1.磁控鍍膜機，包括真空室裝置、磁控濺射裝置、干粉存儲裝置及抽風裝置，所述磁控濺射裝置設置在真空室裝置內，所述干粉存儲裝置通過抽風裝置連接至真空室裝置，其特征在于：
所述真空室裝置包括一固定座體(1)及兩組腔門(2)，所述固定座體(1)開設有一具有開口的空腔(11)，兩組腔門(2)分別轉動設在空腔(11)開口的兩側，所述腔門(2)具有與空腔(11)對應的配料腔(20)，所述腔門(2)能夠轉動至蓋合在空腔(11)的開口上，形成封閉腔體；
所述腔門(2)內轉動設置有一料架機構(3)，所述料架機構(3)上設置有若干用過放置餐具的掛架(4)，所述料架機構(3)通過一公轉驅動機構驅動轉動并同時帶動掛架(4)繞料架機構(3)的轉動中心公轉，所述掛架(4)通過一自動驅動機構帶動自轉。
2.根據權利要求1所述的磁控鍍膜機，其特征在于：所述自動驅動機構為一行星齒輪機構，其包括大齒輪(51)及若干與掛架(4)對應的小齒輪(52)，所述大齒輪(51)設置在料架機構(3)上并與料架機構(3)的轉動軸線同軸，所述小齒輪(52)設置在掛架(4)上并與大齒輪(51)嚙合。
3.根據權利要求2所述的磁控鍍膜機，其特征在于：所述料架機構(3)包括下轉盤(31)和上轉盤(32)，所述掛架(4)上、下端分別轉動設置在上轉盤(32)、下轉盤(31)上，所述大齒輪(51)固定在下轉盤(31)底部，所述小齒輪(52)環形的分布在下轉盤(31)底部。
4.根據權利要求1所述的磁控鍍膜機，其特征在于：所述掛架(4)通過一可拆裝結構安裝至料架機構(3)上。
5.根據權利要求4所述的磁控鍍膜機，其特征在于：所述自動驅動機構為一行星齒輪機構，其包括大齒輪(51)及若干與掛架(4)對應的小齒輪(52)，所述大齒輪(51)設置在料架機構(3)上并與料架機構(3)的轉動軸線同軸，所述小齒輪(52)設置在掛架(4)上并與大齒輪(51)嚙合，所述料架機構(3)包括下轉盤(31)和上轉盤(32)，所述掛架(4)上、下端分別轉動設置在上轉盤(32)、下轉盤(31)上，所述大齒輪(51)固定在下轉盤(31)底部，所述小齒輪(52)環形的分布在下轉盤(31)底部，所述小齒輪(52)轉動設置在下轉盤(31)底部底部，所述掛架(4)下端通過一卡裝結構與小齒輪(52)連接。
6.根據權利要求5所述的磁控鍍膜機，其特征在于：所述卡裝結構包括設置在所述掛架(4)下端的凸起卡塊(61)，所述小齒輪(52)上開設有與掛架(4)下端對應的插入孔，所述插入孔內壁開設有與凸起卡塊(61)對應的L型卡槽(62)，所述下轉盤(31)上開設與插入孔對應的通孔。
7.根據權利要求1所述的磁控鍍膜機，其特征在于：所述腔門(2)上設置有觀察窗(21)。
8.根據權利要求1所述的磁控鍍膜機，其特征在于：所述腔門(2)與固定座體(1)之間設置有液壓緩沖器。
9.根據權利要求1所述的磁控鍍膜機，其特征在于：所述腔門(2)底部還設置有一支撐液壓缸，所述支撐液壓缸的缸體固定在腔門(2)底部，所述支撐液壓缸的頂桿朝向地面，支撐液壓缸的頂桿的端部設置有支撐腳。