濃度調整裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種濃度調整裝置，其特征在于，設有：自動供給裝置、混合槽、以及處理浴，所述處理浴中的處理液被輸送至混合槽，并通過自動供給裝置向混合槽中供給原料，使其與混合槽中的處理液混合，并將經過調整的處理液送回至處理浴。本實用新型提供的濃度調整裝置能夠使處理浴中的處理液濃度保持一定。
【專利說明】濃度調整裝置
【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及一種濃度調整裝置，其可以調整偏光片制造工序中處理液的濃 度。
【背景技術】
[0002] 偏光片被廣泛用于液晶顯示裝置等的生產中，要求其具有高透射率、高偏光度和 均勻性。其中，偏光度為干燥后的偏光片以與拉伸方向垂直的方式重疊時的可見光阻斷率， 其表示偏光片的性能，其越接近100,偏光片的性能越高。
[0003] 以往，在制造偏光片時，需配制各處理液，并將制得的處理液投入處理浴中后，在 處理浴中對作為原料膜的聚乙烯醇膜（PVA膜）進行膨潤處理、染色處理、交聯處理、拉伸處 理等處理，進行偏光片的生產，例如專利文獻1?3中公開的方法。在生產結束后，將處理 液廢棄。
[0004] 但是，隨著上述處理的進行，處理液的濃度逐漸降低，會對偏光片的制品性能產生 影響，使偏光片的制品性能在生產開始時和生產結束時存在差異。如圖7所示，染色浴的碘 濃度會影響偏光片的單體透射率。具體而言，如果染色浴的碘濃度降低，偏光片的單體透射 率有增高的傾向，如果碘濃度升高，則偏光片的單體透射率有降低的傾向。偏光片的單體透 射率影響偏光度，單體透射率越低，顯示出越高的偏光度。
[0005] 而且，如圖8所示，現有的染色浴的碘濃度隨著偏光片生產時間（原料膜染色工序 的通過時間）的延長而降低，與此同時，偏光片的單體透射率也顯示出上升的傾向。
[0006] 另外，如圖9所示，拉伸浴的硼酸濃度會影響原料膜的生產性。具體而言，如果拉 伸浴的硼酸濃度低于3wt %，原料膜無法耐受拉伸浴的液溫（約60°C )，發生溶解、斷裂。如 果拉伸浴的硼酸濃度上升至5wt%以上，則由于原料膜內硼酸的交聯度增高，原料膜變硬， 原料膜無法耐受拉伸而發生斷裂。
[0007] 如圖10所示，現有的拉伸浴的硼酸濃度隨著偏光片生產時間（經染色處理后的原 料膜在拉伸工序的通過時間）的延長而降低，與此同時，偏光片的單體透射率有上升的傾 向。
[0008] 因此，為了保持高透射率和高偏光度、形成均勻的偏光片，處理浴需要保持適當的 碘濃度和硼酸濃度。
[0009] 現有技術文獻
[0010] 專利文獻
[0011] 專利文獻1 :日本特開2005-114990號公報
[0012] 專利文獻2 :日本特開2007-226035號公報
[0013] 專利文獻3 :日本特開2006-267153號公報
[0014] 實用新型的內容
[0015] 實用新型所要解決的技術問題
[0016] 本實用新型就是鑒于上述問題而進行的，其課題在于提供一種濃度調整裝置，其 將處理液從制造偏光片用的處理浴輸送至混合槽，在混合槽中，邊由自動供給裝置供給原 料粉末或原料溶液邊進行攪拌、溶解，然后將經過調整的處理液送回至處理浴。
[0017] 解決技術問題的方案
[0018] 本實用新型通過以下技術方案解決上述技術問題。
[0019] (1) 一種濃度調整裝置，其特征在于，設有：自動供給裝置、混合槽、以及）處理浴，
[0020] 所述處理浴中的處理液被輸送至混合槽，并通過自動供給裝置向混合槽中供給原 料，使其與混合槽中的處理液混合，并將經過調整的處理液送回至處理浴。
[0021] (2)根據（1)所述的濃度調整裝置，其特征在于，混合槽和處理浴之間還設有過濾 器。
[0022] (3)根據⑴或⑵所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述自動供給裝置為粉體 自動供給裝置，其具有貯存槽和粉體定量供給機。
[0023] (4)根據⑴或⑵所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述自動供給裝置為液體 自動供給裝置，其具有貯存槽和定量供給泵。
[0024] (5)根據（1)或（2)所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述原料為硼酸粉末或碘 液。
[0025] (6)根據（1)或（2)所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述處理浴中的處理液被 連續地輸送至混合槽，同時邊通過自動供給裝置向混合槽中供給原料，使其與混合槽中的 處理液混合，邊將經過調整的處理液連續地送回至處理浴。
[0026] (7)根據（1)或（2)所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述處理浴中的處理液通 過泵的作用被送回至混合槽。
[0027] (8)根據（1)或（2)所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述處理浴中的處理液通 過設置于處理浴上的處理液流出部流至混合槽。
[0028] (9)根據（1)或（2)所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述混合槽中裝有攪拌器。
[0029] 實用新型的效果
[0030] 本實用新型提供的濃度調整裝置能夠使處理浴中的處理液濃度保持一定。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0031] 圖1是表示本實用新型的實施例1的裝置結構的示意圖。
[0032] 圖2是表示本實用新型的實施例2的裝置結構的示意圖。
[0033] 圖3是表示本實用新型的實施例3的裝置結構的示意圖。
[0034] 圖4是表示本實用新型的實施例4的裝置結構的示意圖。
[0035] 圖5是表示本實用新型的試驗例1和比較試驗例1所得結果的坐標圖。
[0036] 圖6是表示本實用新型的試驗例2和比較試驗例2所得結果的坐標圖。
[0037] 圖7是示出了染色浴的碘濃度對偏光片特性的影響的坐標圖。
[0038] 圖8是示出了未采用濃度調整裝置的染色浴中偏光片的單體透射率的經時變化 的坐標圖。
[0039] 圖9是示出了拉伸浴的硼酸濃度對原料膜的生產性的影響的坐標圖。
[0040] 圖10是示出了未采用濃度調整裝置的拉伸浴中偏光片的單體透射率的經時變化 的坐標圖。
[0041] 附圖標記
[0042] 1 原料膜
[0043] 2 混合槽
[0044] 3 攪拌機
[0045] 4 泵
[0046] 5 過濾器
[0047] 6 閥門
[0048] 7 處理浴
[0049] 8 處理液排出口
[0050] 9 粉體自動供給裝置
[0051] 10貯存槽
[0052] 11粉體定量供給機
[0053] 12處理液的流出部
[0054] 13液體自動供給裝置
[0055] 14定量供給泵
[0056] 15硼酸粉末
[0057] 16碘濃縮液
【具體實施方式】
[0058] 下面結合附圖對本實用新型的實施方式進行詳細說明。但本實用新型不限于下述 實施方式。
[0059] 本實用新型的濃度調整裝置用于偏光片的制造，其可以任選用于染色處理浴、交 聯處理浴、拉伸處理浴及調整處理浴等。
[0060] 本實用新型的濃度調整裝置，其特征在于，設有：自動供給裝置、帶有攪拌機的混 合槽、以及處理浴，所述處理浴中的處理液通過泵的作用被連續地輸送至混合槽，同時邊通 過自動供給裝置向混合槽中供給原料，使其與混合槽中的處理液混合，邊將經過調整的處 理液連續地送回至處理浴。
[0061] 其中，在混合槽和處理浴之間還可以設有過濾器，以除去處理液中未溶解的成分 和混入的雜質。
[0062] 當處理浴為染色處理浴時，所述自動供給裝置為液體自動供給裝置，其具有貯存 槽和定量供給泵，所述原料為碘液。
[0063] 當處理浴為交聯處理浴或拉伸處理浴時，所述自動供給裝置為粉體自動供給裝 置，其具有貯存槽和粉體定量供給機，所述原料為硼酸粉末。
[0064] 將所述處理浴中的處理液輸送至混合槽的方式沒有特別限制，可以列舉，通過泵 的作用送回至混合槽、通過設置于處理浴上的處理液流出部（利用高度差的作用）流至混 合槽。
[0065] 實施例
[0066] 以下列舉實施例對本實用新型進行說明，但本實用新型并不受其限制。
[0067] 實施例1
[0068] 實施例1的濃度調整裝置如圖1所示，利用泵4將處理液輸送至混合槽2,邊用粉 體自動供給裝置9向混合槽2的處理液中連續地供給硼酸粉末，邊用混合槽2內的攪拌機3 進行攪拌，使硼酸粉末混合并溶解在處理液中，然后，利用泵4使所得處理液通過過濾器5， 將經過調整的處理液送回至處理浴7。
[0069] 實施例2
[0070] 實施例2的濃度調整裝置如圖2所示，使一定量的處理液從處理浴7流出至混合 槽2中，邊用粉體自動供給裝置9向混合槽2的處理液中連續地供給硼酸粉末，邊用混合槽 2內的攪拌機3進行攪拌，使硼酸粉末混合并溶解在處理液中，然后，利用泵4使所得處理液 通過過濾器5,將經過調整的處理液送回至處理浴7。
[0071] 實施例3
[0072] 實施例3的濃度調整裝置如圖3所示，利用泵4將處理液輸送至混合槽2,邊用液 體自動供給裝置13向混合槽2的處理液中連續地供給濃縮碘液，邊用混合槽2內的攪拌機 3進行攪拌，使濃縮碘液與處理液混合，然后，利用泵4使所得處理液通過過濾器5,將經過 調整的處理液送回至處理浴7。
[0073] 實施例4
[0074] 實施例4的濃度調整裝置如圖4所示，使一定量的處理液從處理浴7流出至混合 槽2中，邊用液體自動供給裝置13向混合槽2的處理液中連續地供給濃縮碘液，邊用混合 槽2內的攪拌機3進行攪拌，使濃縮碘液與處理液混合，然后，利用泵4使所得處理液通過 過濾器5,將經過調整的處理液送回至處理浴7。
[0075] 試驗例1
[0076] 采用實施例3或4所述的濃度調整裝置，按照表1所述條件進行試驗，考察染色浴 中碘濃度的經時變化。結果示于圖5。
[0077] 比較試驗例1
[0078] 采用現有的普通裝置，按照表1所述條件進行試驗，考察染色浴中碘濃度的經時 變化。結果示于圖5。
[0079] 表 1
[0080]
【權利要求】
1. 一種濃度調整裝置，其特征在于，設有：自動供給裝置、混合槽、以及處理浴， 所述處理浴中的處理液被輸送至混合槽，并通過自動供給裝置向混合槽中供給原料， 使其與混合槽中的處理液混合，并將經過調整的處理液送回至處理浴。
2. 根據權利要求1所述的濃度調整裝置，其特征在于，混合槽和處理浴之間還設有過 濾器。
3. 根據權利要求1或2所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述自動供給裝置為粉體自 動供給裝置，其具有貯存槽和粉體定量供給機。
4. 根據權利要求1或2所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述自動供給裝置為液體自 動供給裝置，其具有貯存槽和定量供給泵。
5. 根據權利要求1或2所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述原料為硼酸粉末或碘 液。
6. 根據權利要求1或2所述的濃度調整裝置，其特征在于，還具有泵，且通過泵的作用， 所述處理浴中的處理液被連續地輸送至混合槽，同時邊通過自動供給裝置向混合槽中供給 原料，使其與混合槽中的處理液混合，邊將經過調整的處理液連續地送回至處理浴。
7. 根據權利要求1或2所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述處理浴中的處理液通過 設置于處理浴上的處理液流出部流至混合槽。
8. 根據權利要求1或2所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述混合槽中裝有攪拌器。
【文檔編號】B67D7/02GK204079458SQ201420066506
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2014年2月14日 優先權日:2014年2月14日
【發明者】芝田祥司, 神丸剛, 藤井裕己 申請人:日東電工株式會社