Ito膜刻蝕液的制作方法
【專利摘要】本發明公開了一種ITO膜刻蝕液，由0.4～0.6重量份的三氟甲基磺酸，2.5～2.8重量份的亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉，1.5～2重量份的1、2-乙二磺酸，6～7重量份的草酸以及88～90重量份的配制用水配制得到。上述原料中三氟甲基磺酸是最強的有機酸，通過適量比例的各種酸混合搭配提高刻蝕速率，亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉具有極強的絡合作用，可有效穩定絡合各金屬離子，1、2-乙二磺酸和三氟甲基磺酸也能夠與金屬離子形成穩定的水溶性鹽，有效解決金屬離子易于與草酸沉淀形成殘渣的問題，同時，該刻蝕液在刻蝕過程中不會產生氣泡，大大提高蝕刻精度。
【專利說明】ITO膜刻蝕液
【技術領域】
[0001]本發明涉及電子產品生產領域，具體涉及一種ITO膜刻蝕液。
【背景技術】
[0002]ITO膜是指采用磁控濺射的方法，在透明有機薄膜材料上濺射透明氧化銦錫(ITO)導電薄膜鍍層，并經高溫退火處理得到的高技術產品。由于ITO導電膜具有低電阻率，高可見光透過率、高紅外反射、對襯底具有很好的附著性、抗擦傷等諸多優良的物理性能以及良好的化學穩定性等特點，因此被廣泛應用于各類觸摸屏上。在生產過程中，為獲得所需各種像素的精細圖像，需對ITO膜進行刻蝕處理，亦即在氧化銦錫層上覆涂光刻膠，接著通過曝光和顯影，形成所需圖案，再用蝕刻液進行蝕刻，在基板上形成透明的電極圖案。但是現有的刻蝕液應用于ITO膜刻蝕時，容易因刻蝕產生的殘渣或泡沫造成刻蝕精度差、刻蝕面粗糙等問題，并且刻蝕的效率低。
【發明內容】
[0003]本發明的目的在于提供一種ITO膜刻蝕液，用其對ITO膜刻蝕，可有效解決上述問題，提高ITO膜刻蝕的質 量和效率。
[0004]為實現上述目的，本發明采用如下技術方案進行實施:
[0005]一種ITO膜刻蝕液，其是由以下重量組分配制得到:
[0006]0.4~0.6重量份的三氟甲基磺酸，2.5~2.8重量份的亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉，1.5~2重量份的1、2-乙二磺酸，6~7重量份的草酸以及88~90重量份的配制用水。
[0007]配制用水為蒸餾水或去離子水。
[0008]更為優選的方案為:
[0009]ITO膜刻蝕液是由以下重量組分配制得到:
[0010]0.5重量份的三氟甲基磺酸，2.8重量份的亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉，1.8重量份的1、2_乙二磺酸，6重量份的草酸，89重量份的配制用水。
[0011]本發明中采用1、2_乙二磺酸、亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉、三氟甲基磺酸和草酸進行配伍混合配置制得到ITO刻蝕用刻蝕液，三氟甲基磺酸是最強的有機酸，通過適量比例的各種酸混合搭配提高刻蝕速率，亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉具有極強的絡合作用，可有效穩定絡合各金屬離子，1、2-乙二磺酸和三氟甲基磺酸也能夠與金屬離子形成穩定的水溶性鹽，有效解決金屬離子易于與草酸沉淀形成殘渣問題，同時，該刻蝕液在刻蝕過程中不會產生氣泡，大大提高蝕刻精度。并且，1、2_乙二磺酸、亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉和三氟甲基磺酸可以極大的提高草酸的溶解性以及在ITO膜表面的潤濕性能，在常溫下即可實現對ITO膜進行刻蝕。另外，該刻蝕液的化學穩定性好，易生物降解，無毒，環保。
【具體實施方式】
[0012]為了使本發明的目的及優點更加清楚明白，以下結合實施例對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明權利要求請求保護的范圍，實施例中所涉及的各種藥品，如無特別說明，均可通過商業途徑購買得到。
[0013]實施例1:
[0014]準確稱取各原料備用，混合配制以下重量組分原料構成的ITO刻蝕液；
[0015]1.5重量份的1、2-乙二磺酸，0.6重量份的三氟甲基磺酸，2.5重量份的亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉，7重量份的草酸，88.4重量份的蒸餾水。
[0016]向表面為ITO膜構成的板材(板材的基材為玻璃板或PET板構成)表面均勻涂覆一層感光膠膜，將涂好感光膠膜的板材烘干冷卻至室溫，然后對板材進行曝光和顯影處理，最后利用刻蝕液在23~25°C條件下對板材進行刻蝕處理，蝕刻時間可根據ITO膜的膜厚等進行調節，蝕刻結束后，進行清洗和干燥。
[0017]利用掃描電子顯微鏡對ITO膜的刻蝕性能進行檢測，亦即對殘渣的殘存量進行檢測，檢測結果用Al-、Al、Al+表示，其中Al表示基本沒有殘渣，結果Al-劣于Al，Al劣于Al+ ;對配置的ITO膜 刻蝕液進行銦溶解量測試(氧化銦在刻蝕液中的溶解量)，銦溶解量檢測結果用A2-、A2、A2+表示，其中A2表示銦溶解量為1000~1100mg/L,結果A2-劣于A2，A2劣于A2+ ;對配置的ITO膜刻蝕液進行消泡性能測試，將刻蝕液置于試管中不斷震蕩，起泡性能檢測結果用A3-、A3、A3+表示，其中A3表示產生少量的氣泡(20ml刻蝕液在100mL試管中所起泡沫高度為4~5ml)，表征趨勢A3-劣于A3，A3劣于A3+。
[0018]實施例2
[0019]準確稱取各原料，混合配制以下重量組分原料構成的ITO刻蝕液；
[0020]1.8重量份的1、2_乙二磺酸，0.5重量份的三氟甲基磺酸，2.8重量份的亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉，6重量份的草酸，89重量份的蒸餾水。
[0021]向表面為ITO膜構成的板材(板材的基材為玻璃板或PET板構成)表面均勻涂覆一層感光膠膜，將涂好感光膠膜的板材烘干冷卻至室溫，然后對板材進行曝光和顯影處理，最后利用刻蝕液在23~25°C條件下對板材進行刻蝕處理，蝕刻時間可根據ITO膜的膜厚等進行調節，蝕刻結束后，進行清洗和干燥。
[0022]利用掃描電子顯微鏡對ITO膜的刻蝕性能進行檢測，亦即對殘渣的殘存量進行檢測,檢測結果用A1-、A1、A1+表示，其中Al表示基本沒有殘渣，結果Al-劣于Al，Al劣于Al+ ；對配置的ITO膜刻蝕液進行銦溶解量測試(氧化銦在刻蝕液中的溶解性)，銦溶解量檢測結果用A2-、A2、A2+表示，其中A2表示銦溶解量1000~1100mg/L沒有殘渣，結果A2-劣于A2，A2劣于A2+ ;對配置的ITO膜刻蝕液進行消泡性能測試，將刻蝕液置于試管中不斷震蕩，起泡性能檢測結果用A3-、A3、A3+表示，其中A3表示產生少量的氣泡(20ml刻蝕液在100mL試管中所起泡沫高度為4~5ml)，表征趨勢A3-劣于A3，A3劣于A3+。
[0023]實施例3
[0024]準確稱取各原料，混合配制以下重量組分原料構成的ITO刻蝕液；
[0025]2重量份的1、2_乙二磺酸，0.4重量份的三氟甲基磺酸，2.8重量份的亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉，6重量份的草酸，88.8重量份的蒸餾水。
[0026]向表面為ITO膜構成的板材(板材的基材為玻璃板或PET板構成)表面均勻涂覆一層感光膠膜，將涂好感光膠膜的板材烘干冷卻至室溫，然后對板材進行曝光和顯影處理，最后利用刻蝕液在23~25°C條件下對板材進行刻蝕處理，蝕刻時間可根據ITO膜的膜厚等進行調節，蝕刻結束后，進行清洗和干燥。
[0027] 利用掃描電子顯微鏡對ITO膜的刻蝕性能進行檢測，亦即對殘渣的殘存量進行檢測,檢測結果用A1-、A1、A1+表示，其中Al表示基本沒有殘渣，結果Al-劣于Al，Al劣于Al+ ；對配置的ITO膜刻蝕液進行銦溶解量測試(氧化銦在刻蝕液中的溶解性)，銦溶解量檢測結果用A2-、A2、A2+表示，其中A2表示銦溶解量1000~1100mg/L沒有殘渣，結果A2-劣于A2，A2劣于A2+ ;對配置的ITO膜刻蝕液進行消泡性能測試，將刻蝕液置于試管中不斷震蕩，起泡性能檢測結果用A3-、A3、A3+表示，其中A3表示產生少量的氣泡(20ml刻蝕液在100mL試管中所起泡沫高度為4~5ml)，表征趨勢A3-劣于A3，A3劣于A3+。
[0028]實施例4
[0029]準確稱取各原料，混合配制以下重量組分原料構成的ITO刻蝕液；
[0030]0.9重量份的三氟甲基磺酸，7重量份的草酸，93.1重量份的蒸餾水。
[0031]向表面為ITO膜構成的板材(板材的基材為玻璃板或PET板構成)表面均勻涂覆一層感光膠膜，將涂好感光膠膜的板材烘干冷卻至室溫，然后對板材進行曝光和顯影處理，最后利用刻蝕液在23~25°C條件下對板材進行刻蝕處理，蝕刻時間可根據ITO膜的膜厚等進行調節，蝕刻結束后，進行清洗和干燥。
[0032]利用掃描電子顯微鏡對ITO膜的刻蝕性能進行檢測，亦即對殘渣的殘存量進行檢測,檢測結果用A1-、A1、A1+表示，其中Al表示基本沒有殘渣，結果Al-劣于Al，Al劣于Al+ ；對配置的ITO膜刻蝕液進行銦溶解量測試(氧化銦在刻蝕液中的溶解性)，銦溶解量檢測結果用A2-、A2、A2+表示，其中A2表示銦溶解量1000~1100mg/L沒有殘渣，結果A2-劣于A2，A2劣于A2+ ;對配置的ITO膜刻蝕液進行消泡性能測試，將刻蝕液置于試管中不斷震蕩，起泡性能檢測結果用A3-、A3、A3+表示，其中A3表示產生少量的氣泡(20ml刻蝕液在100mL試管中所起泡沫高度為4~5ml)，表征趨勢A3-劣于A3，A3劣于A3+。
[0033]實施例5
[0034]準確稱取各原料，混合配制以下重量組分原料構成的ITO刻蝕液；
[0035]2.5重量份的1、2_乙二磺酸，2.5重量份的亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉，7重量份的草酸，88重量份的蒸餾水。
[0036]向表面為ITO膜構成的板材(板材的基材為玻璃板或PET板構成)表面均勻涂覆一層感光膠膜，將涂好感光膠膜的板材烘干冷卻至室溫，然后對板材進行曝光和顯影處理，最后利用刻蝕液在23~25°C條件下對板材進行刻蝕處理，蝕刻時間可根據ITO膜的膜厚等進行調節，蝕刻結束后，進行清洗和干燥。
[0037]利用掃描電子顯微鏡對ITO膜的刻蝕性能進行檢測，亦即對殘渣的殘存量進行檢測,檢測結果用A1-、A1、A1+表示，其中Al表示基本沒有殘渣，結果Al-劣于Al，Al劣于Al+ ；對配置的ITO膜刻蝕液進行銦溶解量測試(氧化銦在刻蝕液中的溶解性)，銦溶解量檢測結果用A2-、A2、A2+表示，其中A2表示銦溶解量1000~1100mg/L沒有殘渣，結果A2-劣于A2，A2劣于A2+ ;對配置的ITO膜刻蝕液進行消泡性能測試，將刻蝕液置于試管中不斷震蕩，起泡性能檢測結果用A3-、A3、A3+表示，其中A3表示產生少量的氣泡(20ml刻蝕液在100mL試管中所起泡沫高度為4~5ml)，表征趨勢A3-劣于A3，A3劣于A3+。
[0038]實施例6[0039]準確稱取各原料，混合配制以下重量組分原料構成的ITO刻蝕液；
[0040]3重量份的1、2_乙二磺酸，2重量份十二烷基醚硫酸鹽，7重量份的草酸，88重量份的蒸餾水。
[0041]向表面為ITO膜構成的板材(板材的基材為玻璃板或PET板構成)表面均勻涂覆一層感光膠膜，將涂好感光膠膜的板材烘干冷卻至室溫，然后對板材進行曝光和顯影處理，最后利用刻蝕液在23~25°C條件下對板材進行刻蝕處理，蝕刻時間可根據ITO膜的膜厚等進行調節，蝕刻結束后，進行清洗和干燥。
[0042]利用掃描電子顯微鏡對ITO膜的刻蝕性能進行檢測，亦即對殘渣的殘存量進行檢測,檢測結果用A1-、A1、A1+表示，其中Al表示基本沒有殘渣，結果Al-劣于Al，Al劣于Al+ ；對配置的ITO膜刻蝕液進行銦溶解量測試(氧化銦在刻蝕液中的溶解性)，銦溶解量檢測結果用A2-、A2、A2+表示，其中A2表示銦溶解量1000~1100mg/L沒有殘渣，結果A2-劣于A2，A2劣于A2+ ;對配置的ITO膜刻蝕液進行消泡性能測試，將刻蝕液置于試管中不斷震蕩，起泡性能檢測結果用A3-、A3、A3+表示，其中A3表示產生少量的氣泡(20ml刻蝕液在100mL試管中所起泡沫高度為4~5ml)，表征趨勢A3-劣于A3，A3劣于A3+。
[0043]結果:
[0044]
【權利要求】
1.一種ITO膜刻蝕液，其是由以下重量組分配制得到:.0.4~0.6重量份的三氟甲基磺酸，2.5~2.8重量份的亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉，.1.5~2重量份的1、2_乙二磺酸，6~7重量份的草酸以及88~90重量份的配制用水。
2.如權利要求1所述的ITO膜刻蝕液，其特征在于:三氟甲基磺酸用量為0.5重量份。
3.如權利要求1所述的ITO膜刻蝕液，其特征在于:1、2_乙二磺酸用量為1.8重量份。
4.如權利要求1所述的ITO膜刻蝕液，其特征在于:亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉用量為2.8重量份。
5.如權利要求1所述的ITO膜刻蝕液，其特征在于:草酸用量為2.8重量份。
6.如權利要求1~5中任意一項所述的ITO膜刻蝕液,其特征在于:刻蝕液是由以下重量組分配制得到: . 0.5重量份的三氟甲基磺酸，2.8重量份的亞乙基二胺四甲叉膦酸鈉，1.8重量份的1、2-乙二磺酸，6重量份的草酸，89重量份的配制用水。
【文檔編號】C09K13/00GK103937505SQ201410182937
【公開日】2014年7月23日 申請日期:2014年4月30日 優先權日:2014年4月30日
【發明者】王麗 申請人:王麗