真空濺射設備及用其制備得到的復合鋁箔的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種真空濺射設備，此外，本實用新型還涉及了用上述真空濺射設備制備得到的復合鋁箔。
【背景技術】
[0002]鋁箔表面容易因氧化而形成一層致密的氧化層，氧化層的導熱性能不佳從而使鋁箔的導熱性能降低，在鋁箔的表面加一層導熱層，能很好得提高其散熱效果。現在大多采用貼石墨烯膜的方法，貼上去的石墨烯膜對粘結劑要求比較高，即要求有良好導熱性能的同時，又要求有優良的粘結性，固使用時成本較高。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型的目的是為了克服現有技術中鋁箔貼石墨烯膜而造成的成本高的問題，提供一種真空濺射設備及用其制備得到的復合鋁箔，產品不僅其導熱性能比現有技術中貼附有石墨稀的招猜的導熱性能更尚，而且成本低。
[0004]為解決上述技術問題，本實用新型的技術采用以下技術方案:
[0005]—種真空濺射設備，包括真空濺射室以及設于所述真空濺射室內的陰極板、鋁箔放卷輥、鋁箔收卷輥、鋁箔傳動輥，所述真空濺射室底部室壁上設有抽真空口和氬氣入口，所述陰極板設于真空濺射室內上方，所述陰極板上附有石墨烯塊料，所述鋁箔放卷輥和鋁箔收卷輥設于所述陰極板下方兩側，分別完成鋁箔的放卷和收卷，所述鋁箔傳動輥設于所述鋁箔放卷輥和鋁箔收卷輥之間，用于使鋁箔在陰極板下方水平傳動，便于石墨烯塊料鍍于鋁箔上。
[0006]作為優選地，為了使鋁箔的傳動過程中傳動更加平緩，增加鋁箔上鍍石墨烯的效果，所述鋁箔傳動輥有四個，工作條件下，所述真空濺射室內的真空度為-0.1MPa，電極電壓1200?2500V。
[0007]作為優選地，所述石墨烯塊料為品質疏松的石墨烯塊料。
[0008]—種復合鋁箔，包括鋁箔本體，所述鋁箔本體的表面鍍有石墨烯層，工作狀態下，所述真空濺射設備的真空度為-0.1MPa，電極電壓為1200?2500V。
[0009]作為優選的，鍍成的所述石墨烯層的厚度為1-2微米。
[0010]作為優選地，所述石墨稀塊料為品質疏松的石墨稀塊料，。
[0011]與現有技術相比，本實用新型具有的有益效果為:本實用新型的石墨烯層薄，節省原材料且吸附效果好。相對于貼附的石墨烯膜，鋁箔和石墨烯層之間沒有一層粘著劑，產品導熱性能更佳，石墨烯真空濺射，附著效果好。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型實施例1的結構示意圖；
[0013]圖2為本實用新型實施例2的結構示意圖。
[0014]圖中:1-真空濺射室；11-抽真空口；12-氬氣入口；2-陰極板;3-鋁箔放卷輥;4-鋁箔收卷棍;5-招箔傳動棍；6-石墨稀塊料;7-招箔;8-石墨稀層。
【具體實施方式】
[0015]為讓本領域的技術人員更加清晰直觀的了解本實用新型，下面將結合附圖，對本實用新型作進一步的說明。
[0016]實施例1
[0017]本實施例的真空濺射設備如圖1所示，包括真空濺射室I以及設于真空濺射室I內的陰極板2、鋁箔放卷輥3、鋁箔收卷輥4、鋁箔傳動輥5，真空濺射室I底部室壁上設有抽真空口 11和氬氣入口 12，陰極板2設于真空濺射室I內上方，陰極板2上附有石墨烯塊料6，鋁箔放卷輥3和鋁箔收卷輥4設于陰極板2下方兩側，分別完成鋁箔7的放卷和收卷，鋁箔傳動輥5設于鋁箔放卷輥3和鋁箔收卷輥4之間，用于使鋁箔7在陰極板2下方水平傳動，便于石墨烯塊料6鍍于鋁箔7上，其中，為了使鋁箔7的傳動過程中傳動更加平緩，增加鋁箔7上鍍石墨烯的效果，鋁箔傳動輥5有四個，工作條件下，真空濺射室I內的真空度為-0.1MPa，電極電壓1200?2500V。
[0018]實施例2
[0019]本實施例的復合鋁箔包括圖2所示，包括鋁箔7以及鍍于鋁箔7表面的石墨烯層8，工作狀態下，真空濺射室I內的真空度為-0.1MPa，電極電壓1200?2500V。
[0020]作為優選的，鍍成的石墨烯層8的厚度為1-2微米。
[0021]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種真空濺射設備，其特征在于:包括真空濺射室以及設于所述真空濺射室內的陰極板、鋁箔放卷輥、鋁箔收卷輥、鋁箔傳動輥，所述真空濺射室底部室壁上設有抽真空口和氬氣入口，所述陰極板設于真空濺射室內上方，所述陰極板上附有石墨烯塊料，所述鋁箔放卷輥和鋁箔收卷輥設于所述陰極板下方兩側，分別完成鋁箔的放卷和收卷，所述鋁箔傳動輥設于所述鋁箔放卷輥和鋁箔收卷輥之間，用于使鋁箔在陰極板下方水平傳動，便于石墨烯塊料鍍于鋁箔上。2.根據權利要求1所述的真空濺射設備，其特征在于:所述鋁箔傳動輥有四個。3.根據權利要求1所述的真空濺射設備，其特征在于:所述石墨烯塊料為品質疏松的石墨烯塊料。4.一種用權利要求1?3任一項所述的真空濺射設備制備得到的復合鋁箔，其特征在于:包括鋁箔本體，所述鋁箔本體的表面鍍有石墨烯層。5.根據權利要求4所述的復合鋁箔，其特征在于:鍍成的所述石墨烯層的厚度為1-2微米。6.根據權利要求4所述的復合鋁箔，其特征在于:所述石墨烯塊料為品質疏松的石墨烯塊料。
【專利摘要】本實用新型公開了一種真空濺射設備及用其制備得到的復合鋁箔，包括真空濺射室以及設于所述真空濺射室內的陰極板、鋁箔放卷輥、鋁箔收卷輥、鋁箔傳動輥，所述真空濺射室底部室壁上設有抽真空口和氬氣入口，所述陰極板設于真空濺射室內上方，所述陰極板上附有石墨烯塊料，所述鋁箔放卷輥和鋁箔收卷輥設于所述陰極板下方兩側，分別完成鋁箔的放卷和收卷，所述鋁箔傳動輥設于所述鋁箔放卷輥和鋁箔收卷輥之間，用于使鋁箔在陰極板下方水平傳動，便于石墨烯塊料鍍于鋁箔上。本實用新型的石墨烯層薄，節省原材料且吸附效果好。相對于貼附的石墨烯膜，鋁箔和石墨烯層之間沒有一層粘著劑，產品導熱性能更佳，石墨烯真空濺射，附著效果好。
【IPC分類】B32B15/04, C23C14/06, B32B9/04, C23C14/34
【公開號】CN205313659
【申請號】CN201520585834
【發明人】相小琴
【申請人】常州富烯科技股份有限公司
【公開日】2016年6月15日
【申請日】2015年8月6日