一種用于狹縫噴嘴的排廢液槽及狹縫噴嘴清洗裝置的制作方法

本發明涉及狹縫噴嘴技術領域，尤其涉及一種用于狹縫噴嘴的排廢液槽及狹縫噴嘴清洗裝置。

背景技術：

在顯示面板的生產過程中，會用到狹縫噴嘴(Slit Nozzle)來為基板涂膠，由于有些膠液(例如光刻膠)容易干燥固化，因此會在狹縫噴嘴的狹縫內及外側面上結塊，進而造成涂膠不均、SIJI MURA(一種專有名詞，意為在涂膠后宏觀檢測時發現平行于基板長邊的一條亮線)等不良現象發生，因此需要對狹縫噴嘴進行定期清潔。

清潔時，首先要將狹縫噴嘴內殘余的膠液排出至排廢液槽中，現有技術中的排廢液槽如圖1所示，包括本體01，本體01的上表面開設有凹槽02，凹槽02的底面為平面，且連接有排廢液通道03，殘余膠液進入凹槽02內，即可通過排廢液通道03排出。

然而，由于該凹槽02的底面為平面，因此膠液容易在凹槽02的底面殘留，導致排廢液槽的排液效果不好。

技術實現要素：

本發明的實施例提供一種用于狹縫噴嘴的排廢液槽及狹縫噴嘴清洗裝置，可解決現有排廢液槽因膠液容易在凹槽底面殘留而導致排廢液槽的排液效果不好的問題。

為達到上述目的，本發明的實施例采用如下技術方案：

本發明實施例提供了一種用于狹縫噴嘴的排廢液槽，包括本體，所述本體的上表面開設有凹槽，所述凹槽的底部設置有排廢液通道，所述凹槽的側面包括至少一個傾斜面，所述傾斜面的底端相對于所述傾斜面的頂端向遠離所述本體相應外側面的方向傾斜，并與所述排廢液通道連接，所述傾斜面為平面或弧面。

進一步的，所述凹槽的開口為長方形開口，沿所述長方形開口的兩個長邊延伸的所述凹槽的側面均為所述傾斜面，兩個所述傾斜面相對于所述排廢液通道中心線所在的豎直面對稱設置，且兩個所述傾斜面之間的夾角大于或等于45°。

進一步的，所述本體內開設有貫通所述傾斜面的吹氣通道。

進一步的，所述本體的上表面設有第一隔墊件，所述第一隔墊件用于防止狹縫噴嘴與所述本體的上表面接觸，所述第一隔墊件圍繞于所述凹槽的開口周圍。

本發明實施例還提供了一種狹縫噴嘴清洗裝置，包括上述任一技術方案中的排廢液槽，還包括清洗劑容納槽和超聲波發生器，所述清洗劑容納槽的底部設有超聲波換能器，所述超聲波換能器與所述超聲波發生器連接。

進一步的，所述清洗劑容納槽的側壁上設有進液口，底壁上設有出液口。

進一步的，所述清洗劑容納槽的上表面設有第二隔墊件，所述第二隔墊件用于防止狹縫噴嘴與所述清洗劑容納槽的上表面接觸，所述第二隔墊件圍繞于所述清洗劑容納槽的開口周圍。

進一步的，所述清洗劑容納槽的側壁上由上至下依次設有第一液位檢測器和第二液位檢測器；所述第一液位檢測器用于檢測清洗劑的液面是否到達第一液面高度，當清洗劑的液面到達所述第一液面高度時，所述第一液位檢測器發出提示信號；所述第二液位檢測器用于檢測清洗劑的液面是否到達第二液面高度，當清洗劑的液面低于所述第二液面高度時，所述第二液位檢測器發出提示信號。

進一步的，還包括與狹縫噴嘴連接的水平驅動單元和豎直驅動單元，所述水平驅動單元用于驅動所述狹縫噴嘴水平移動，所述豎直驅動單元用于驅動所述狹縫噴嘴豎直移動；所述水平驅動單元包括驅動電機、滑軌以及滑塊，所述滑軌水平設置，所述滑塊滑動配合于所述滑軌上，所述狹縫噴嘴與所述滑塊連接，所述驅動電機可驅動所述滑塊沿所述滑軌滑動。

進一步的，所述本體內開設有貫通所述凹槽內表面的清洗劑通道，所述出液口與所述清洗劑通道連通。

本發明實施例提供的用于狹縫噴嘴的排廢液槽及狹縫噴嘴清洗裝置，由于所述凹槽的側面包括至少一個傾斜面，所述傾斜面的底端相對于所述傾斜面的頂端向遠離所述本體相應外側面的方向傾斜，并與所述排廢液通道連接，所述傾斜面為平面或弧面，因此所述傾斜面可將到達其上的膠液直接導入排廢液通道中，從而減少了膠液的殘留，進而提升了排廢液槽的排液效果。

附圖說明

圖1為現有技術中用于狹縫噴嘴的排廢液槽的示意圖；

圖2為現有技術中狹縫噴嘴的涂膠示意圖；

圖3為本發明實施例用于狹縫噴嘴的排廢液槽的示意圖；

圖4為本發明實施例狹縫噴嘴清洗裝置的示意圖；

圖5為圖4中清洗劑容納槽的示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

在本發明的描述中，需要理解的是，術語“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本發明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本發明的限制。

術語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。

在本發明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規定和限定，術語“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內部的連通。對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本發明中的具體含義。

圖2為現有TFT-LCD光刻膠涂布工藝中的狹縫噴嘴涂膠示意圖。如圖2所示，狹縫噴嘴100由兩個金屬塊101對盒而成，并通過螺栓102固定，兩個金屬塊101中間通過墊片103隔開，以形成狹縫噴嘴100的狹縫a，通常狹縫a的寬度為0.1mm，其寬度可由壓緊螺栓104及拉拔螺栓105來控制調節，光刻膠由導管106引入，而后由狹縫a噴出。通過狹縫噴嘴100整體相對基板200線性移動，即可將光刻膠均勻的涂覆在基板200的表面上。

參照圖3，本發明實施例提供了一種用于狹縫噴嘴100的排廢液槽300，包括本體301，本體301的上表面開設有凹槽302，凹槽302的底部設置有排廢液通道303，凹槽302的側面包括至少一個傾斜面b，傾斜面b的底端相對于傾斜面b的頂端向遠離本體301相應外側面的方向傾斜，并與排廢液通道303連接，傾斜面b為平面或弧面。

本發明實施例提供的用于狹縫噴嘴100的排廢液槽300，由于凹槽302的側面包括至少一個傾斜面b，傾斜面b的底端相對于傾斜面b的頂端向遠離本體301相應外側面的方向傾斜，并與排廢液通道303連接，傾斜面b為平面或弧面，因此傾斜面b可將到達其上的膠液直接導入排廢液通道303中，從而減少了膠液的殘留，進而提升了排廢液槽300的排液效果。

具體的，凹槽302的開口為長方形開口，沿長方形開口的兩個長邊延伸的凹槽302的側面均為傾斜面b，兩個傾斜面b相對于排廢液通道303中心線所在的豎直面對稱設置，且兩個傾斜面b之間的夾角大于或等于45°，由此可通過兩個傾斜面b對膠液進行導流，從而進一步提升了排廢液槽300的排液效果；另外，這樣還可避免兩個傾斜面b之間的夾角小于狹縫噴嘴100兩個外側面之間的夾角，從而避免了對狹縫噴嘴100的下沉造成阻擋，進而使狹縫噴嘴100的狹縫a能夠更靠近排廢液通道303進行排液，進而使膠液能夠更快速的排出。

為了快速干燥狹縫噴嘴100，本實施例中本體301內開設有貫通傾斜面b的吹氣通道305，由此可通過吹氣通道305向狹縫噴嘴100吹氣，從而將狹縫噴嘴100上殘余的液體吹干，進而使狹縫噴嘴100能夠快速干燥。吹氣通道305內通入的氣體優選為氮氣，以降低氣體的成本，同時提高安全性。

參照圖3，本體301的上表面設有第一隔墊件306，第一隔墊件306用于防止狹縫噴嘴100與本體301的上表面接觸，從而避免了狹縫噴嘴100對本體301的上表面造成損傷。優選的，第一隔墊件306圍繞于凹槽302的開口周圍，由此可增大隔墊面積，從而提升了對本體301上表面的保護效果。

另外，長方形開口的兩個長邊分別與相應的傾斜面b之間設有臺階307。

參照圖4和圖5，本發明實施例還提供了一種狹縫噴嘴清洗裝置，包括上述任一實施例的排廢液槽300，還包括清洗劑容納槽400和超聲波發生器500，清洗劑容納槽400的底部設有超聲波換能器600，超聲波換能器600與超聲波發生器500連接，超聲波發生器500用于產生超聲波，并且可以控制超聲波的頻率、強度等參數，超聲波換能器600用于將超聲波轉化為機械振動，而后通過清洗劑容納槽400的槽壁傳導給清洗劑，使清洗劑中產生很多微氣泡，微氣泡迅速生長、破裂即可分散狹縫噴嘴100上結塊的光刻膠，并降低光刻膠與狹縫噴嘴100之間的粘附力，從而使光刻膠與狹縫噴嘴100分離，進而達到有效祛除狹縫噴嘴100上附著的固化光刻膠的目的。本發明實施例的狹縫噴嘴清洗裝置利用超聲波的空化效應，不僅結構簡單、高效，而且是非接觸式清洗，可避免人員操作不當對狹縫噴嘴100造成的損傷。

為了方便清洗劑的通入與排出，清洗劑容納槽400的側壁上設有進液口401，底壁上設有出液口402。

參照圖5，清洗劑容納槽400的上表面設有第二隔墊件403，第二隔墊件403用于防止狹縫噴嘴100與清洗劑容納槽400的上表面接觸，從而避免了狹縫噴嘴100對清洗劑容納槽400的上表面造成損傷。優選的，第二隔墊件403圍繞于清洗劑容納槽400的開口周圍，由此可增大隔墊面積，從而提升了對清洗劑容納槽400上表面的保護效果。

進一步的，清洗劑容納槽400的側壁上由上至下依次設有第一液位檢測器404和第二液位檢測器405；第一液位檢測器404用于檢測清洗劑的液面是否到達第一液面高度，當清洗劑的液面到達第一液面高度時，第一液位檢測器404發出提示信號，以防止清洗劑的液面過高造成清洗劑的浪費；第二液位檢測器405用于檢測清洗劑的液面是否到達第二液面高度，當清洗劑的液面低于第二液面高度時，第二液位檢測器405發出提示信號，以防止清洗劑的液面過低影響對狹縫噴嘴100的清洗效果。

清洗劑容納槽400優選由不銹鋼材料制作，不銹鋼材料對超聲波反射較強，可提升超聲波空化效應的效果，從而提升了對狹縫噴嘴100的清洗效果。

參照圖4，本實施例中的狹縫噴嘴清洗裝置還包括與狹縫噴嘴100連接的水平驅動單元700和豎直驅動單元800，水平驅動單元700用于驅動狹縫噴嘴100水平移動，豎直驅動單元800用于驅動狹縫噴嘴100豎直移動，由此實現了對狹縫噴嘴100的自動化驅動。具體的，水平驅動單元700包括驅動電機(圖中未示出)、滑軌701以及滑塊702，滑軌701水平設置，滑塊702滑動配合于滑軌701上，狹縫噴嘴100與滑塊702連接，驅動電機可驅動滑塊702沿滑軌701滑動，從而帶動狹縫噴嘴100水平移動，進而使狹縫噴嘴100水平移動的更穩定。

本體301內開設有貫通凹槽302內表面的清洗劑通道(圖中未示出)，出液口402與清洗劑通道連通，由此，清洗劑容納槽400內的清洗劑可依次通過出液口402以及清洗劑通道流入凹槽302內，最終流入排廢液通道303，從而將排廢液槽300內固化的光刻膠清除，也防止了排廢液通道303被堵塞的問題。清洗劑容納槽400內的清洗劑優選為丙二醇單甲醚乙酸酯(C₆H₁₂O₃)。

本發明狹縫噴嘴清洗裝置的具體操作流程如下：

1、通過水平驅動單元700驅動狹縫噴嘴100水平移動至排廢液槽300處，將狹縫噴嘴100內殘余的膠液排出，同時通過導管106向狹縫噴嘴100內充入稀釋劑(通常為丙二醇單甲醚乙酸酯)；

2、通過水平驅動單元700和豎直驅動單元800驅動狹縫噴嘴100移動，使狹縫噴嘴100上需要清洗的部位沉入清洗劑容納槽400內的清洗劑中；

3、開啟超聲波發生器500對狹縫噴嘴100進行清洗；

4、通過水平驅動單元700和豎直驅動單元800驅動狹縫噴嘴100再次移動至排廢液槽300處，再次通入稀釋劑，使狹縫噴嘴100內原有的稀釋劑及分散的光刻膠一同排出；

5、向吹氣通道305內通入N₂，同時通過豎直驅動單元800驅動狹縫噴嘴100上下移動，以達到更好的干燥效果；

6、向狹縫噴嘴100內通入新的膠液。

綜上所述，本發明實施例提供的一體化狹縫噴嘴清洗裝置，采用超聲波清洗取代現有的機械插入式清洗，使機臺在連續生產狀態下對狹縫噴嘴100狹縫及周邊部分進行清潔，不僅有效預防了光刻膠干燥結塊堵塞噴頭而造成的涂膠不勻、SIJI MURA等不良現象的發生，有效的保證了涂膠工藝的品質，而且還避免了因頻繁停機造成的產能損失以及顆粒(particle)帶入等問題。通過本發明在連續生產狀態下實現自動清洗模式，達到了提前預防，而不是不良發生后補救，從而有效減少了產品的返工率。

以上所述，僅為本發明的具體實施方式，但本發明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術范圍內，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。因此，本發明的保護范圍應以所述權利要求的保護范圍為準。