LPCVD系統冷阱裝置的制作方法

本實用新型屬于LPCVD系統，具體涉及一種LPCVD系統冷阱裝置。

背景技術：

目前，市場上的高壓半導體分立器件均通過LPCVD系統(LPCVD--Low Pressure Chemical Vapor Deposition，低壓力化學氣相沉積法，被廣泛用于氧化硅、氮化物、多晶硅沉積)在晶片表面形成一層表面鈍化薄膜來進行保護。

LPCVD系統在運行過程中使用的氣體，在其反應室內進行化學反應并產生氣態副產物，這部分氣態副產物隨氣流方向進入真空管道和真空泵。一些特殊的氣態副產物會因應為溫度的變化凝華為固體，凝華物不斷積累會使真空管道口越來越小，最后導致堵塞；另外，真空泵因為凝華物的進入而卡死。

技術實現要素：

本實用新型所要解決的技術問題是提供一種LPCVD系統冷阱裝置，保證了真空管道不被堵塞，同時也避免了真空泵卡死。

為了解決上述技術問題，本實用新型采用如下的技術方案：

一種LPCVD系統冷阱裝置，包括套筒法蘭組件和盤管法蘭組件，套筒法蘭組件包括筒體、設于筒體一端的出氣口、設于筒體一側的進氣口以及軸向設于筒體內且一端與出氣口相連通的導流管，盤管法蘭組件包括法蘭盤，設于法蘭盤上的冷卻水進、出口，分別與冷卻水進、出口相連通的冷卻水盤管，法蘭盤與筒體另一端相對接密封，所述導流管套設于所述冷卻水盤管上。

所述冷卻水盤管盤成整體與導流管同軸的管狀結構，且與導流管之間存在間隙。

所述冷卻水進口連通有一沿冷卻水盤管整體軸向設置的進水管，冷卻水進口通過進水管另一端與冷卻水盤管相連通。

所述冷卻水盤管與進水管之間還設有冷凝機構。

所述冷凝機構包括依次排列的數層漏斗狀冷凝片。

所述冷凝片上開有冷凝孔。

所述進氣口與出氣口分別與LPCVD系統反應室和真空泵相連通。

采用本實用新型的LPCVD系統冷阱裝置具有以下幾個優點：

1、由于導流管內設有冷卻水盤管和冷凝片，氣體在通過導流管勢必與冷卻水盤管和冷凝片充分接觸，通過熱交換的方式使氣體溫度迅速降低，可凝華的氣體因為溫度降低成為固態，其它非凝華氣體通過冷阱進入真空泵。

2、凝華生成的固態物質沉淀留在冷阱內，而冷阱內部導流管管徑相比真空管道大大增加，故不易堵塞，且冷阱是方便拆卸下來進行清理的，這樣既保證了真空管道不被堵塞，同時也避免真空泵因為凝華物的進入而卡死。

附圖說明

圖1是本實用新型的LPCVD系統冷阱裝置的在LPCVD系統中的安裝示意圖。

圖2是本實用新型的冷阱裝置的立體圖。

圖3是本實用新型的冷阱裝置的軸向剖視圖。

圖4是本實用新型的套筒法蘭組件的立體圖。

圖5是本實用新型的盤管法蘭組件的立體圖。

具體實施方式

本實用新型的一種LPCVD系統冷阱裝置2如圖1-圖5，其設于LPCVD系統反應室1和真空泵4之間，主要包括套筒法蘭組件10和盤管法蘭組件20，套筒法蘭組件10包括筒體11、設于筒體11一端的出氣口12、設于筒體11一側的進氣口13以及軸向設于筒體11內且一端與出氣口12相連通的導流管14，盤管法蘭組件20包括法蘭盤21、設于法蘭盤21上的冷卻水進、出口22、23、分別與冷卻水進、出口22、23相連通的冷卻水盤管24，法蘭盤21與筒體11另一端通過法蘭密封圈相對接密封，導流管14另一端套設于冷卻水盤管24上，從而使筒法蘭組件3和盤管法蘭組件20相互嵌套成一個的腔體結構。

作為一個實施例，所述冷卻水盤管24盤成整體與導流管14同軸的管狀結構，冷卻水盤管24與導流管14相嵌套后，冷卻水盤管24貼近導流管14內壁，但與導流管14之間還存在一定間隙。

作為一個實施例，所述冷卻水進口連通有一沿冷卻水盤管24整體軸向設置的進水管25，冷卻水進口通過進水管25另一端與冷卻水盤管24相連通。

作為一個實施例，所述冷卻水盤管24與進水管25之間還設有冷凝機構，所述冷凝機構包括依次排列的數層漏斗狀冷凝片26，圖3中示為三層，類似寶塔狀，套設在進水管25上，位于冷卻水盤管24與進水管25之間，漏斗狀冷凝片26的大口261位于上端(即位于法蘭盤21的一側)，小口262位于下端(即出氣口12的一側)且與進水管25焊接一起，且每層冷凝片26上均勻開有冷凝孔，大口261的口徑接近于冷卻水盤管24的內徑，但與冷卻水盤管24的內壁之間還保留間隙。

另外，進氣口12與出氣口13可設計為法蘭接口，便于分別與LPCVD系統反應室1和真空泵4相連接。

在實際使用時，將所述進氣口12與出氣口13分別與LPCVD系統反應室1和真空泵4相連通。在反應室1內產生氣態副產物經過抽真空的方式進入冷阱，氣體通過導流管14進入真空泵4(圖3中的實線箭頭為氣體流經路線)。由于導流管14內設有冷卻水盤管24和冷凝片26，氣體在通過導流管14時，勢必與冷卻水盤管24和冷凝片26充分接觸(圖3中的虛線箭頭為冷卻水流經路線)，通過熱交換的方式使得氣體溫度迅速降低，可凝華的氣體因為溫度降低成為固態，其它非凝華氣體通過冷阱進入真空泵4。凝華生成的固態物質沉淀留在冷阱內，而冷阱內部的導流管14直徑為101.6mm，真空管道直徑為38.1或50.8mm，相比真空管道直徑大大增加，故不易堵塞，且本實用新型的冷阱是方便拆卸下來進行清理的，這樣既保證了真空管道3不被堵塞，同時也避免真空泵4因為凝華物的進入而卡死。

但是，本技術領域中的普通技術人員應當認識到，以上的實施例僅是用來說明本實用新型，而并非用作為對本實用新型的限定，只要在本實用新型的實質精神范圍內，對以上所述實施例的變化、變型都將落在本實用新型的權利要求書范圍內。