傾斜驅動光拾取致動器及其光學記錄和/或再現裝置的制作方法

專利名稱：傾斜驅動光拾取致動器及其光學記錄和/或再現裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種光拾取致動器和以及使用此光拾取致動器的光學記錄和/或再現裝置，尤其涉及一種傾斜驅動光拾取致動器，它通過減少磁體數目以低成本制造，以及使用此光拾取致動器的光學記錄和/或再現裝置。
背景技術：
光拾取器是一種裝置，它被用于光學記錄和/或再現裝置中，在作為光記錄介質的光盤的徑向移動，并且以非接觸方式把信息記錄在光盤上和/或從光盤中再現信息。
光拾取器要求一種致動器，它在跟蹤方向、聚焦方向和/或傾斜方向驅動物鏡，以便從光源發出的光在光盤上的適當位置中形成為一個光點。此時，在跟蹤方向上的驅動調整在光盤徑向上的物鏡，以便在軌跡的中心處形成光點。
基本上，光拾取致動器在跟蹤方向和焦點方向的兩個方向上執行驅動，即兩軸驅動。最近，增加物鏡的數值孔徑(NA)，以便執行高密度的光存儲裝置，并且減小了激光光源的波長。同樣地，減小了光拾取致動器的傾斜方向邊緣。為了補償該缺陷，除了現存的兩軸驅動，即聚焦方向和跟蹤方向兩個方向的驅動之外，需要三軸驅動光拾取致動器，能夠在傾斜方向驅動，特別是在光盤的徑向上驅動。該三軸驅動光拾取致動器被稱為是傾斜驅動光拾取致動器，它除了在聚焦方向和跟蹤方向上驅動之外，還能夠在傾斜方向上被驅動。
通常，傾斜驅動光拾取致動器具有設計四側面使用磁路的結構。此時，使用磁路的四側面具有將驅動線圈和磁體放置在鏡頭支架四側面的結構。
圖1是表示傳統傾斜驅動光拾取致動器的平面示意圖。參考圖1，傳統傾斜驅動光拾取致動器包括其上安裝有物鏡1的鏡頭支架2，多個導線6，其中導線6的一端被連接到鏡頭支架2，并且其另一端被固定支架3上，其中此支架被放置在基底9上，以致具有透鏡支架2的移動部分相對于基底(未顯示)在聚焦方向F和跟蹤方向T上移動，以及包括用于驅動移動部分的使用磁路的四個側面。
提供四根導線6，它充當支撐相對于基底的移動部分的懸架。在圖1中僅僅顯示四根導線6中的兩根。在圖1中，參數9表示一導線，其用作用于傾斜方向驅動的電流供應路徑。
傳統的磁路包括一對聚焦線圈4a和4b，它們被安裝在光盤徑向上的透鏡支架的兩端，一對跟蹤線圈4c和4d，它們被安裝在光盤切線方向上的透鏡支架的兩側，磁體5a、5b、5c和5d，由于它們與流過聚焦線圈4a和4b以及跟蹤線圈4c和4d的電流的相互作用產生用于驅動移動部分的電磁力，和軛8。
在具有上述結構的傳統傾斜驅動光拾取致動器中，如果給聚焦線圈4a和4b以及跟蹤線圈4c和4d通上電流，那么由于流過聚焦線圈4a和4b以及跟蹤線圈4c和4d的電流與在磁體5a、5b、5c和5d中產生的磁通量之間的相互作用，電磁力作用于聚焦線圈4a和4b以及跟蹤線圈4c和4d。同樣地，移動部分在聚焦方向F和跟蹤方向T上移動。同樣地，安裝在透鏡支架2上的物鏡1在聚焦方向F和跟蹤方向T上移動。
另外，當給該對聚焦線圈4a和4b通上電流，以致電磁力在相反方向上作用于該對聚焦線圈4a和4b時，移動部分在徑向傾斜方向上移動，并且安裝在透鏡支架2上的物鏡在徑向傾斜方向上移動。
這樣，由于電磁力作用方向平行于物鏡1的中心軸，所以磁體5a和5b以及線圈4a和4b被用于在聚焦方向和傾斜方向上驅動。換句話說，當給該對聚焦線圈4a和4b通上相同值的電流時，發生具有預定位移的調焦移動。當給該對聚焦線圈4a和4b通上相同大小和相對方向的電流時，發生傾斜移動。
然而，具有上述結構的傳統傾斜驅動光拾取致動器包括使用磁路的四個側面，其中，預先纏繞了四個線圈4a、4b、4c和4d，并且分別地被安裝在透鏡支架2的四個側面，并且其包括四個獨立的磁體5a、5b、5c和5d。由于使用了四個獨立的磁體5a、5b、5c和5d以及四個獨立的線圈4a、4b、4c和4d，增加了元件的數目和制造費用，這就引起了生產率的降低。
這是因為，為了使用預先纏繞的線圈，纏繞線圈和將纏繞的線圈附著在透鏡支架上的工序是必需的，增加了制造工序數目，可能發生在這些工序中的不合格品率高于直接纏繞線圈的工序中的不合格品率，并且四個獨立的磁體是必需的。
另外，在傳統的傾斜驅動光拾取致動器中，磁體被放置于面對透鏡支架2的四個側面，并且聚焦線圈和跟蹤線圈被分別放置在透鏡支架2的四個側面的每一個側面上。結果，線圈之間的導線是復雜的。

發明內容
本發明提供一種傾斜驅動光拾取致動器，它包括一廉價的磁路，其中此磁路除了在聚焦方向和跟蹤方向上驅動之外，還能夠使用兩個單極已磁化磁體在傾斜方向上驅動，以及提供使用此傾斜驅動光拾取致動器的光學記錄和/或再現裝置。
根據本發明的一個方面，提供一種光拾取致動器，包括在其上安裝物鏡的透鏡支架，此透鏡支架由懸掛物支撐，以便相對于基底能夠移動，和一驅動物鏡的磁路，其中此磁路包括一對單極已磁化磁體，被相互面對地固定在基底上；一聚焦線圈，被安裝在透鏡支架中，以便被放置在一對單極已磁化磁體之間；多個跟蹤線圈，被放置在面對單極已磁化磁體的聚焦線圈的一個側面上；多個傾斜線圈，當物鏡的中心軸方向是上下方向時，此多個傾斜線圈被安裝在聚焦線圈的上部和/或下部。
根據本發明的一個具體實施方式
，光拾取致動器可以具有對稱結構，其中該對單極已磁化磁體被穩固地安裝在基底上，以便面對透鏡支架的兩個側面，聚焦線圈圍繞透鏡支架被纏繞，跟蹤線圈被安裝在面對單極已磁化磁體的透鏡支架的側面，并且傾斜線圈被安裝在透鏡支架的上部和/或下部。
在該情況下，跟蹤線圈可以纏繞形成在透鏡支架中的多個卷軸，以便纏繞跟蹤線圈或者跟蹤線圈被附著于透鏡支架。
卷軸可以形成在透鏡支架上部和/或下部的物鏡徑向方向上的透鏡支架的兩側上，并且傾斜線圈可以分別纏繞形成在透鏡支架上部和/或下部的一對卷軸。
在一個
具體實施例方式
中，用于安裝物鏡的安裝部分可以形成在透鏡支架中，以便間隔開被安裝在透鏡支架上部中的傾斜線圈，以致減少物鏡中的熱效應。
在具體的實施方式中，至少一個熱轉移塊狀孔可以形成在透鏡支架中，以致減少傳給物鏡的在聚焦線圈、跟蹤線圈和/或傾斜線圈中產生的熱效應。
根據本發明的另一個個具體實施方式
，光拾取致動器可以具有非對稱結構，其中物鏡被安裝在透鏡支架的一個側面上，該對單極已磁化磁體被固定在基底上，以便在物鏡的一個側面處彼此面對，并且包括聚焦線圈、跟蹤線圈和傾斜線圈的一線圈組被安裝在透鏡支架上，以便被放置在單極已磁化磁體之間。
此時，線圈組可以進一步包括線軸，其中至少對準和纏繞聚焦線圈。
卷軸可以形成在線軸中以便纏繞跟蹤線圈，并且跟蹤線圈可以被纏繞在形成于線軸的卷軸中。
卷軸可以形成在線軸上部和/或下部的物鏡徑向方向上的線軸的兩側上，并且傾斜線圈可以分別纏繞形成在線軸上部和/或下部的一對卷軸。
另一選擇為，線圈組可以使用塊狀線圈，其中聚焦線圈、跟蹤線圈和傾斜線圈預先被纏繞，并且線圈組可以具有其中跟蹤線圈和傾斜線圈附著于聚焦線圈的結構。
此時，光拾取致動器可以進一步包括被放置在磁路上方的橋，以致引導磁通量。
光拾取致動器可以進一步包括一對外部軛，其中此軛從橋伸出，并且支撐一對單極已磁化磁體，和/或一對內部軛，其中此軛被放置在線圈組的傾斜線圈的內部。
另一選擇為，光拾取致動器可以進一步包括一對外部軛，其中此軛形成在基底上，并且其中安裝有單極已磁化磁體；和/或一對內部軛，其中此軛形成在基底上，以致被放置在傾斜線圈內部。
跟蹤線圈可以被放置在比聚焦線圈更接近于單極已磁化磁體的位置處，或者聚焦線圈可以被放置在比跟蹤線圈更接近于單極已磁化磁體的位置處。
根據本發明的另一個方面，提供一種光拾取致動器，包括其上安裝有物鏡的透鏡支架，此透鏡支架由懸掛物支撐，以便相對于基底能夠移動，和一驅動物鏡的磁路，其中致動器具有非對稱結構，其中磁路包括一對單極已磁化磁體，被安裝在基底上以便在物鏡的一個側面處彼此面對，和包括一對聚焦線圈的線圈組，其中此對聚焦線圈被安裝在透鏡支架中以便被放置在一對單極已磁化磁體之間并且被放置以便與放置一對單極已磁化磁體的方向相交叉，和多個跟蹤線圈，被放置在至少聚焦線圈的一個側面上，以便面對單極已磁化磁體，以及線圈組，被安裝在透鏡支架上，以便放置在一對單極已磁化磁體之間。
此時，線圈組可以使用塊狀線圈，其中聚焦線圈、跟蹤線圈預先被纏繞，并且線圈組可以具有其中多個跟蹤線圈附著于一對聚焦線圈的結構。
根據本發明的另一個方面，提供一種光學記錄和/或再現裝置，包括光拾取器，其中此光拾取器包含用于驅動物鏡的致動器，被安裝以便在光信息存儲介質的徑向上可移動，并且在光信息存儲介質上記錄信息和/或從光信息存儲介質上再現信息，和控制部分，其中此控制部分控制光拾取器的聚焦和跟蹤伺服，其中致動器包括其上安裝有物鏡的透鏡支架，此透鏡支架由懸掛物支撐，以便相對于基底能夠移動；和一磁路，其中此磁路包括一對單極已磁化磁體，被相互面對地安裝在基底上，一聚焦線圈，被安裝在透鏡支架上以便被放置在該對單極已磁化磁體之間，多個跟蹤線圈，被放置在面對單極已磁化磁體的聚焦線圈的一個側面上，和多個傾斜線圈，當物鏡的中心軸方向是上下方向時，此多個傾斜線圈被安裝在聚焦線圈的上部和/或下部，并且此磁路驅動物鏡。
此時，光拾取致動器可以具有對稱結構，其中該對單極已磁化磁體被穩固地安裝在基底上，以便面對透鏡支架的兩個側面，聚焦線圈圍繞透鏡支架被纏繞，跟蹤線圈被安裝在面對單極已磁化磁體的透鏡支架的側面，并且傾斜線圈被安裝在透鏡支架的上部和/或下部。
另外，光拾取致動器可以具有非對稱結構，其中物鏡被安裝在透鏡支架的一個側面上，一對單極已磁化磁體被在基底上，以便在物鏡的一個側面處彼此面對，并且包括聚焦線圈、跟蹤線圈和傾斜線圈的一線圈組被安裝在透鏡支架上，以便被放置在單極已磁化磁體之間。
根據本發明的另一個方面，提供一種光學記錄和/或再現裝置，包括光拾取器，其中此光拾取器包含用于驅動透鏡支架的致動器，被安裝以便在光信息存儲介質的徑向上可移動，并且在光信息存儲介質上記錄信息和/或從光信息存儲介質上再現信息，和控制部分，其中此控制部分控制光拾取器的聚焦和跟蹤伺服，其中致動器具有非對稱結構，其中透鏡支架被安裝在物鏡上，并且由懸掛物支撐，以便相對于基底能夠移動，和一驅動物鏡的磁路，其中此磁路包括一對單極已磁化磁體，被安裝在基底上以便在物鏡的一個側面處相互面對，和一線圈組，包括一對聚焦線圈，被安裝在透鏡支架上以便被放置在一對單極已磁化磁體之間，并且被安裝以便與安裝有一對單極已磁化磁體的方向相交叉，和多個跟蹤線圈，被放置在面對單極已磁化磁體的聚焦線圈的至少一個側面上，和該線圈組被安裝在透鏡支架上，以便被放置在單極已磁化磁體之間，驅動物鏡。


根據附圖，通過詳細地描述其中作為示范的具體實施方式
，本發明的上述和其它的方面以及有點將會變得更加清楚，其中圖1是表示傳統傾斜驅動光拾取致動器的平面示意圖；圖2是表示根據本發明具體實施方式
的光拾取致動器的示意透視圖；圖3是圖2的透鏡支架的提取透視圖；圖4是圖2的平面圖；圖5是圖2的沿線A-A的剖視圖；圖6表示根據本發明的另一具體實施方式
，對應于圖5的光拾取致動器的磁路；圖7表示根據本發明的另一具體實施方式
，對應于圖5的光拾取致動器的磁路；圖8示意地表示根據本發明另一個具體實施方式
的光拾取致動器的透鏡支架；圖9是表示根據本發明另一個具體實施方式
的非對稱光拾取致動器的透視圖；圖10是圖9的分解透視圖；圖11是圖9的沿著線X1-X1的側視圖；圖12是圖9的頂部覆蓋層和基底的分解透視圖；圖13是根據本發明另一具體實施方式
的光拾取致動器的頂部覆蓋層和基底的另一實例的分解透視圖；圖14是表示根據本發明另一具體實施方式
的光拾取致動器基底的另一實例的透視圖；圖15是表示根據本發明另一具體實施方式
的非對稱光拾取致動器的另一個實例的分解透視圖；圖16是表示根據本發明另一個具體實施方式
的非對稱光拾取致動器的分解透視圖；和圖17示意地表示使用根據本發明的光拾取致動器的光學記錄和/或再現裝置的結構。
具體實施方式
如圖2、9、15和16所示，根據本發明的光拾取致動器的特征在于一磁路，被裝配以便實現使用一對單極已磁化磁體的光拾取致動器的聚焦、跟蹤和傾斜伺服。
如圖2、9和15所示，根據本發明的光拾取致動器的磁路可以包括一對單極已磁化磁體、聚焦線圈、被安裝在聚焦線圈兩側面上的多個跟蹤線圈、和多個傾斜線圈，其中當物鏡的中心軸方向是上下方向時，此多個傾斜線圈被安裝在聚焦線圈的上部和/或下部中。
另外，如圖16所示，根據本發明的光拾取致動器的磁路可以包括一對單極已磁化磁體、一對聚焦線圈，其中此對聚焦線圈被放置以便與放置一對單極已磁化磁體的方向相交叉，和被安裝在此對聚焦線圈的兩個側面上的多個跟蹤線圈。
圖2是表示根據本發明具體實施方式
的光拾取致動器的示意透視圖，圖3是圖2的透鏡支架的提取透視圖，圖4是圖2的平面圖，并且圖5是圖2的沿線A-A的剖視圖。
參照圖2至5，根據本發明具體實施方式
的光拾取致動器具有對稱的結構，其中物鏡10被安裝在透鏡支架20上，懸掛物13支撐透鏡支架20，以便相對于基底11可移動，其中懸掛物13的一端連接到透鏡支架20，并且其另一端被固定在其中形成于基底11上的一個側面處的支架(未顯示)中。
另外，磁路包括一對單極已磁化磁體31，其中此對單極已磁化磁體穩固地安裝在基底11中，以便面對平行于光記錄介質徑向的透鏡支架20的兩個側面，一聚焦線圈33，其中此聚焦線圈旋繞透鏡支架20，多個跟蹤線圈35，其中此多個跟蹤線圈被安裝在透鏡支架20的側面上以便面對單極已磁化磁體31，和多個傾斜線圈37，其中此多個傾斜線圈安裝在透鏡支架20的上部。此對單極已磁化磁體31被安裝在基底11中，以便在光盤的切線方向上面對透鏡支架20的兩個側面，其中此光盤是光信息存儲介質。
更可取地，四個懸掛物13被用作用于跟蹤控制和聚焦控制的電流供應導線。
除了四個懸掛物13之外，根據本發明的光拾取致動器進一步包括用于供應傾斜驅動電流的兩根導線14。
根據本發明具體實施方式
的光拾取致動器的特征在于，除了一對單極已磁化磁體31之外，卷軸形成在透鏡支架20中，以致至少線圈的一部分直接地纏繞在透鏡支架20中，并且線圈直接地纏繞在卷軸中。
圖2至5表示透鏡支架20主體形成在卷軸結構中，以便直接纏繞聚焦線圈33，并且卷軸36和38形成在透鏡支架20中，以便直接纏繞跟蹤線圈35和傾斜線圈37。
聚焦線圈33纏繞透鏡支架20，以致由于與該對單極已磁化磁體31的相互作用，產生用于在聚焦方向上移動致動器移動部分的電磁力。
透鏡支架20的主體可以形成在卷軸結構中，以致聚焦線圈33直接地纏繞透鏡支架20。此時，聚焦線圈33的纏繞位置由用于安裝懸掛物13和/或卷軸36的突出部分23定義，其中此卷軸36用于纏繞跟蹤線圈35，而替代在卷軸結構中形成透鏡支架20主體。
當物鏡10的中心軸方向是上下方向，即聚焦方向時，接近于光信息存儲介質的面是上面并且其相對側面是下面，由于在單極已磁化磁體31中產生的磁場，根據流過聚焦線圈33的電流方向和在單極已磁化磁體31中產生的磁通量方向，按照茀萊明斯(Flemings)左手定則，電磁力在上下方向作用于聚焦線圈33。同樣地，根據本發明的光拾取致動器的移動部分在聚焦方向移動。
同時，如圖2至5所示，更可取地，卷軸36形成在透鏡支架20中，以致安裝在面對單極已磁化磁體31的透鏡支架20的兩側面內跟蹤線圈35，并且跟蹤線圈35直接地被纏繞在卷軸36中。僅放置跟蹤線圈35的一部分以便面對單極已磁化磁體31的正面，以致由于與單極已磁化磁體31的相互作用，產生用于在跟蹤方向控制的電磁力。另外，如圖2所示，更可取地，在平行于光記錄介質徑向的透鏡支架20的兩側面處提供一對跟蹤線圈35和用于纏繞跟蹤線圈35的一對卷軸36，以致致動器的移動部分在跟蹤方向穩定地移動。換句話說，更可取地提供四個跟蹤線圈35。
圖2至5表示其中跟蹤線圈35纏繞在聚焦線圈33外側的情況。如圖2至5所示，當跟蹤線圈35纏繞在聚焦線圈33外側時，跟蹤線圈35放置在接近單極已磁化磁體31處。同樣地，跟蹤靈敏度就會更好。
另一選擇為，如圖6所示，根據本發明的光拾取致動器可以被裝配為聚焦線圈33纏繞在跟蹤線圈35外側，并且被放置在接近單極已磁化磁體31處。當聚焦線圈33纏繞在跟蹤線圈35外側時，聚焦靈敏度進一步得到改善。這樣，其中聚焦線圈33纏繞在跟蹤線圈35的外側的結構可以被應用到圖2至5所示的本發明的具體實施方式
，并且圖7中所示的本發明的另一個具體實施方式
將在隨后描述。
同時，如圖2至5所示，更可取地卷軸38形成在透鏡支架20中，以便纏繞傾斜線圈37，并且傾斜線圈37直接地纏繞在卷軸38中。
圖2至5表示一種情況，其中卷軸38被形成以便被放置在光記錄介質徑向上的物鏡10的兩側處，以致由該對傾斜線圈37在半徑傾斜方向上驅動致動器的移動部分，并且纏繞在卷軸38中傾斜線圈37。
更可取地，如圖2至5所示，卷軸38被放置在透鏡支架20上部之上的物鏡10半徑方向上的透鏡支架20的兩側處，并且同時，提供卷軸38以便纏繞傾斜線圈37，以致傾斜線圈37的兩個部分面對該對單極已磁化磁體31，并且被用作有效線圈。在此情況下，平行于聚焦線圈33纏繞傾斜線圈37。
在此情況下，更可取地，被放置在透鏡支架20的上部的該對傾斜線圈37以相反方向被纏繞。在此情況下，當該對傾斜線圈37通上相同的電流時，電流分別流過該對傾斜線圈37的方向相反。同樣地，鑒于流過一對傾斜線圈37的電流方向和在單極已磁化磁體31中產生的磁通量的方向，按照茀萊明斯(Flemings)左手定則，在相反的上下方向產生電磁力，以致移動部分在傾斜方向移動。
因此，當以此方式形成卷軸38并且傾斜線圈37被纏繞在卷軸38中時，由于一對單極已磁化磁體31和一對傾斜線圈37之間的相互作用，可以在半徑傾斜方向穩固地驅動致動器的移動部分。
如同上述，當卷軸38被形成在透鏡支架20的上部并且傾斜線圈37被放置在透鏡支架20的上部時，物鏡10被安裝在透鏡支架20的上部中。因此，半徑傾斜驅動的中心靠近物鏡10，以致在傾斜驅動期間，聚焦方面的干擾減到最少。
當卷軸36和38被形成在透鏡支架20中，以致執行校準纏繞并且聚焦線圈33、跟蹤線圈35和/或傾斜線圈37直接地纏繞在透鏡支架20中時，卷軸36和38充當用于當過量電流流過線圈時阻止線圈變形的導向裝置。
如上所述，當根據本發明具體實施方式
的光拾取致動器包括透鏡支架20和圖2至5中所示的磁路時，光拾取致動器是三軸驅動致動器，其包括兩個單極已磁化磁體31、在其中執行校準纏繞的透鏡支架20、兩個傾斜線圈37、一個聚焦線圈33和四個跟蹤線圈35。
參照圖7，其中此圖7示意地表示根據本發明另一個具體實施方式
的光拾取致動器，根據本發明的光拾取致動器可以具有一種結構，其中用于纏繞傾斜線圈37的卷軸38進一步形成在透鏡支架20下部上的物鏡10徑向方向上的透鏡支架20的兩側面處，并且傾斜線圈37進一步各自在卷軸38中纏繞。換句話說，根據本發明的光拾取致動器可以具有一種結構，其中兩個傾斜線圈37被分別放置在透鏡支架20的上下部分的徑向上。
在此情況下，由聚焦線圈33占有的部分可以被減小，以致光拾取致動器的整體高度與本發明的具體實施方式
中的相同。
如圖7所示，如果用于半徑傾斜驅動的該對傾斜線圈37進一步提供在透鏡支架20的下部分中，那么半徑傾斜驅動力進一步增加。
圖7中所示的光拾取致動器是三軸驅動致動器，其包括兩個單極已磁化磁體31、在其中執行校準纏繞的透鏡支架20、四個傾斜線圈37、一個聚焦線圈33和四個跟蹤線圈35。
同時，如圖2至7所示，用于安裝物鏡10以便從物鏡10上部突出的安裝部分25形成在透鏡支架20中。更可取地，一預定缺口g形成在安裝部分25、形成在透鏡支架20的上部中的該對卷軸38、和纏繞在卷軸38中的傾斜線圈37之間。更可取地，如圖7所示，當傾斜線圈37均勻地安裝在透鏡支架20的下部中時，缺口g均勻地形成在透鏡支架20的下部分中的物鏡10的安裝部分25和卷軸38之間。
這樣，當傾斜線圈37和安裝部分25之間的間隔是彼此間隔開的，并且傾斜線圈37不接觸安裝部分25時，在傾斜控制期間，在物鏡10上的由應用到傾斜線圈37的電流產生的熱效應被減小，以致可以使物鏡10免于過量電流。這是因為，當安裝部分25和傾斜線圈37之間的距離使彼此間隔開時，熱流通變長并且熱轉移速度減慢。
另外，更可取地，如圖8所示，在透鏡支架20中形成至少一個熱轉移塊狀孔27，以致使熱量通過安裝部分25的時間變得更長。圖8表示一種情況，其中熱轉移塊狀孔27安裝在用于纏繞傾斜線圈37的卷軸38和物鏡10的安裝部分25之間。熱轉移塊狀孔27可以被應用到圖2、6和7所示的情況。
熱轉移塊狀孔27可以在透鏡支架20中形成為所需剛性范圍內的開孔或密封孔形狀。
同時，更可取地，如圖2至4所示，根據本發明具體實施方式
的上述光拾取致動器進一步包括形成在基底11中的一對外部軛15和/或形成在基底11中的一對以便放置在外部軛15之間內部軛17。
單極已磁化磁體31被安裝在外部軛15中。更可取地，如圖4所示，內部軛17被放置在傾斜線圈37內部，以致內部軛17被普通地應用到聚焦線圈33、跟蹤線圈35和傾斜線圈37。
如同上述，已經描述了根據本發明的光拾取致動器，并且表明具有一種結構，其中跟蹤線圈35和傾斜線圈37兩者直接地纏繞在透鏡支架20中。然而，本發明并不局限于此。換句話說，根據本發明的光拾取致動器可以具有一種結構，其中跟蹤線圈35和傾斜線圈37中的一個直接地纏繞在透鏡支架20中，并且剩余的預先纏繞的塊狀線圈被附著在透鏡支架20中。
另外，根據本發明的光拾取致動器可以具有一種結構，其中塊狀線圈被附著在透鏡支架20中，其中在此塊狀線圈中預先纏繞跟蹤線圈35和傾斜線圈37。
更可取地，即使當傾斜線圈37附著于透鏡支架20時，傾斜線圈37附著于透鏡支架20的上部，以便與安裝部分25間隔一定距離，以致減小物鏡10上的在傾斜線圈37中產生的熱效應。
從圖2至8中能夠充分地推斷得出一種結構，其中卷軸36和/或卷軸38沒有形成在透鏡支架20中，并且跟蹤線圈35和/或傾斜線圈37被附著于透鏡支架20。因此，其描述將被省略。
根據本發明具體實施方式
的上述對稱的光拾取致動器具有相當于使用磁路的兩側面結構。這是因為根據本發明的光拾取致動器僅僅使用透鏡支架20的四個側面中的兩個來放置磁路。此時，圖1中所示的傳統的光拾取致動器使用透鏡支架20的全部四個側面，以便放置磁路。
雖然已經描述并且如同上述舉例說明一個具體實施方式
，其中在此具體實施方式
中，根據本發明的磁路被應用于其中物鏡的中心等同于驅動中心的對稱致動器，但是根據本發明的磁路可以被應用于一種非對稱的致動器，其中物鏡的中心不等同于驅動中心。
圖9是表示根據本發明具體實施方式
的非對稱光拾取致動器的透視圖。圖10是圖9的分解透視圖。圖11是圖9的沿著線X1-X1的側視圖。
參考圖9至11，根據本發明的另一個具體實施方式
的光拾取致動器可以具有非對稱結構，其中物鏡10被安裝在透鏡支架50的一個側面上，一對單極已磁化磁體31被固定在基底51上，以便在物鏡10的一個側面處彼此面對，并且包括聚焦線圈33、跟蹤線圈35和傾斜線圈37的一線圈組60被安裝在透鏡支架50上，以便被放置在單極已磁化磁體31之間。附圖標記52表示一支架，其形成在基底51的一個側面上，并且其中固定一懸掛物13。如前面所述，懸掛物13的一端連接到透鏡支架20，其另一端連接到支架52中，以致懸掛物13支撐透鏡支架50以便相對于基底51可移動。
此時，具有與上述具體實施方式
中實質相同功能的元件引用相同附圖標記，并且省略其重復的描述。
在本具體實施方式
中，線圈組60包括其中纏繞聚焦線圈33的線軸61。線圈組60具有一種結構，其中至少聚焦線圈33被校準并且被纏繞在線軸61中。
圖10表示其中用于纏繞跟蹤線圈35的卷軸66和用于纏繞傾斜線圈37的卷軸68形成在線軸61中的情況。卷軸68被放置在線軸61的上部和/或下部上的物鏡10徑向方向上的線軸61的兩側上，并且傾斜線圈37分別纏繞在卷軸68中。圖9至11表示卷軸68形成在線軸61的上部和上的物鏡10徑向方向上的線軸61的兩側上，并且傾斜線圈37纏繞在卷軸68中的情況。如圖7所示，用于纏繞傾斜線圈37的卷軸68和纏繞在卷軸68中的線圈37可以提供于線軸61的下部中。
如圖10所示，當用于纏繞跟蹤線圈35和傾斜線圈37的卷軸66和68形成在線軸61中時，跟蹤線圈35和傾斜線圈37以及聚焦線圈33可以被校準并且被纏繞在線軸61中。
比較圖2、3和10，除了用于安裝懸掛物13的突出部分23和用于安裝物鏡10的安裝部分25，線圈組60的線軸61具有與上述具體實施方式
的透鏡支架20的結構實質上相同的結構，并且聚焦線圈33、跟蹤線圈35和傾斜線圈37的相對位置關系與上述具體實施方式
中的位置關系實質上相同。
雖然線圈組60具有一種結構，其中跟蹤線圈35和傾斜線圈37直接地纏繞在線軸中，但是線圈組60的跟蹤線圈35和傾斜線圈37中的一個直接地纏繞在線軸61中，并且剩余的預先纏繞的塊狀線圈被附著在線軸61中。
另外，線圈組60可以具有一種結構，其中塊狀線圈被附著于線軸61，其中在此塊狀線圈中預先纏繞跟蹤線圈35和傾斜線圈37。
同時，參考圖10、12和13，根據本發明的另一個具體實施方式
的光拾取致動器進一步包括用于導向磁通量的頂部覆蓋層70或170。
如圖12所示，頂部覆蓋層70可以包括被放置在磁路之上的橋71，以及從橋71伸出的一對外部軛73和一對內部軛75。一對單極已磁化磁體31被安裝在各個外部軛73內部，并且外部軛73的兩端可以與基底51連接。更可取地，內部軛75被形成以便被放置在傾斜線圈37的內部，穿過傾斜線圈37內部，并且與基底51結合。
另一選擇為，如圖13所示，頂部覆蓋層170包括橋171、一對內部軛175和一對部分外部軛173。在此情況下，當在基底151中提供與部分外部軛173結合的一對部分外部軛174時，部分外部軛174支撐單極已磁化磁體31，并且頂部覆蓋層170的內部軛175與基底151結合，從頂部覆蓋層170的橋171伸出的部分外部軛173與基底151的部分外部軛174結合，并且支撐單極已磁化磁體31。
另外，頂部覆蓋層可以具有各種修改。也就是說，頂部覆蓋層可以僅僅包括橋和內部軛。在此情況下，在基底中形成用于安裝單極已磁化磁體31的外部軛。
作為另一個實例，提供于基底的內部軛，和提供于頂部覆蓋層中的橋以及其中固定單極已磁化磁體31的外部軛，可以被結合在基底中。
不管頂部覆蓋層的結構，通過使用頂部覆蓋層和被放置在一對單極已磁化磁體31之間狹窄空間中的線圈組60，控制靈敏度進一步得到改善。
同時，如圖14所示，根據本發明另一個具體實施方式
的光拾取致動器可以在基底251中形成外部軛273和內部軛275，來替代形成上述頂部覆蓋層。
圖15是表示根據本發明另一具體實施方式
的非對稱光拾取致動器的另一個實例的分解透視圖。比較圖15與圖10，線圈組160由預先纏繞的塊狀線圈彼此附著而形成，并且圖15的特征在于具有一種結構，其中省略了在線軸中的校準纏繞。除了線圈組160之外的圖15的剩余結構與圖10的結構相同。然而，本發明的具體實施方式
并不局限與此，例如與上述具體實施方式
一樣，頂部覆蓋層和/或基底可以作各種修改。此時，具有與上述具體實施方式
中相同功能的元件引用相同附圖標記，并且省略其重復的描述。
如圖15所示，線圈組160包括塊狀線圈，其中聚焦線圈133、跟蹤線圈135和傾斜線圈137預先被纏繞，并且線圈組160具有其中跟蹤線圈135和傾斜線圈137附著于聚焦線圈133的結構。在此情況下，聚焦線圈133、跟蹤線圈135和傾斜線圈137的分布結構和功能實質上與圖10的包括聚焦線圈33、跟蹤線圈35和傾斜線圈37的線圈組60的分布結構和功能相同，其中此線圈組。
圖16是表示根據本發明另一個具體實施方式
的非對稱光拾取致動器的分解透視圖。非對稱的光拾取致動器的特征在于線圈組260包括一對聚焦線圈233a和233b，其中此線圈被放置以便與其中一對單極已磁化磁體31被放置的方向相交叉，和多個跟蹤線圈235，此多個跟蹤線圈被放置在面對單極已磁化磁體31的該對聚焦線圈233a和233b的至少一個側面上，并且省略傾斜線圈。
在圖16中，就像在圖15中一樣，線圈組260可以具有一種結構，其中省略了在線軸中的校準纏繞。也就是說，線圈組260可以包括塊狀線圈，其中聚焦線圈233a和233b和跟蹤線圈235預先被纏繞，并且可以具有一種結構，其中一對聚焦線圈233a和233b被彼此附著，并且跟蹤線圈235被附著于聚焦線圈233a和233b。
在該情況下，形成在頂部覆蓋層70中的一對內部軛75被放置在聚焦線圈233a和233b內部。
除了線圈組260之外的圖16的剩余結構與圖10的結構相同。然而，本發明的具體實施方式
并不局限與此，例如與上述具體實施方式
一樣，頂部覆蓋層和/或基底可以具有各種修改。此時，具有與上述具體實施方式
中相同功能的元件引用相同附圖標記，并且省略其重復的描述。
圖17示意地表示使用根據本發明的光拾取致動器的光學記錄和/或再現裝置的結構。
參考圖17，光學記錄和/或再現裝置包括用于旋轉光信息存儲介質，即光盤D的主軸電動機355，光拾取器350，其中此光拾取器被安裝以便在光盤D的徑向方向上可移動并且把信息記錄在光盤D和/或從光盤D中再現信息，用于驅動主軸電動機355和光拾取器350的驅動部分357，和用于控制光拾取器350的聚焦、跟蹤和/或傾斜伺服的控制部分370。此時，附圖標記352和353分別表示轉盤和用于夾緊光盤D的夾持器。
根據本發明，光拾取器350包括光拾取器光學系統，該光拾取器光學系統具有用于把從光源發出的光匯聚到光盤D上的物鏡10，和用于三軸驅動物鏡10的光拾取致動器。在此情況下，根據以前描述的本發明具體實施方式
的光拾取致動器中的一個可以被用作光拾取致動器。
從光盤D反射的光通過被提供給光拾取器350的光電檢測器被檢測，被光電轉換，并且被轉換為電信號。電信號通過驅動部分357被輸入到控制部分359。驅動部分357控制主軸電動機355的轉速，放大輸入信號，并且驅動光拾取器350。控制部分359把聚焦伺服、跟蹤伺服和傾斜伺服命令傳輸到驅動部分357，以致執行光拾取器350的聚焦、跟蹤和傾斜操作，其中這些命令是根據從驅動部分357輸入的信號被調整的。
根據本發明的上述光拾取致動器可以實現對稱的和非對稱的構筑物，并且使用單極已磁化磁體。另外，單極已磁化磁體的數目并不局限于兩個，以致執行三軸驅動。同樣地，減少了生產成本。并且，根據本發明的光拾取致動器可以被應用到薄型光拾取致動器和比薄型光拾取致動器厚的的光拾取致動器。因為磁路被配置為兩個廉價的單極已磁化磁體，所以費用減少。
另外，至少線圈的一部分被直接地纏繞在透鏡支架或者線軸中，以致產品分布減小，并且不合格品率減少。
另外，根據本發明的光拾取致動器確保線性。由于大量的偏振面積被應用到一個表面，所以線性被減小。這是因為，在存在于偏振面積之間的中性區域中的磁通量為0，并且當由于在過渡區域中的磁通量所引起的洛倫茲力的增大接近于中性區時，此洛倫茲力得到改變。根據本發明的光拾取致動器使用單極已磁化磁體，因此具有良好的線性。
另外，在根據本發明的對稱光拾取致動器中，在透鏡支架的物鏡安裝部分和卷軸之間形成缺口和/或在透鏡支架中至少形成一個熱轉移塊狀孔，以致防止物鏡過載電流。
雖然參考其最佳具體實施方式
特別地表示和描述本發明，但是本領域技術人員可以知道，只要不違背所附權利要求和其等價物所定義的本發明的精神和范圍，可以對其形式和細節進行各種改變。
權利要求
1.一種光拾取致動器，包括其中安裝有物鏡的透鏡支架，此透鏡支架由懸掛物支撐，以便相對于基底能夠移動；和一驅動物鏡的磁路，其中此磁路包括一對單極已磁化磁體，被相互面對地固定在所述基底上；一聚焦線圈，被安裝在透鏡支架上，以便被放置在該對單極已磁化磁體之間；多個跟蹤線圈，被放置在面對所述單極已磁化磁體的聚焦線圈的一個側面上；和多個傾斜線圈，當物鏡的中心軸方向是上下方向時，此多個傾斜線圈被安裝在聚焦線圈的上部和/或下部。
2.根據權利要求1所述的光拾取致動器，其中該光拾取致動器具有對稱結構，其中該對單極已磁化磁體被穩固地安裝在所述基底上，以便面對透鏡支架的兩個側面，所述聚焦線圈圍繞透鏡支架被纏繞，跟蹤線圈被安裝在面對單極已磁化磁體的透鏡支架的側面，并且傾斜線圈被安裝在透鏡支架的上部和/或下部。
3.根據權利要求2所述的光拾取致動器，其中跟蹤線圈被纏繞形成在透鏡支架中的多個卷軸中，以便纏繞跟蹤線圈或者跟蹤線圈被附著于透鏡支架。
4.根據權利要求2所述的光拾取致動器，其中一卷軸形成在透鏡支架上部和/或下部的物鏡徑向方向上的透鏡支架的兩側上，并且傾斜線圈分別纏繞形成在透鏡支架上部和/或下部的一對卷軸。
5.根據權利要求2所述的光拾取致動器，其中用于安裝物鏡的安裝部分形成在所述透鏡支架中，以便間隔開被安裝在透鏡支架上部中的傾斜線圈，以致減少物鏡中的熱效應。
6.根據權利要求2所述的光拾取致動器，其中至少一個熱轉移阻止孔形成在所述透鏡支架中，以致減少傳給物鏡的在聚焦線圈、跟蹤線圈和/或傾斜線圈中產生的熱效應。
7.根據權利要求1所述的光拾取致動器，其中光拾取致動器具有非對稱結構，其中物鏡被安裝在透鏡支架的一個側面上，該對單極已磁化磁體被安裝在基底上，以便在物鏡的一個側面處彼此面對，并且包括聚焦線圈、跟蹤線圈和傾斜線圈的一線圈組被安裝在透鏡支架上，以便被放置在所述單極已磁化磁體之間。
8.根據權利要求7所述的光拾取致動器，其中該線圈組進一步包括線軸，其中至少對準和纏繞聚焦線圈。
9.根據權利要求8所述的光拾取致動器，其中一卷軸形成在線軸中以便纏繞跟蹤線圈，并且跟蹤線圈可以被纏繞在形成于線軸的該卷軸中。
10.根據權利要求8所述的光拾取致動器，其中一卷軸形成在線軸上部和/或下部的物鏡徑向方向上的線軸的兩側上，并且傾斜線圈可以分別纏繞形成在線軸上部和/或下部的一對卷軸。
11.根據權利要求7所述的光拾取致動器，其中所述線圈組使用塊狀線圈，其中聚焦線圈、跟蹤線圈和傾斜線圈預先被纏繞，并且線圈組可以具有其中跟蹤線圈和傾斜線圈附著于聚焦線圈的結構。
12.根據權利要求7所述的光拾取致動器，其特征在于，進一步包括被放置在磁路上方的橋，以致引導磁通量。
13.根據權利要求12所述的光拾取致動器，其特征在于，進一步包括一對外部軛，其中此軛從橋伸出，并且支撐該對單極已磁化磁體，和/或一對內部軛，其中此軛被放置在線圈組的傾斜線圈的內部。
14.根據權利要求7所述的光拾取致動器，其特征在于，進一步包括一對外部軛，其中此軛形成在基底上，并且其中安裝有單極已磁化磁體；和/或一對內部軛，其中此軛形成在基底上，以致被放置在傾斜線圈內部。
15.根據權利要求7所述的光拾取致動器，其中跟蹤線圈被放置在比聚焦線圈更接近于單極已磁化磁體的位置處，或者聚焦線圈被放置在比跟蹤線圈更接近于單極已磁化磁體的位置處。
16.根據權利要求1所述的光拾取致動器，其特征在于，進一步包括一對外部軛，其中此軛形成在基底上，并且其中安裝有單極已磁化磁體；和/或一對內部軛，其中此軛形成在基底上，以致被放置在傾斜線圈內部。
17.根據權利要求1所述的光拾取致動器，其中跟蹤線圈被放置在比聚焦線圈更接近于單極已磁化磁體的位置處，或者聚焦線圈被放置在比跟蹤線圈更接近于單極已磁化磁體的位置處。
18.一種光拾取致動器，包括其中安裝有物鏡的透鏡支架，此透鏡支架由懸掛物支撐，以便相對于基底能夠移動，和一驅動物鏡的磁路，其中致動器具有非對稱結構，其中磁路包括一對單極已磁化磁體，被固定在基底上以便在物鏡的一個側面處彼此面對，和包括一對聚焦線圈的線圈組，其中此一對聚焦線圈被安裝在透鏡支架中以便被放置在該對單極已磁化磁體之間并且被放置以便與其中放置一對單極已磁化磁體的方向相交叉，和多個跟蹤線圈，被放置在至少聚焦線圈的一個側面上，以便面對單極已磁化磁體，以及線圈組，被安裝在透鏡支架上，以便放置在該對單極已磁化磁體之間。
19.根據權利要求18所述的光拾取致動器，其中線圈組使用塊狀線圈，其中聚焦線圈、跟蹤線圈預先被纏繞，并且線圈組可以具有其中多個跟蹤線圈附著于該對聚焦線圈的結構。
20.一種光學記錄和/或再現裝置，包括光拾取器，其中此光拾取器包含用于驅動物鏡的致動器，被安裝以便在光信息存儲介質的徑向上可移動，并且在光信息存儲介質上記錄信息和/或從光信息存儲介質上再現信息，和控制部分，其中此控制部分控制光拾取器的聚焦和跟蹤伺服，其中致動器包括其中安裝有物鏡的透鏡支架，此透鏡支架由懸掛物支撐，以便相對于基底能夠移動；和一磁路，其中此磁路包括一對單極已磁化磁體，被相互面對地安裝在基底上，一聚焦線圈，被安裝在透鏡支架上以便被放置在另一個對單極已磁化磁體之間，多個跟蹤線圈，被放置在面對單極已磁化磁體的聚焦線圈的一個側面上，和多個傾斜線圈，當物鏡的中心軸方向是上下方向時，此多個傾斜線圈被安裝在聚焦線圈的上部和/或下部，并且此磁路驅動物鏡。
21.根據權利要求20所述的裝置，其中光拾取致動器具有對稱結構，其中該對單極已磁化磁體被穩固地安裝在基底上，以便面對透鏡支架的兩個側面，聚焦線圈圍繞透鏡支架被纏繞，跟蹤線圈被安裝在面對單極已磁化磁體的透鏡支架的側面，并且傾斜線圈被安裝在透鏡支架的上部和/或下部。
22.根據權利要求21所述的裝置，其中跟蹤線圈被纏繞形成在透鏡支架中的多個卷軸中，以便纏繞跟蹤線圈或者跟蹤線圈被附著于透鏡支架。
23.根據權利要求21所述的裝置，其中一卷軸形成在透鏡支架上部和/或下部的物鏡徑向方向上的透鏡支架的兩側上，并且傾斜線圈分別纏繞形成在透鏡支架上部和/或下部的一對卷軸。
24.根據權利要求21所述的裝置，其中至少一個熱轉移阻止孔形成在透鏡支架中，以致減少傳給物鏡的在聚焦線圈、跟蹤線圈和/或傾斜線圈中產生的熱效應。
25.根據權利要求20所述的裝置，其中光拾取致動器具有非對稱結構，其中物鏡被安裝在透鏡支架的一個側面上，該對單極已磁化磁體被固定在基底上，以便在物鏡的一個側面處彼此面對，并且包括聚焦線圈、跟蹤線圈和傾斜線圈的一線圈組被安裝在透鏡支架上，以便被放置在單極已磁化磁體之間。
26.根據權利要求25所述的裝置，其中線圈組進一步包括線軸，其中至少對準和纏繞聚焦線圈。
27.根據權利要求26所述的裝置，其中一卷軸形成在線軸中以便纏繞跟蹤線圈，并且跟蹤線圈可以被纏繞在形成于線軸的卷軸中。
28.根據權利要求26所述的裝置，其中一卷軸形成在線軸上部和/或下部的物鏡徑向方向上的線軸的兩側上，并且傾斜線圈可以分別纏繞形成在線軸上部和/或下部的一對卷軸。
29.根據權利要求25所述的裝置，其中所述線圈組使用塊狀線圈，其中聚焦線圈、跟蹤線圈和傾斜線圈預先被纏繞，并且線圈組可以具有其中跟蹤線圈和傾斜線圈附著于聚焦線圈的結構。
30.根據權利要求25所述的裝置，其特征在于，進一步包括被放置在磁路上方的橋，以致引導磁通量。
31.根據權利要求30所述的裝置，其特征在于，進一步包括一對外部軛，其中此軛從橋伸出，并且支撐該對單極已磁化磁體，和/或一對內部軛，其中此軛被放置在線圈組的傾斜線圈的內部。
32.根據權利要求25所述的裝置，其特征在于，進一步包括一對外部軛，其中此軛形成在基底上，并且其中安裝有單極已磁化磁體；和/或一對內部軛，其中此軛形成在基底上，以致被放置在傾斜線圈內部。
33.根據權利要求25所述的裝置，其中跟蹤線圈被放置在比聚焦線圈更接近于單極已磁化磁體的位置處，或者聚焦線圈被放置在比跟蹤線圈更接近于單極已磁化磁體的位置處。
34.根據權利要求20所述的裝置，其特征在于，進一步包括一對外部軛，其中此軛形成在基底上，并且其中安裝有單極已磁化磁體；和/或一對內部軛，其中此軛形成在基底上，以致被放置在傾斜線圈內部。
35.根據權利要求20所述的裝置，其中跟蹤線圈被放置在比聚焦線圈更接近于單極已磁化磁體的位置處，或者聚焦線圈被放置在比跟蹤線圈更接近于單極已磁化磁體的位置處。
36.一種光學記錄和/或再現裝置，包括光拾取器，其中此光拾取器包含用于驅動物鏡的致動器，被安裝以便在光信息存儲介質的徑向上可移動，并且在光信息存儲介質上記錄信息和/或從光信息存儲介質上再現信息，和控制部分，其中此控制部分控制光拾取器的聚焦和跟蹤伺服，其中致動器具有非對稱結構，其中一透鏡支架被安裝在物鏡上，并且由懸掛物支撐，以便相對于基底能夠移動，和一驅動物鏡的磁路，其中此磁路包括一對單極已磁化磁體，被安裝在基底上以便在物鏡的一個側面處相互面對，和一線圈組，包括一對聚焦線圈，被安裝在透鏡支架上以便被放置在該對單極已磁化磁體之間，并且被安裝以便與其中安裝有該對單極已磁化磁體的方向相交叉，和多個跟蹤線圈，被放置在面對單極已磁化磁體的聚焦線圈的至少一個側面上，和該線圈組被安裝在透鏡支架上，以便被放置在單極已磁化磁體之間，驅動物鏡。
37.根據權利要求36所述的裝置，其中線圈組使用塊狀線圈，其中聚焦線圈、跟蹤線圈預先被纏繞，并且線圈組可以具有其中多個跟蹤線圈附著于該對聚焦線圈的結構。
全文摘要
一種光拾取致動器，包括其中安裝有物鏡的透鏡支架，此透鏡支架由懸掛物支撐，以便相對于基底能夠移動，和一驅動物鏡的磁路，以及使用此光拾取致動器的光學記錄和/或再現裝置。此磁路包括一對單極已磁化磁體，被相互面對地安裝在基底上；一聚焦線圈，被安裝在透鏡支架上，以便被放置在一對單極已磁化磁體之間；多個跟蹤線圈，被放置在面對單極已磁化磁體的聚焦線圈的一個側面上；多個傾斜線圈，當物鏡的中心軸方向是上下方向時，此多個傾斜線圈被安裝在聚焦線圈的上部和/或下部。
文檔編號G11B7/095GK1542773SQ20041000591
公開日2004年11月3日 申請日期2004年1月29日 優先權日2003年1月29日
發明者宋秉崙, 張大鐘, 趙元翼, 全鐘夏, 宋秉 申請人:三星電子株式會社