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一種有機電致發光器件及其制備方法和顯示面板的制作方法

文檔序號:9890072閱讀:235來源:國知局
一種有機電致發光器件及其制備方法和顯示面板的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示技術領域,特別涉及一種有機電致發光器件及其制備方法和顯示面板。
【背景技術】
[0002]OLED(Organic Light-Emitting D1de,有機發光二極管)屏幕以其輕薄、主動發光、快響應速度、廣視角、色彩豐富及高亮度、低功耗、耐高溫等眾多優點而被業界公認為是繼液晶顯示器(IXD,Liquid Crystal Display)之后的第三代顯示技術,可以廣泛用于智能手機、平板電腦、電視等終端產品。而AMOLED(Active_matrix organic light emittingd1de,有源矩陣有機發光二極體或主動矩陣有機發光二極體)屏幕是在OLED屏幕基礎上發展的更新的一代顯示屏。
[0003]現有顯示屏的顯示效果與PPI(Pixels Per Inch,像素密度)具有直接的關系,像素密度所表示的是每英寸屏幕所擁有的像素數量,因此像素密度數值越高,代表顯示屏能夠以越高的密度顯示圖像,當然,顯示屏顯示的密度越高,擬真度就越高。隨著智能手機、平板電腦等個人移動電子產品的廣泛使用,人們對顯示屏的像素密度提出了越來越高的要求。而現有AMOLED顯示屏的量產技術主要是采用精細金屬掩膜(Fine Metal Mask,FMM)以RGB像素并置法(side by side)來實現全彩化。
[0004]但是,由于精細金屬掩膜制備時的加工精度控制困難,在AMOLED顯示屏的制作過程中,因受限于精細金屬掩膜中加工精度的要求,像素單元的尺寸不能做的太小,因此,AMOLED顯示屏難以實現高像素密度。

【發明內容】

[0005]本發明提供了一種有機電致發光器件及其制備方法和顯示面板,該有機電致發光器件的制備方法能夠降低對精細金屬掩膜的精度要求,還便于實現顯示屏的高像素密度設
i+o
[0006]為達到上述目的,本發明提供以下技術方案:
[0007]—種有機電致發光器件的制備方法,所述有機電致發光器件包括襯底基板,所述襯底基板具有陣列分布的多個像素單元,每一個像素單元包括一個第一顏色的子像素、一個第二顏色的子像素、一個第三顏色的子像素和一個第四顏色的子像素,所述制備方法包括:
[0008]通過第一精細金屬掩膜在所述襯底基板上蒸鍍形成多個第一蒸鍍層圖案;
[0009]通過第二精細金屬掩膜在所述襯底基板上蒸鍍形成多個第二蒸鍍層圖案,每一個所述第二蒸鍍層圖案的長度方向與所述第一蒸鍍層圖案的長度方向平行,且沿與所述第一蒸鍍層圖案的長度方向垂直的方向,所述第二蒸鍍層圖案與所述第一蒸鍍層圖案交替分布;
[0010]通過第三精細金屬掩膜在所述襯底基板上蒸鍍形成多個第三蒸鍍層圖案,每一個所述第三蒸鍍層圖案的長度方向與所述第一蒸鍍層圖案的長度方向相交,且,每一個所述第三蒸鍍層圖案與所述第一蒸鍍層圖案的交疊部位形成第一顏色的子像素的電致發光層,每一個所述第三蒸鍍層圖案與所述第二蒸鍍層圖案的交疊部位形成第二顏色的子像素的電致發光層;
[0011]通過第四精細金屬掩膜在所述襯底基板上蒸鍍形成多個第四蒸鍍層圖案,每一個所述第四蒸鍍層圖案的長度方向與所述第三蒸鍍層圖案的長度方向平行,且沿與所述第三蒸鍍層圖案的長度方向垂直的方向,所述第四蒸鍍層圖案與所述第三蒸鍍層圖案交替分布;且,每一個所述第四蒸鍍層圖案與所述第一蒸鍍層圖案的交疊部位形成第三顏色的子像素的電致發光層,每一個所述第四蒸鍍層圖案與所述第二蒸鍍層圖案的交疊部位形成第四顏色的子像素的電致發光層。
[0012]采用上述制備方法制備有機電致發光器件時,通過第一精細金屬掩膜和第二精細金屬掩膜形成多個第一蒸鍍層圖案和多個第二蒸鍍層圖案,第一蒸鍍層圖案和第二蒸鍍層圖案沿與第一蒸鍍層圖案的長度方向垂直的方向交替分布;通過第三精細金屬掩膜和第四精細金屬掩膜形成多個第三蒸鍍層圖案和多個第四蒸鍍層圖案,第三蒸鍍層圖案和第四蒸鍍層圖案沿與第三蒸鍍層圖案的長度方向垂直的方向交替分布;每一個第三蒸鍍層圖案與第一蒸鍍層圖案的交疊部位形成第一顏色的子像素的電致發光層,每一個第三蒸鍍層圖案與第二蒸鍍層圖案的交疊部位形成第二顏色的子像素的電致發光層,每一個第四蒸鍍層圖案與第一蒸鍍層圖案的交疊部位形成第三顏色的子像素的電致發光層,每一個第四蒸鍍層圖案與第二蒸鍍層圖案的交疊部位形成第四顏色的子像素的電致發光層;其中,沿第三蒸鍍層圖案的長度方向,第一顏色的子像素和第二顏色的子像素相鄰、且交替分布,第三顏色的子像素和第四顏色的子像素相鄰、且交替分布;同時,沿第一蒸鍍層圖案的長度方向,第一顏色的子像素和第三顏色的子像素相鄰、且交替分布,第二顏色的子像素和第四顏色的子像素沿相鄰、且交替分布;采用上述制備方法制備的有機電致發光器件的每個像素單元均由第一顏色的子像素、第二顏色的子像素、第三顏色的子像素和第四顏色的子像素構成,并且構成每個像素單元的四個子像素形成兩行兩列的陣列結構。
[0013]在采用上述制備方法制備有機電致發光器件且顯示屏的像素密度確定時,S卩,顯示屏的每個像素單元的尺寸固定,通過第一精細金屬掩膜形成的條形的第一蒸鍍層圖案沿像素單元的行方向的尺寸為每個像素單元行方向尺寸的1/2,通過第二精細金屬掩膜形成的條形的第二蒸鍍層圖案沿像素單元的行方向的尺寸為每個像素單元行方向尺寸的1/2,通過第三精細金屬掩膜形成的條形的第三蒸鍍層圖案沿像素單元的列方向的尺寸為每個像素單元列方向尺寸的1/2,通過第四精細金屬掩膜形成的條形的第四蒸鍍層圖案沿像素單元的列方向的尺寸為每個像素單元列方向尺寸的1/2;而現有技術中,每個像素單元采用沿像素單元行方向并行排列的3個子像素或4個子像素構成,通過精細金屬掩膜形成的每一個條形的蒸鍍層圖案沿像素單元的行方向的尺寸為每個像素單元行方向尺寸的I/3或I/4;在顯示屏的像素密度確定時,采用上述制備方法制備有機電致發光器件,由于精細金屬掩膜的尺寸比現有技術中采用的精細金屬掩膜的尺寸大,因此,在顯示屏的像素密度相同時,上述制備方法能夠降低對精細金屬掩膜的制造精度和對位精度,從而降低對精細金屬掩膜的精度要求。
[0014]在采用上述制備方法制備有機電致發光器件且顯示屏的尺寸確定時,沿像素單元的行方向和列方向,每個像素單元僅占用兩個子像素寬度的尺寸,而現有技術中,沿像素單元的行方向和列方向,每個像素單元至少要占用三個子像素寬度的尺寸,甚至四個子像素寬度的尺寸,在同樣尺寸的顯示屏上,采用上述制備方法制備的有機電致發光器件的像素密度至少為現有技術制備的有機電致發光器件的像素密度的兩倍以上,因此,采用上述制備方法制備有機電致發光器件便于實現顯示屏的高像素密度設計。
[0015]因此,采用上述制備方法制備有機電致發光器件時,能夠降低對精細金屬掩膜的精度要求,還便于實現顯示屏的高像素密度設計。
[0016]優選地,在通過第一精細金屬掩膜在所述襯底基板上蒸鍍形成多個第一蒸鍍層圖案的步驟中,每一個所述第一蒸鍍層圖案的長度方向與所述像素單元的列方向平行。
[0017]優選地,在通過第三
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