一種機械加工研磨液的制作方法
【技術領域】
[0001] 該發明涉及機械加工研磨液，屬于機械加工領域。
【背景技術】
[0002] CN102398222 A公開了一種可傳輸磨削液的單路高速旋轉接頭，主要用于加工光 學元件、陶瓷元件的就磨機床。其主要技術方案是；接頭的結構為，在下套的上部外圓柱面 上，裝有一個精密調必球軸承，調必球軸承的外圈與下殼體的內孔相配合，上殼體和下殼體 連接在一起，上套的下端插入下套的內孔中，上套的外圓柱面上裝有Η個密封圈，與下套的 內孔相配合形成一個Η級密封腔，上套的上端固定在上殼體上，并聯接一個插入式直角接 頭。該發明通過試用證明：從根本上克服了原接頭存在的結構易損、冷卻效果下降的缺陷， 有效地提高了旋轉接頭的冷卻質量和使用壽命，滿足現代就磨生產對旋轉接頭的使用要 求。
[0003] CN102430982 A公開了一種砂輪氣流場輔助注入磨削液的方法及裝置，它將供給 磨削液噴嘴的位置設在模形磨削區氣流場返回流之上，且與砂輪圓周相切，噴嘴噴出磨削 液的速度和砂輪圓周速度相等，借助砂輪速度和在模形磨削區氣流場壓力和速度的迅速增 高獲得的能量，輔助磨削液注入切削區。該發明不用沖破砂輪氣障的影響，節省了供液系統 的無用功能量；供給磨削液噴嘴與砂輪圓周相切，噴出磨削液的速度和砂輪圓周速度相等， 在砂輪的拖曳作用之下，磨削液在砂輪帶動之下更有效通過磨削區；因砂輪氣流場在模形 磨削區的動壓力和速度大幅度增加，磨削液在模形區獲得更多的動力和能量，又由于模形 區最小間隙之后形成負壓，增加了磨削液通過砂輪與工件界面的流量。
[0004] CN102528670 A公開了一種機床磨削液的凈化循環方法及裝置，在機床的床身上 開設排放槽，使機床在磨削過程中的流下的磨削液從排放槽中引至沉淀箱內，磨削液在排 放槽的流動過程中，利用磁性材料吸附磨削液中所含的磁性金屬，實現第一次凈化；經過第 一次凈化的磨削液在引入沉淀箱后進行自然沉淀，實現第二次凈化；經過第二次凈化的磨 削液通過循環泉送至機床的工作臺上進行循環使用，W實現機床磨削液的凈化循環。本發 明利用磁性材料對磨削液中較大的磁性金屬雜質進行第一次凈化，再通過自然沉淀進行第 二次凈化，將經過兩次凈化的磨削液通過循環泉送回工作臺進行循環使用；由于兩次凈化 都不需要額外的動力源，因此不僅結構簡單，而且使用成本低廉，同時能保證較好的凈化效 果，極大的延長了磨削液的使用壽命，使磨削液可W使用半年W上才進行更換。
[0005] CN102559354 A公開了一種水基玻璃磨削液。送種水基玻璃磨削液包含漠化烷基 季倭鹽表面活性劑、有機醇、緩蝕劑和水。其具有優異的冷卻、潤滑、洗涂、防腐蝕等性能，對 金剛石磨具有良好的化學修銳作用，可W明顯提高磨削加工精度和磨具的使用壽命，并有 效防止磨具發生"膩塞"現象；具有良好的玻璃磨削效率，優異的化學穩定性，對健康無害、 不污染環境，成本低，使用簡便，可廣泛應用于各種玻璃的磨削加工和清洗工藝。
[0006] 現有技術公開了各種磨削液，但是本申請著力在于表面活性劑的研究，提供一種 可持續研磨的新的研磨液。
【發明內容】
[0007] 該發明的目的在于提出一種機械加工研磨液。
[0008] 為達此目的，該發明采用W下技術方案：
[0009] 一種機械加工研磨液，包含式（I)的化合物，
[0010]
[0011] 其中n+m = 10-15,其含量為3-8wt%，膠體二氧化飾10-20巧1%，1，2,4-;氮哇 0. 05-0. 15wt% N，N-二己醇氨基己酸0. 05-10wt%，過氧化鋼5-lOwt%，余量為水。
[001引進一步，膠體二氧化飾18wt%，l，2,4-H氮哇0.1wt%N，N-二己醇氨基己酸 1. 38wt%，過氧化鋼7. 5wt%，余量為水。
[0013] 進一步，n+m = 12.
[0014] 進一步，η = 6。
[0015] 本發明的有益效果，在于表面活性劑的選擇，通過式I化合物的選擇，尤其是η、m 的選擇，研磨液活性穩定持久，有利于長期研磨。
【附圖說明】
[0016] 圖1是該發明所選用的表面活性劑化合物的化學結構圖。
【具體實施方式】
[0017] 實施例1
[0018] 一種機械加工研磨液，包含式（I)的化合物，
[0019]
[0020] 其中η = 6, m = 6,其含量為，4. 5wt%，膠體二氧化飾20巧*%，1，2,4-;氮哇 0. 15wt% N, N-二己醇氨基己酸lOwt%，過氧化鋼lOwt%，余量為水。
[00川 實施例2
[002引 膠體二氧化飾18wt%，1，2, 4-H氮哇0.1 wt% N，N-二己醇氨基己酸1. 38wt%，過 氧化鋼7. 5wt %，余量為水。其余同實施例1 [002引 實施例3 :
[0024] -種機械加工研磨液，包含式（I)的化合物，
[00 巧]
[002引 其含量為，4. 5wt %，膠體二氧化飾lOwt %，1，2, 4- S氮哇0. 15wt % N，N-二己醇 氨基己酸lOwt%，過氧化鋼lOwt%，余量為水，η = 7, m = 3。
[0027] 實施例4
[0028] 一種機械加工研磨液，包含式（I)的化合物，
[0029]
[0030] 其中n+m = 15, η = 3,其含量為6. 5wt%，膠體二氧化飾13wt%，1, 2, 4- S氮哇 0. 085wt % N，N-二己醇氨基己酸4. 5wt %，過氧化鋼6. %，余量為水。
[00引]實施例5
[0032] 一種機械加工研磨液，包含式（I)的化合物，
[0033]
[0034] 其中n+m = 13, m = 7,其含量為6wt%，膠體二氧化飾14wt%，l，2,4-ミ氮哇 0. 055wt % N，N-二己醇氨基己酸7. 3wt %，過氧化鋼8. %，余量為水。
[00對 實施例6
[0036] 一種機械加工研磨液，包含式（I)的化合物，
[0037]
[003引其中n+m = 11，其含量為6. 3wt %，膠體二氧化飾10. 8wt %，1，2, 4- S氮哇 0. 078wt % N，N-二己醇氨基己酸3. %，過氧化鋼7. Iwt %，余量為水。
[0039] 研磨液可穩定持續研磨4她W上。
[0040] 在當磨料出現問題時，可通過更換磨料即直接加入磨料即可，無需更換研磨液。
【主權項】
1. 一種機械加工研磨液，包含式（I)的化合物，其中n+m = 10-15,其含量為3-8wt %，膠體二氧化飾10-20wt %，1，2, 4- S氮哇 0. 05-0. 15wt% N，N-二己醇氨基己酸0. 05-10wt%，過氧化鋼5-lOwt%，余量為水。2. 根據權利要求1所述的研磨液，其特征在于膠體二氧化飾ISwt %，1，2, 4-H氮哇 0.1 wt% N，N-二己醇氨基己酸1. 38wt%，過氧化鋼7. 5wt%，余量為水。3. 根據權利要求1所述的研磨液，其特征在于n+m = 12.。4. 根據權利要求1-3所述的研磨液，其特征在于n = 6。
【專利摘要】該發明公開了一種機械加工研磨液，包含式(I)的化合物，其中n+m＝10-15，其含量為3-8wt％，膠體二氧化鈰10-20wt％，1,2,4-三氮唑0.05-0.15wt％N,N-二乙醇氨基乙酸0.05-10wt％，過氧化鈉5-10wt％，余量為水。
【IPC分類】C09G1/02
【公開號】CN105585962
【申請號】CN201410572788
【發明人】張明
【申請人】無錫華冶鋼鐵有限公司
【公開日】2016年5月18日
【申請日】2014年10月23日