本發明涉及一種光學鍍膜產品，特別涉及一種光學鍍膜材料及其加工方法。
背景技術：
光學鍍膜是指可以改變光學組件的光學性質的鍍膜，其目的可以是抗反射抗眩光、濾光等，而依照目的的不同，光學組件制造商需選用不同的材料進行鍍膜。隨著光學領域發展塑膠鍍膜產品應用范圍不斷的擴大化，業界對塑膠鍍膜產品要求越來越高，方法相對難度較大。目前光學塑膠產品的常規鍍膜產品的光學機能低。光學塑膠產品常規鍍膜工藝需使用離子源進行輔助鍍膜，在整個鍍膜工藝開發方面如真空度、膜層工藝參數控制不當容易出現膜層脫落及膜裂現象，且在鍍膜過程中出現異常時導致整爐報廢。在鍍膜機臺離子源使用耗材相當昂貴，鍍膜效率較低。
技術實現要素：
本發明的目的在于提供一種光學鍍膜材料，解決了現有技術中光學塑膠產品的光學性能低的技術問題；
本發明的目的還在于提供一種光學鍍膜材料的加工方法，解決了現有技術中光學塑膠產品的光學機能低的技術問題。
為了解決上述問題，本發明提供了一種光學鍍膜材料，包括一混合物，所述混合物包括二氧化硅和硅鋁混合物，所述二氧化硅與所述硅鋁混合物的比例為40％～180％∶20％～50％，所述混合物是將所述二氧化硅和所述硅鋁混合物按比例攪拌而成。
依照本申請較佳實施例所述的一種光學鍍膜材料，所述二氧化硅和所述硅鋁混合物按比例通過專用攪拌機攪拌。
為了解決上述問題，本發明還提供一種光學鍍膜材料的加工方法，包括以下幾個步驟：
一、分別打開裝有二氧化硅的真空包裝和裝有硅鋁混合物的真空包裝后，按所需比例進行稱量；
二、開啟攪拌機電源，啟動攪拌機，攪拌機在轉動過程中，先將稱量好的二氧化硅緩慢倒入攪拌機的攪拌槽內，然后再將稱量好的硅鋁混合物緩慢倒入攪拌機的攪拌槽內；
三、停止攪拌機后打開攪拌槽的卸料口，使用盛裝容器來承接攪拌好的混合物；
四、將混合物用真空袋進行分裝。
依照本申請較佳實施例所述的一種光學鍍膜材料的加工方法，上述操作所需的操作環境選擇在萬級無塵車間，所需溫度控制在24±3℃，相對濕度RH為50％±10％。
依照本申請較佳實施例所述的一種光學鍍膜材料的加工方法，步驟三中所述的盛裝容器選用玻璃容器，在攪拌機開啟電源前將所述玻璃容器內使用無塵布及酒精來擦拭干凈，確保內部保持潔凈狀態。
依照本申請較佳實施例所述的一種光學鍍膜材料的加工方法，在所述步驟四中，使用不銹鋼勺子分別往真空袋內進行分裝，以電子稱進行稱量，每袋重1kg，并通過真空打包機進行抽真空。
與現有技術相比，本發明存在以下技術效果：
本發明提供一種光學鍍膜材料及其加工方法，提高光學塑膠產品的光學機能，達到或超出日系及歐美光學工業信賴性測試標準，除此之外，還具有其他優點，如，可以取消鍍膜前清掃及鍍膜過程中輔助功能，降低離子源高額的耗材成本；可降低傳統工藝鍍膜過程中因離子源異常而導致整爐產品報廢；提升鍍膜機臺加工效率20％～40％；綜合成本可降低10％～50％。
具體實施方式
本發明提供一種光學鍍膜材料，此光學鍍膜材料為混合物，此混合物包括二氧化硅和硅鋁混合物，二氧化硅與硅鋁混合物的比例為40％～180％∶20％～50％，其中，二氧化硅占40％～180％不等，硅鋁混合物占20％～50％不等。此光學鍍膜材料采用所述二氧化硅和所述硅鋁混合物按比例通過專用攪拌機進行攪拌而成，為保證良好安定的品質后期導入提煉方式。
本發明還提供一種光學鍍膜材料的加工方法，包括以下幾個步驟：
一、選擇操作環境，本發明選在萬級無塵車間，所需溫度控制在24±3℃，相對濕度RH為50％±10％；
二、分別打開裝有二氧化硅的真空包裝和裝有硅鋁混合物的真空包裝后，按所需比例進行稱量。本發明選用電子稱進行稱量。
三、開啟攪拌機電源，啟動攪拌機，攪拌機在轉動過程中，先將稱量好的二氧化硅緩慢倒入攪拌機的攪拌槽內，然后再將稱量好的硅鋁混合物緩慢倒入攪拌機的攪拌槽內。在本實施例中，攪拌機的轉速控制在30～40轉/分鐘。
四、停止攪拌機后打開攪拌槽的卸料口，使用盛裝容器來承接攪拌好的混合物。在本實施例中，兩種材料全數攪拌約15～30分鐘(可視攪拌現狀來定)。
在步驟四中所述的盛裝容器選用玻璃容器，在攪拌機開啟電源前將玻璃容器內使用無塵布及酒精(無水乙醇)來擦拭干凈，確保內部保持潔凈狀態。
五、將混合物用真空袋進行分裝。在本步驟中，使用不銹鋼勺子分別往真空袋內進行分裝，以電子稱進行稱量，每袋重1kg，并通過真空打包機進行抽真空。
工藝參數設定方式：
鍍膜機臺真空度設定：4.0*10-4Pa～5.0*10-3Pa；
鍍膜參數設定：Substrate與新型混合料(代號：Suj-001)為相互接合層；
離子源設定：無(鍍膜前、鍍膜過程中、鍍膜后均不需要離子源進行輔助蒸鍍及清掃)；
膜層厚度：可根據光譜的需求進行設定；
鍍膜溫度設定：30℃～100℃(根據產品的需求進行設定不同溫度)；
新型混合料(代號：Suj-001)蒸速率：2埃/s～15埃/(根據產品的需求進行設定不同蒸發速率)；
新型混合料(代號：Suj-001)密度：2.1～2.4(g/cm2)；
新型混合料(代號：Suj-001)蒸發溫度：1500～2200℃；
新型混合料(代號：Suj-001)折射率：1.44～1.47；
新型混合料(代號：Suj-001)透明波段：0.2～9um
在上述參數中出現的新型混合料是指包括二氧化硅和硅鋁的混合物，即本申請的光學鍍膜材料。
以上公開的僅為本申請的一個具體實施例，但本申請并非局限于此，任何本領域的技術人員能思之的變化，都應落在本申請的保護范圍內。