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一種濺射靶材自循環冷卻裝置的制作方法

文檔序號：11836364閱讀：來源：國知局

導航： X技術> 最新專利>金屬材料;冶金;鑄造;磨削;拋光設備的制造及處理,應用技術>一種濺射靶材自循環冷卻裝置的制作方法

技術總結
本實用新型屬于磁控濺射領域，針對靶材散熱技術，特別涉及一種濺射靶材自循環冷卻裝置。該裝置包括靶材和散熱結構，靶材采用合成射流方法降溫，靶材對接密封在金屬陰極上端，合成射流發生器固定在合成射流腔體內部，產生間歇射流氣體，射流氣體由合成射流腔體儲存，沿噴嘴噴出，噴出的射流氣體沖擊靶材內側肋片達到降溫作用，升溫后的氣體進入散熱通道，經降溫的氣體重新回到合成射流腔體循環使用。

技術研發人員：喬憲武
受保護的技術使用者：喬憲武
文檔號碼：201620646998
技術研發日：2016.06.21
技術公布日：2016.11.30

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