設備，其特征在于在所述基片安裝座(2)內設有加熱器(10) 。
【文檔編號】C23C16/48GK103602957SQ201310552746
【公開日】2014年2月26日 申請日期:2013年11月7日 優先權日:2013年11月7日
【發明者】陳路玉 申請人:中山市創科科研技術服務有限公司