有機發光二極管的基底及其制作方法、有機發光二極管的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明屬于光電技術領域，具體地講，涉及一種有機發光二極管的基底及其制作方法、有機發光二極管。
【背景技術】
[0002]有機發光二極管(OLED)顯示技術與傳統的LCD顯示技術不同，其無需背光燈，且具有自發光的特性，采用非常薄的有機材料涂層和玻璃基板，當有電流通過時，這些有機材料就會發光。而且屏可以做得更輕更薄，可視角度更大，并且能夠顯著節省電能。
[0003]目前，制備柔性OLED器件的襯底主要是聚對苯二甲酸乙二酯(PET)或者聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)。然而這些塑料襯底具有的水氧阻擋性較差，并且這些塑料襯底不耐高溫，表面粗糙度大，故利用這些塑料襯底制備的柔性OLED器件的性能較差。
【發明內容】
[0004]為了解決上述現有技術存在的問題，本發明的目的在于提供一種有機發光二極管的基底，其包括:柔性襯底;金屬層，形成在所述柔性襯底的第一表面上;第一鈍化層，形成在所述金屬層的背向所述第一表面的表面上;第二鈍化層，形成在所述柔性襯底的第二表面上;其中，所述第二表面與所述第一表面相對。
[0005]進一步地，所述金屬層通過濺射或者蒸鍍的方法形成。
[0006]進一步地，所述第一鈍化層和/或所述第二鈍化層通過化學氣相沉淀或原子層沉積的方法形成。
[0007]本發明的另一目的還在于提供一種有機發光二極管的基底的制作方法，其包括:提供一柔性襯底;在所述柔性襯底的第一表面上形成金屬層;在所述金屬層的背向所述第一表面的表面上形成第一鈍化層;在所述柔性襯底的第二表面上形成第二鈍化層;其中，所述第二表面與所述第一表面相對。
[0008]進一步地，利用濺射或者蒸鍍的方法在所述柔性襯底的第一表面上形成金屬層。
[0009]進一步地，利用化學氣相沉淀或原子層沉積的方法在所述金屬層的背向所述第一表面的表面上形成第一鈍化層。
[0010]進一步地，利用化學氣相沉淀或原子層沉積的方法在所述柔性襯底的第二表面上形成第一鈍化層。
[0011 ]本發明的又一目的又在于提供一種有機發光二極管，其包括:柔性襯底;在所述柔性襯底的第一表面上的金屬層；在所述金屬層的背向所述第一表面的表面上的第一鈍化層;在所述柔性襯底的第二表面上的第二鈍化層;依次在所述第二鈍化層的背向所述第二表面的表面上的陽極層、空穴注入層、空穴傳輸層、有機發光層、電子傳輸層、電子注入層及陰極層;其中，所述第二表面與所述第一表面相對。
[0012]本發明的有益效果:本發明的有機發光二極管(OLED)的基底及其制作方法，與現有技術的OLED的基底相比，能夠提高柔性襯底的水氧阻擋能力，且還能降低柔性襯底的上表面的粗糙度，同時又能提高柔性襯底的散熱性。
【附圖說明】
[0013]通過結合附圖進行的以下描述，本發明的實施例的上述和其它方面、特點和優點將變得更加清楚，附圖中:
[0014]圖1是根據本發明的實施例的用于有機發光二極管(OLED)的基底的結構示意圖；
[0015]圖2是根據本發明的實施例的用于有機發光二極管(OLED)的基底的制作方法的流程圖；
[0016]圖3是根據本發明的實施例的有機發光二極管的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0017]以下，將參照附圖來詳細描述本發明的實施例。然而，可以以許多不同的形式來實施本發明，并且本發明不應該被解釋為限制于這里闡述的具體實施例。相反，提供這些實施例是為了解釋本發明的原理及其實際應用，從而使本領域的其他技術人員能夠理解本發明的各種實施例和適合于特定預期應用的各種修改。
[0018]在附圖中，為了清楚元器件，夸大了層和區域的厚度。相同的標號在附圖中始終表示相同的元件。
[0019]將理解的是，盡管在這里可使用術語“第一”、“第二”等來描述各種元件，但是這些元件不應受這些術語的限制。這些術語僅用于將一個元件與另一個元件區分開來。
[0020]也將理解的是，在一層或元件被稱為在或形成在另一層或基板“之上”或“之下”時，它可以直接在或形成在該另一層或基板上或下，或者也可以存在中間層或中間元件。
[0021]圖1是根據本發明的實施例的用于有機發光二極管(OLED)的基底的結構示意圖。圖2是根據本發明的實施例的用于有機發光二極管(OLED)的基底的制作方法的流程圖。
[0022]參照圖1和圖2，在步驟210中，提供一柔性襯底10。這里，柔性襯底10可采用適當的柔性材料制成，例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)或者聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)，但本發明并不限制于此。
[0023]在步驟220中，在柔性襯底10的第一表面上形成金屬層20。這里，柔性襯底10的第一表面指的是柔性襯底10的下表面，但本發明并不限制于此。金屬層20的設置，能夠提高柔性襯底10的水氧阻擋能力，同時提高柔性襯底10的散熱性。
[0024]進一步地，利用濺射或者蒸鍍的方法在柔性襯底10的下表面上形成金屬層20。在本實施例中，金屬層20可以由金屬單質(例如鋁、鉻等)、不銹鋼、金屬合金等材料制成，但本發明并不限制于此。需要說明的是，金屬層20的厚度可以在15nm?40nm之間。
[0025]在步驟230中，在金屬層20的背向柔性襯底10的第一表面的表面上形成第一鈍化層30。這里，金屬層20的背向柔性襯底10的第一表面的表面指的是金屬層20的下表面。第一鈍化層30的設置，能夠提高柔性襯底10的水氧阻擋能力，同時能夠保護金屬層20，防止金屬層20被氧化或損傷。
[0026]進一步地，利用化學氣相沉淀或原子層沉積的方法在金屬層20的下面上形成第一鈍化層30。在本實施例中，第一鈍化層30可以由氮化硅、二氧化硅或者氧化鋁等材料制成，但本發明并不限制于此。需要說明的是，第一鈍化層30的厚度可以在200nm?500nm之間。
[0027]在步驟2