縮點釉及其制備方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種縮點釉及其制備方法，屬于釉料制備技術領域。
【背景技術】
[0002]目前，在陶瓷行業中，瓷坯的造型是優質產品的基礎釉料的調配使瓷器更加的耀眼奪目，同一造型的瓷坯，往往因釉面不同，而使消費者的視覺產生不同的影響，如果使其釉面收縮成點狀的釉，其表面狀態似人們日常食用的蔬菜“苦瓜”，這種縮點釉有的亞光，有的具有光澤，裝飾于花瓶類、杯碟類陶瓷產品，美觀別致，有良好的藝術效果，產品極具收藏價值。
【發明內容】
[0003]本發明所要解決的技術問題是克服現有技術的缺陷，提供一種縮點釉，它的釉層收縮成點狀效果，美觀別致，有良好的藝術效果，產品極具收藏價值。
[0004]為了解決上述技術問題，本發明的技術方案是:一種縮點釉，它的組份和各組份質量份如下:
[0005]基礎釉料:100份；氣象硅:15份-25份。
[0006]基礎釉料的組份和各組份質量份如下:鉀長石:40份-45份；石英:15份-20份；方解石:8份-10份；碳酸鍶:3份-5份；氧化鋅:1份-2份；碳酸鋇:3份-5份；高嶺土:6份_8份；滑石:4份-5份；娃酸錯:12份-15份。
[0007]在100%的基礎釉料中還含有質量百分比為萬分之五到千分之一的羧甲基纖維素。
[0008]基礎釉料中還含有質量份為2份的氧化鋁和質量份為I份的石英。
[0009]本發明還提供了一種縮點釉的制備方法，該方法的步驟如下:
[0010](a)按照各組份和各組份質量份備料；
[0011](b)將備好的料倒入球磨機中加入球磨介質和水進行球磨；其中，料:水的質量比=I: (0.5-0.6)，并且加入的球磨介質的體積為球磨機容積的1/3-1/2 ；
[0012](c)球磨結束后，卸放釉漿，測定釉漿細度，釉漿細度控制在325目篩余:0.02% -0.10% ;再調成37-38波美度的釉漿，取外表光潔的坯體進行施釉，經氧化氣氛下燒制成品。
[0013]進一步，在步驟(b)中，球磨介質采用高銷球石，按照大:中:小=1:2:1質量比的級配加入。
[0014]進一步，在所述的步驟(b)中，球磨時間、球磨轉速和裝載量的條件如下:采用1kg球磨機，球磨轉速為60-62轉/分，球磨時間在12小時，球磨機的裝載量為6kg的原料；采用500kg球磨機:球磨轉速為21轉/分，球磨時間14小時，球磨機的裝載量為300kg原料。
[0015]進一步，在所述的步驟(C)中，取外表光潔的坯體進行施釉，施釉厚度在2.0-3.0mm0
[0016]采用了上述技術方案后，通過在基礎釉料中引入氣象硅(碳酸鎂)15份-25份，縮釉效果很好，形成大小均勻點狀，制備出了極具藝術價值的縮點釉陶瓷制品，而且具有防滑作用。
【具體實施方式】
[0017]為了使本發明的內容更容易被清楚地理解，下面根據具體實施例，對本發明作進一步詳細的說明。
[0018]實施例一
[0019]一種縮點釉，它的組份和各組份質量份如下:
[0020]基礎釉料:100份；氣象硅:15份。
[0021]基礎釉料的組份和各組份質量份如下:鉀長石:40份；石英:15份；方解石:8份；碳酸鍶:3份；氧化鋅:1份；碳酸鋇:3份；高嶺土:6份；滑石:4份；硅酸鋯:12份。
[0022]在100%的基礎釉料中還含有質量百分比為萬分之五的羧甲基纖維素。
[0023]基礎釉料中還含有質量份為2份的氧化鋁和質量份為I份的石英。
[0024]該縮點釉的制備方法的步驟如下:
[0025](a)按照各組份和各組份質量份備料；
[0026](b)將備好的料倒入球磨機中加入球磨介質和水進行球磨；其中，料:水的質量比=I: (0.5-0.6)，并且加入的球磨介質的體積為球磨機容積的1/3-1/2 ；
[0027](c)球磨結束后，卸放釉漿，測定釉漿細度，釉漿細度控制在325目篩余:0.02% -0.10% ;再調成37-38波美度的釉漿，取外表光潔的坯體進行施釉，經氧化氣氛下燒制成品。
[0028]在步驟(b)中，球磨介質采用高鋁球石，按照大:中:小=1:2:1質量比的級配加入。
[0029]在步驟(b)中，球磨時間、球磨轉速和裝載量的條件如下:采用1kg球磨機，球磨轉速為60-62轉/分，球磨時間在12小時，球磨機的裝載量為6kg的原料。
[0030]在所述的步驟(c)中，取外表光潔的坯體進行施釉，施釉厚度在2.0-3.0mm。
[0031]實施例二
[0032]一種縮點釉，它的組份和各組份質量份如下:
[0033]基礎釉料:100份；氣象硅:25份。
[0034]基礎釉料的組份和各組份質量份如下:鉀長石:45份；石英:20份；方解石:10份；碳酸鍶:5份；氧化鋅'2份；碳酸鋇:5份；高嶺土:8份；滑石:5份；硅酸鋯:15份。
[0035]在100%的基礎釉料中還含有質量百分比為千分之一的羧甲基纖維素。
[0036]基礎釉料中還含有質量份為2份的氧化鋁和質量份為I份的石英。
[0037]該縮點釉的制備方法的步驟如下:
[0038](a)按照各組份和各組份質量份備料；
[0039](b)將備好的料倒入球磨機中加入球磨介質和水進行球磨；其中，料:水的質量比=1:(0.5-0.6)，并且加入的球磨介質的體積為球磨機容積的(1/3-1/2)；
[0040](c)球磨結束后，卸放釉漿，測定釉漿細度，釉漿細度控制在325目篩余:0.02% -0.10% ;再調成37-38波美度的釉漿，取外表光潔的坯體進行施釉，經氧化氣氛下燒制成品。
[0041]在步驟(b)中，球磨介質采用高鋁球石，按照大:中:小=1:2:1質量比的級配加入。
[0042]在步驟(b)中，球磨時間、球磨轉速和裝載量的條件如下:采用500kg球磨機:球磨轉速為21轉/分，球磨時間14小時，球磨機的裝載量為300kg原料。
[0043]在所述的步驟(C)中，取外表光潔的坯體進行施釉，施釉厚度在2.0-3.0_。
[0044]實施例三
[0045]一種縮點釉，它的組份和各組份質量份如下:
[0046]基礎釉料:100份；氣象硅:20份。
[0047]基礎釉料的組份和各組份質量份如下:鉀長石:42份；石英:18份；方解石:9份；碳酸鍶:4份；氧化鋅:1份；碳酸鋇:4份；高嶺土:7份；滑石:4份；硅酸鋯:12份。
[0048]在100%的基礎釉料中還含有質量百分比為千分之一的羧甲基纖維素。
[0049]基礎釉料中還含有質量份為2份的氧化鋁和質量份為I份的石英。
[0050]該縮點釉的制備方法的步驟如下:
[0051](a)按照各組份和各組份質量份備料；
[0052](b)將備好的料倒入球磨機中加入球磨介質和水進行球磨；其中，料:水的質量比=I: (0.5-0.6)，并且加入的球磨介質的體積為球磨機容積的1/3-1/2 ；
[0053](c)球磨結束后，卸放釉漿，測定釉漿細度，釉漿細度控制在325目篩余:
0.02% -0.10% ;再調成37-38波美度的釉漿，取外表光潔的坯體進行施釉，經氧化氣氛下燒制成品。
[0054]在步驟(b)中，球磨介質采用高銷球石，按照大:中:小=1:2:1質量比的級配加入。
[0055]在步驟(b)中，球磨時間、球磨轉速和裝載量的條件如下:采用1kg球磨機，球磨轉速為60-62轉/分，球磨時間在12小時，球磨機的裝載量為6kg的原料。
[0056]在所述的步驟(C)中，取外表光潔的坯體進行施釉，施釉厚度在2.0-3.0_。
[0057]以上三個實施例所制備的縮點釉縮釉效果很好，形成大小均勻點狀，制備出了極具藝術價值的縮點釉陶瓷制品，而且具有防滑作用。
[0058]以上所述的具體實施例，對本發明解決的技術問題、技術方案和有益效果進行了進一步詳細說明，所應理解的是，以上所述僅為本發明的具體實施例而已，并不用于限制本發明，凡在本發明的精神和原則之內，所做的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發明的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種縮點釉，其特征在于它的組份和各組份質量份如下: 基礎釉料:100份；氣象硅:15份-25份。2.根據權利要求1所述的縮點釉，其特征在于:所述的基礎釉料的組份和各組份質量份如下:鉀長石:40份-45份；石英:15份-20份；方解石:8份-10份；碳酸鍶:3份-5份；氧化鋅份-2份；碳酸鋇:3份-5份；高嶺土:6份-8份；滑石:4份-5份；硅酸鋯:12份-15份。3.根據權利要求2所述的縮點釉，其特征在于:在100%的基礎釉料中還含有質量百分比為萬分之五到千分之一的羧甲基纖維素。4.根據權利要求2所述的縮點釉，其特征在于:所述的基礎釉料中還含有質量份為2份的氧化鋁和質量份為I份的石英。5.—種如權利要求1至4中任一項所述的縮點釉的制備方法，其特征在于該方法的步驟如下: (a)按照各組份和各組份質量份備料； (b)將備好的料倒入球磨機中加入球磨介質和水進行球磨；其中，料:水的質量比=I:(0.5-0.6)，并且加入的球磨介質的體積為球磨機容積的1/3-1/2 ； (c)球磨結束后，卸放釉漿，測定釉漿細度，釉漿細度控制在325目篩余:0.02% -0.10% ;再調成37-38波美度的釉漿，取外表光潔的坯體進行施釉，經氧化氣氛下燒制成品。6.根據權利要求5所述的縮點釉的制備方法，其特征在于:在步驟(b)中，球磨介質采用高鋁球石，按照大:中:小=1:2:1質量比的級配加入。7.根據權利要求5所述的縮點釉的制備方法:其特征在于:在所述的步驟(b)中，球磨時間、球磨轉速和裝載量的條件如下:采用1kg球磨機，球磨轉速為60-62轉/分，球磨時間在12小時，球磨機的裝載量為6kg的原料；采用500kg球磨機:球磨轉速為21轉/分，球磨時間14小時，球磨機的裝載量為300kg原料。8.根據權利要求5所述的縮點釉的制備方法:其特征在于:在所述的步驟(c)中，取外表光潔的還體進行施釉，施釉厚度在2.0-3.0mm。
【專利摘要】本發明公開了一種縮點釉，它的組份和各組份質量份如下：基礎釉料：100份；氣象硅：15份-25份，基礎釉料的組份和各組份質量份如下：鉀長石：40份-45份；石英：15份-20份；方解石：8份-10份；碳酸鍶：3份-5份；氧化鋅：1份-2份；碳酸鋇：3份-5份；高嶺土：6份-8份；滑石：4份-5份；硅酸鋯：12份-15份。本發明的釉層收縮成點狀效果，美觀別致，有良好的藝術效果，產品極具收藏價值。
【IPC分類】C04B41/86
【公開號】CN104909833
【申請號】CN201510236232
【發明人】林迪輝
【申請人】湖南仙鳳瓷業有限公司
【公開日】2015年9月16日
【申請日】2015年5月11日