一種無氧銅桿拋光裝置的制作方法

本實用新型涉及無氧銅處理技術領域，尤其涉及一種無氧銅桿拋光裝置。

背景技術：

無氧銅是不含氧也不含任何脫氧劑殘留物的純銅。但實際上還是含有非常微量氧和一些雜質。按標準規定，氧的含量不大于0.003%，雜質總含量不大于0.05%，銅的純度大于99.95%。拋光是指利用機械、化學或電化學的作用，使工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、平整表面的加工方法。是利用拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質對工件表面進行的修飾加工。目前常用的無氧銅桿拋光設備存在工作效率低的缺點，且適用范圍窄，不能滿足使用的需要。

技術實現要素：

本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在的缺點，而提出的一種無氧銅桿拋光裝置。

為了實現上述目的，本實用新型采用了如下技術方案：

一種無氧銅桿拋光裝置，包括拋光片，所述拋光片的數量有三組，并均為規格相同的弧形，所述拋光片之間為凹面對向設置，所述拋光片的內側面襯設有拋光鋼絲針，所述拋光片的外端面垂直連接有伸縮桿，所述伸縮桿的外端部固定在安裝墻體的內側面，所述拋光片的中部凹面內插設有待拋光的銅桿，所述銅桿的外部設置有矩形的框架，所述框架的兩端分別裝設有轉動電機和固定塊，所述轉動電機的轉子頂端裝設有銅桿夾具，所述銅桿穿過拋光片之間的工作面，且兩端分別通過轉動電機和固定塊進行固定，所述框架的上下兩側均橫向裝設有導向軌，所述框架的下部通過電控移動座套設于位于下部的導向軌的外部，所述框架的上部通過套環套設于位于上部的導向軌的外部。

優選地，所述拋光片為拆卸式設計，且拋光片的側面為長條狀。

優選地，所述拋光鋼絲針的外端口朝向弧形拋光片的圓心方向。

優選地，所述伸縮桿的外部還套設有支撐彈簧，且伸縮桿的伸縮部外部還裝設有緊固限位螺紋桿。

優選地，所述轉動電機、固定塊與拋光片之間形成的圓形套管的插接孔的軸線位于同一水平線上。

優選地，所述固定塊的整體形狀為夾設在銅桿外部的夾具。

優選地，所述電控移動座的動力端電機為伺服雙向電機，并通過外部的上位機進行控制。

本實用新型采用互相形成套筒的、組合式弧形拋光片組件對銅桿進行拋光，與彈性限位結構相配合，使得銅桿與拋光部位的接觸面積增加，且增加了裝置的拋光范圍，采用軸向轉動、橫向移動的運動方式，使得銅桿的拋光面積和部位提高，且轉動設計提高拋光的質量和效率，滿足了使用的需要。

附圖說明

圖1為本實用新型提出的一種無氧銅桿拋光裝置的整體結構示意圖；

圖2為本實用新型提出的一種無氧銅桿拋光裝置的拋光片剖面結構示意圖。

圖中：1拋光片、2拋光鋼絲針、3伸縮桿、4安裝墻體、5銅桿、6框架、7轉動電機、8固定塊、9銅桿夾具、10導向軌、11電控移動座、12套環、13支撐彈簧。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。

參照圖1-2，一種無氧銅桿拋光裝置，包括拋光片1、拋光鋼絲針2、伸縮桿3、安裝墻體4、銅桿5、框架6、轉動電機7、固定塊8、銅桿夾具9、導向軌10、電控移動座11、套環12和支撐彈簧13，所述拋光片1的數量有三組，并均為規格相同的弧形，所述拋光片1之間為凹面對向設置，所述拋光片1之間形成整體的圓形套管，所述拋光片1為拆卸式設計，且拋光片1的側面為長條狀，所述拋光片1的內側面襯設有拋光鋼絲針2，所述拋光鋼絲針2的外端口朝向弧形拋光片1的圓心方向，所述拋光片1的外端面垂直連接有伸縮桿3，所述伸縮桿3的外部還套設有支撐彈簧13，且伸縮桿3的伸縮部外部還裝設有緊固限位螺紋桿，所述伸縮桿3的外端部固定在安裝墻體4的內側面，所述拋光片1的中部凹面內插設有待拋光的銅桿5，所述銅桿5的外部設置有矩形的框架6，所述框架6的兩端分別裝設有轉動電機7和固定塊8，所述固定塊8的整體形狀為夾設在銅桿5外部的夾具，所述轉動電機7的轉子頂端裝設有銅桿夾具9，所述銅桿5穿過拋光片1之間的工作面，且兩端分別通過轉動電機7和固定塊8進行固定，所述轉動電機7、固定塊8與拋光片1之間形成的圓形套管的插接孔的軸線位于同一水平線上，所述框架6的上下兩側均橫向裝設有導向軌10，所述框架6的下部通過電控移動座11套設于位于下部的導向軌10的外部，所述電控移動座11的動力端電機為伺服雙向電機，并通過外部的上位機進行控制，所述框架6的上部通過套環12套設于位于上部的導向軌10的外部。

本實用新型采用互相形成套筒的弧形拋光片組件對銅桿進行拋光，與彈性限位結構相配合，使得銅桿與拋光部位的接觸面積增加，采用軸向轉動、橫向移動的運動方式，使得銅桿的拋光面積和部位提高，且轉動設計提高拋光的質量和效率，滿足了使用的需要。

以上所述，僅為本實用新型較佳的具體實施方式，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本實用新型揭露的技術范圍內，根據本實用新型的技術方案及其實用新型構思加以等同替換或改變，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。