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綜合功能膜、其制作方法及oled顯示面板的制作方法_4

文檔序號:9890069閱讀:來源:國知局
在所述水氧阻隔層(42)的遠離所述預處理層(41)的表面上; 第一觸控功能層(44),接觸設置在所述保護層(43)的遠離所述水氧阻隔層(42)的表面上。4.根據權利要求3所述的綜合功能膜,其特征在于,所述觸控膜組(4)還包括: 平坦層(45),接觸設置在所述保護層(43)的遠離所述水氧阻隔層(42)的表面上,并覆蓋所述第一觸控功能層(44);以及 第二觸控功能層(46),接觸設置在所述平坦層(45)的遠離所述保護層(43)的表面上。5.根據權利要求1所述的綜合功能膜,其特征在于,所述觸控膜組(4)包括: 第一觸控功能層(44),接觸設置在所述1/4波片(3)的遠離所述線偏光功能片層(11)的表面上; 預處理層(41),接觸設置在所述1/4波片(3)的遠離所述線偏光功能片層(11)的表面上,并覆蓋所述第一觸控功能層(44); 水氧阻隔層(42),接觸設置在所述預處理層(41)的遠離所述線偏光功能片層(11)的表面上。6.根據權利要求5所述的綜合功能膜,其特征在于,所述觸控膜組(4)還包括: 平坦層(45),接觸設置在所述水氧阻隔層(42)的遠離所述預處理層(41)的表面上;以及 第二觸控功能層(46),接觸設置在所述平坦層(45)的遠離所述水氧阻隔層(42)的表面上。7.根據權利要求3或5所述的綜合功能膜,其特征在于,形成所述預處理層(41)的材料為SiNx、S1x、HMDSO或聚酯,優選所述預處理層(41)的厚度為I?3μηι;優選形成所述保護層(43)的材料為SiNx、S1x、HMDSO或聚酯,進一步優選所述保護層(43)的厚度為I?3μπι,優選形成所述水氧阻隔層(42)的材料為Al203、Ti02、SiN、Si02、HMDS0或聚酯,進一步優選所述水氧阻隔層(42)的厚度為1nm?5μηι08.根據權利要求4或6所述的綜合功能膜,其特征在于,形成所述第一觸控功能層(44)和所述第二觸控功能層(46)的材料各自獨立地選自ΙΤ0、金屬網格、納米銀、石墨稀和碳納米管中的任意一種,優選所述第一觸控功能層(44)的厚度為1nm?Ιμπι,優選所述第二觸控功能層(46)的厚度為1nm?Ιμπι;優選形成所述平坦層(45)的材料為有機樹脂材料,進一步優選所述平坦層(45)的厚度為5?50μηι。9.根據權利要求1所述的綜合功能膜,其特征在于,所述1/4波片(3)通過第一粘附層(2)粘接在所述線偏光功能片層(11)上。10.根據權利要求1所述的綜合功能膜,其特征在于,所述綜合功能膜還包括第二保護層,所述第二保護層設置在所述觸控膜組(4)的遠離所述1/4波片(3)的表面上。11.一種權利要求1至9中任一項所述的綜合功能膜的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括: 步驟SI,制作所述綜合功能膜的線偏光片(I),所述線偏光片(I)包括線偏光功能片層(11)和接觸設置在所述線偏光功能片層(11) 一側表面上的硬化保護層(12),所述硬化保護層(12)的硬化強度在鉛筆硬度5Η以上; 步驟S2,在所述綜合功能膜的1/4波片(3)的一側表面上設置具有水氧阻隔功能的觸控膜組(4); 步驟S3,將具有所述觸控膜組(4)的所述1/4波片(3)設置在所述線偏光功能片層(11)的遠離所述硬化保護層(12)的表面上,且所述觸控膜組(4)遠離所述線偏光功能片層(11)設置。12.根據權利要求11所述的制作方法,其特征在于,所述制作綜合功能膜的線偏光片(I)的步驟包括:在所述線偏光功能片層(I I)的一側表面上通過真空鍍膜或涂布方法設置聚酯類樹脂材料,形成所述硬化保護層(12)。13.根據權利要求11所述的制作方法,其特征在于,所述步驟S2包括: 步驟S21,采用CVD、PVD、i CVD或涂布的方式在所述I /4波片(3)的所述一側表面上形成預處理層(41); 步驟S22,在所述預處理層(41)的遠離所述1/4波片(3)的表面上設置水氧阻隔材料,形成水氧阻隔層(42); 步驟S23,采用CVD、PVD、iCVD或涂布的方式在所述水氧阻隔層(42)上形成保護層(43); 步驟S24,在所述保護層(43)上設置第一觸控功能材料; 步驟S25,對所述第一觸控功能材料進行圖形化處理,得到第一觸控功能層(44); 優選地,步驟S26,在所述保護層(43)上采用CVD、iCVD或涂布的方式形成覆蓋所述第一觸控功能層(44)的平坦層(45); 優選地,步驟S27,在所述平坦層(45)上設置第二觸控功能材料;以及 優選地,步驟S28,對所述第二觸控功能材料進行圖形化處理,得到第二觸控功能層(46)ο14.根據權利要求11所述的制作方法,其特征在于,所述步驟S2包括: 步驟S21’,在所述1/4波片(3)的所述一側表面上設置第一觸控功能材料; 步驟S22’,對所述第一觸控功能材料進行圖形化處理,得到第一觸控功能層(44); 步驟S23’,在所述1/4波片(3)的所述一側表面上形成覆蓋所述第一觸控功能層(44)的預處理層(41); 步驟S24’,在所述預處理層(41)上設置水氧阻隔材料,形成水氧阻隔層(42); 優選地,步驟S25’,在所述水氧阻隔層(42)上采用CVD、iCVD或涂布的方式形成平坦層(45); 優選地,步驟S26’,在所述平坦層(45)上設置第二觸控功能材料;以及 優選地,步驟S27,,對所述第二觸控功能材料進行圖形化處理,得到第二觸控功能層(46)ο15.根據權利要求13或14所述的制作方法,其特征在于,所述水氧阻隔材料采用CVD、PVD、i CVD或ALD的方式設置。16.根據權利要求13或14所述的制作方法,其特征在于,所述觸控功能材料采用濺射、涂布或印刷的方式進行設置,優選真空濺射。17.根據權利要求11所述的制作方法,其特征在于,所述制作方法采用第一粘附層(2)將具有所述觸控膜組(4)的所述1/4波片(3)與所述線偏光功能片層(11)粘接。18.一種OLED顯示面板,包括OLED組件(100)和保護結構(200),其特征在于,所述保護結構(200)為權利要求1至9中任一項所述的綜合功能膜,且所述線偏光片(I)遠離所述OLED組件(100)設置。19.根據權利要求18所述的OLED顯示面板,其特征在于,所述OLED組件(100)包括: 柔性襯底(101 ),具有第一表面和第二表面; 水氧阻隔膜(102),粘接在所述柔性襯底(101)的第一表面上; OLED器件(103),設置在所述柔性襯底(101)的第二表面上; OLED保護層(104),設置在所述柔性襯底(101)的第二表面上,并覆蓋所述OLED器件(103)設置,所述綜合功能膜通過第二粘附層(300)粘結在所述OLED保護層(104)上。
【專利摘要】本發明提供了一種綜合功能膜、其制作方法及具有其的OLED顯示面板。該綜合功能膜包括:線偏光片,包括線偏光功能片層和接觸設置在線偏光功能片層一側表面上的硬化保護層,硬化保護層的硬化強度在鉛筆硬度5H以上;1/4波片,設置在線偏光功能片層的遠離硬化保護層的表面上;具有阻隔功能的觸控膜組,接觸設置在1/4波片的遠離線偏光功能片層的表面上。線偏光片的硬化保護層的鉛筆硬度在5H以上,因此可以作為保護蓋,既省去了現有技術中的玻璃蓋使得OLED顯示面板的厚度減小,而且利用線偏光片實現了柔性封裝。將水氧阻隔功能、觸控功能和偏光功能一體化,從而省去了粘附層,減小了封裝結構的厚度,簡化了工藝流程,保證了成品良率。
【IPC分類】H01L51/52, H01L27/32, H01L51/56, G06F3/041
【公開號】CN105655501
【申請號】
【發明人】李碩, 劉雪洲, 于甄, 柯榮鋒, 蔣雷, 談俊
【申請人】張家港康得新光電材料有限公司
【公開日】2016年6月8日
【申請日】2016年3月18日
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