專利名稱：用于運行粒子治療設備的方法
技術領域：
本發明涉及一種用于運行粒子治療設備的方法以及一種在其中使用所述方法的粒子治療設備。
背景技術：
使用粒子治療設備利用重粒子(例如質子、碳離子)治療腫瘤。在此利用重粒子例如按照所謂的光柵掃描方法照射腫瘤。除了患者的腫瘤，還可以例如為了研究或預警目的照射模體。光柵掃描方法的基礎是，對于每個ISO能量層設置由粒子產生和加速裝置提供的射線強度并且實時采集在每個光柵點應用的劑量并且對于每個光柵點維持直到達到了規劃的目標劑量。例如可以借助快速磁鐵通斷輻射。因為在將輻射應用于光柵點期間每個光柵點需要一個最小時間，所以用于以最小的劑量照射光柵點的應用的該最小時間確定了可以使用的最大輻射強度。在此還必須考慮，用于從粒子產生和加速裝置中提取粒子束的技術方案會導致具有大的波動的粒子流變化。用于提取粒子的典型方案例如是諧振提取或利用所謂的Knock-Out-Exciter (K0激勵器)的提取。這樣產生的粒子或微粒流變化由于快速波動而在幾個微秒的范圍內主導并且此外特別在提取的開始還附加地在幾十毫秒直到幾秒的時間范圍中改變。相反，值得期望的是，粒子束強度，即每單位時間粒子或微粒的數量，近似為如圖1 所示的方波，即，在預定的時刻非常陡地上升到期望的強度并且在例如5秒的預定的時間之后又非常陡地下降。相反，圖2示出了按照現有技術的粒子束的強度變化。強度的采集以50 μ s的分辨率進行。可以看出長時間的波動以及非常短時的波動。在此，從JP-113^800公知一種用于發出帶電粒子束輻射的方法和一種加速裝置。加速裝置包括用于施加高頻的裝置、用于輻射(Ausstrahimg)的偏轉裝置、流測量裝置和計算機器。用于施加高頻的裝置基于高頻信號產生高頻電場、磁場或電磁場，以便將其施加到帶電粒子流。偏轉裝置輻射帶電粒子束，該粒子束通過用于施加高頻的裝置向著諧振穩定限制的外側運動。流測量裝置測量帶電粒子束的流的值，該粒子束是由用于輻射的偏轉裝置輻射的。計算機器按照由流測量裝置測量的流的值，確定高頻信號的強度。由于特別是在諧振提取時顯示的粒子束強度的強烈波動，目前這樣實施照射技術，使得接受具有非常高的可變性的照射強度。由此要接受通過最小劑量的光柵點的劑量主導的相對長的照射時間。此外為了仍能夠獲得可接受的照射時間，在規劃時相對高地設置每個光柵點的最小劑量。由此可以避免輻射應用的持續時間由于限制到最小強度而變得非常大的極端情況。另一方面，由此在具有小的劑量需求的光柵點的情況下要接受可能不合比例地高的劑量。
發明內容
本發明要解決的技術問題是，如下地改進粒子治療裝置的運行，即縮短照射時間并且在不同的光柵點既能夠應用小的也能夠應用大的輻射劑量。
按照本發明的第一方面提供一種用于運行粒子治療裝置的方法。在該方法中產生并加速照射粒子并且從產生的照射粒子的至少一部分中產生粒子束。此外自動采集粒子束的粒子束強度。此外按照預定的照射規劃自動地利用粒子束順序地照射多個光柵點。在照射規劃中每個光柵點分別對應于一個用于在該光柵點上的粒子束強度的額定值。自動地根據采集的粒子束強度和分別預定的用于待照射的光柵點的粒子束強度的額定值來影響粒子束強度。通過測量粒子束強度并且自動根據預定的額定值影響或調整粒子束強度，可以作為時間的函數實現粒子束強度變化，該粒子束強度變化非常近似于例如在圖1中所示的具有非常陡的上升、然后是恒定的變化和快速下降的期望的變化。為了自動采集粒子束強度， 例如可以使用在粒子治療裝置中為了測量每個光柵點應用的劑量而使用的探測器。由此不必將會影響輻射質量并且由此影響醫療治療結果的附加的探測器引入粒子束中。由探測器測量的輻射強度例如可以實時地數字地傳輸到數字的調節器。為了傳輸數字化的測量信號，例如可以使用工業上常用的總線信號。調節器例如可以是使用比例調節、積分調節和微分調節的所謂的PID調節器。PID調節器特別適合于調節如圖2所示的快的以及慢的波動。 替換地還可以使用在現有技術中公知的其他調節器。除了數字地傳輸由探測器采集的粒子束強度，還可以設置模擬的傳輸。此外輻射強度不再通過最低劑量的光柵點限制并且可以極大減小照射時間。此外在照射規劃中明顯更小地設置每個光柵點的最小劑量。由此可以實現改善的照射的均勻性和舒適性并且同時減小照射時間。這導致患者通過率的明顯提高并且由此導致粒子治療裝置的更有效利用。還可以在幾個光柵點的情況下在多個光柵點的順序照射期間設置額定值的改變。 特別地在照射屬于ISO能量層的光柵點期間可以發生額定值的改變。由此輻射強度不再通過ISO能量層中的最低劑量的光柵點限制并且可以極大減小照射時間。在照射規劃時可以更靈活，因為能夠明顯更小地設置每個光柵點的最小劑量。按照一種實施方式，將粒子束傳輸到治療位置的粒子束輸出端并且采集在治療位置的粒子束輸出端上的粒子束強度。由此可以這樣調整對粒子束強度的自動影響，使得在治療位置的粒子束輸出端上提供期望的粒子束強度，由此可以相應地考慮在將粒子束傳輸到粒子束輸出端時粒子束強度的影響。按照另一種實施方式，利用同步加速器和/或線性加速器產生并加速照射粒子。替換地還可以利用粒子回旋加速器產生并加速照射粒子。在使用同步加速器和線性加速器的情況下為了影響粒子束強度可以借助所謂的Knock-Out-Exciter將照射粒子的一部分退耦。Knock-Out-Exciter例如借助控制設備來控制并且對加速器中的粒子束產生強度可調的高頻。功率越高，則單位時間退耦越多粒子。為了獲得期望的粒子束強度變化，在Knock-Out-Exciter的控制設備中自動地利用例如前面提到的PID調節器調整輸出功率。由此取消了通常所需的對如下功能的參數的調整，該功能對于預控制調整 Knock-Out-Exciter的輸出功率的時間變化。此外通過粒子束強度的高的時間常數，粒子束的應用更精確和更均勻。由此也簡化了對于粒子束應用的控制和監視系統，由此運行變得更可靠。通過這樣實現的優化的和恒定的輻射強度可以減小輻射中斷的頻度，即所謂的互鎖anterlock)的頻度，由此可以更快地進行治療并且更有效利用粒子治療裝置。
可以可選地將粒子束傳輸到多個治療位置中的一個。在每個治療位置采集粒子束強度，特別是應用的粒子束強度，并且自動地將粒子束當前被傳輸到的那個治療位置的采集的粒子束強度用來影響粒子束強度。通過在每個治療位置采集粒子束強度并且將其用來影響粒子束強度，可以確保，在當前進行治療的治療位置上正好提供期望的輻射強度。按照另一種實施方式，確定粒子產生裝置(例如同步加速器、線性加速器或粒子回旋加速器)的品質信息。品質信息自動地根據采集的粒子束強度和粒子束強度的當前的影響來確定。當例如在加速器中存儲的粒子數由于技術問題隨時間改變時，則在具有線性加速器的同步加速器的情況下必須相應地再調整對退耦的照射粒子的部分的設置，以便保持對于粒子束強度的預定額定值。通過對退耦的照射粒子的部分的設置的合適記錄 (Protoko 11 ierung)和分析，由此可以導出粒子產生裝置的品質信息。基于該品質信息可以導出例如對于粒子產生裝置預防性的維護的措施。按照本發明的另一方面，提供一種粒子治療裝置。粒子治療裝置包括用于產生并加速照射粒子的粒子產生裝置、射線產生裝置、采集裝置、光柵控制裝置和粒子束影響裝置。這樣構造射線產生裝置，例如Knock-Out-Exciter，使得射線產生裝置從粒子產生裝置的照射粒子的至少一部分中產生粒子束。采集裝置能夠自動采集粒子束的粒子束強度。這樣構造粒子束影響裝置，使得其根據采集的粒子束強度和對于粒子束強度預定的額定值影響并且由此調整粒子束強度。構造光柵控制裝置來利用粒子束按照預定的照射規劃順序地照射多個光柵點。照射規劃為多個光柵點的每一個分別對應一個對于粒子束強度的額定值。光柵控制裝置與粒子束影響裝置耦合并且將待照射的光柵點的額定值傳輸到粒子束影響裝置。粒子束影響裝置使用額定值來調整對于待照射的光柵點的期望的粒子束強度。由此對于不同的光柵點可以實現并且在短的照射時間中提供既可以是小的也可以是大的照射劑量。由此可以改善粒子治療裝置的利用并且縮短對于患者的照射時間。粒子治療裝置還可以包括將粒子束傳輸到治療位置的粒子束輸出端的粒子束傳輸單元。在這種情況下用于自動地采集粒子束強度的采集裝置優選設置在粒子束輸出端。 由此可以確保在粒子束輸出端上的精確和期望的輻射強度。粒子治療裝置還可以包括將粒子束可選地傳輸到多個治療位置中的一個的粒子束傳輸單元。在每個治療位置設置用于自動采集導出的粒子束的粒子束強度(特別是用于采集應用的粒子束強度)的采集裝置。粒子治療裝置還可以包括切換單元，該切換單元將粒子束當前被傳輸到的那個治療位置的采集的粒子束強度傳輸到粒子束影響裝置。由此可以按順序利用粒子束顧及多個治療位置，由此能夠更有效地利用粒子治療裝置。借助切換單元確保在每個治療位置上提供期望的粒子束強度。按照另一種實施方式，粒子治療裝置包括用于確定粒子產生裝置的品質信息的品質確定裝置。品質信息由品質確定裝置根據采集的粒子束強度和通過粒子束影響裝置對粒子束強度的影響來確定。由此可以及時地識別并且消除在粒子治療裝置上的故障或將來所需的維護。前面描述的粒子治療裝置還適合于執行前面描述的方法并且由此包括結合方法所描述的優點。此外本發明還包括一種計算機程序產品，特別是軟件，其可以被加載到粒子治療裝置的可編程控制裝置(例如粒子束影響裝置)的存儲器中。當計算機程序產品在粒子治療裝置中被運行時，利用該計算機程序產品的程序裝置可以執行按照本發明的方法的上述所有實施方式。最后本發明還涉及一種電子可讀的數據載體，例如CD或DVD，在其上存儲了電子可讀的控制信息，特別是軟件。當該控制信息由數據載體讀取并且存儲在粒子治療裝置的控制裝置，例如粒子束影響裝置中時，可以利用粒子治療裝置執行前面描述的方法的所有按照本發明的實施方式。
以下借助附圖結合優選實施方式詳細解釋本發明。各個特征、其優點和其作用的上述和以下描述既關于裝置類別也關于方法類別， 無需在每種情況下個別地明確指出；在此公開的各個特征還可以與示出的組合不同地組
I=I O圖1示出了粒子束強度隨時間的期望變化。圖2示出了按照現有技術的粒子束強度隨時間的典型變化。圖3示出了按照本發明的實施方式的粒子治療裝置的示意圖。圖4示出了按照本發明的實施方式的粒子束強度的時間變化。圖5示出了與按照現有技術的粒子束強度的變化相比，按照本發明的粒子束強度的變化。圖6示出了照射規劃，該照射規劃將照射規劃的每個光柵點對應于一個照射劑量。圖7示出了按照本發明的另一個實施方式的粒子束強度的變化。
具體實施例方式圖3示出了粒子治療裝置100。該粒子治療裝置100包括粒子產生裝置101、射線產生裝置102和未示出的粒子束傳輸單元。在粒子產生裝置101中，例如在線性加速器和同步加速器或粒子回旋接收器中產生并加速照射粒子，例如質子或碳離子。在同步加速器和線性加速器的情況下，借助射線產生裝置102將產生并加速的粒子或微粒的一部分從粒子產生裝置101中退耦并且作為粒子束傳輸到未示出的粒子束傳輸單元。射線產生裝置 102例如可以是Knock-Out-Exciter，其對粒子產生裝置101中的粒子束輸出可調功率的高頻。功率越高，則單位時間越多的粒子被退耦并且被傳輸到退耦的粒子束。粒子束傳輸單元將這樣產生的粒子束可選地傳輸到例如在不同的治療室中設置的多個治療位置中的一個。粒子治療裝置還包括在每個治療位置上的采集裝置103-105，用于采集由粒子束傳輸單元傳輸到治療位置的粒子束的粒子束強度。在圖3中示例性示出了三個治療位置，其中在第一治療位置設置采集裝置103，在第二治療位置設置了采集裝置104并且在第三治療位置設置了采集裝置105。采集裝置103-105例如借助充氣的電離室和其中設置的平板電容器采集輻射強度。這樣采集的粒子束強度給出了每單位時間的粒子束劑量。每個采集裝置103-105分別對應于一個劑量確定裝置106-108，其分別將對應的采集裝置的粒子束強度在時間上積分，以確定在治療位置上的粒子束劑量。粒子治療裝置100還包括切換單元109，其與采集裝置103-105耦合。切換單元109還與粒子束影響裝置110耦合。粒子束影響裝置110例如可以包括電子控制裝置，例如微處理器。粒子治療裝置100的上級設置的(未示出的)控制裝置(該控制裝置還控制粒子束傳輸單元)為切換單元109提供信息，即，哪個治療位置當前由粒子束傳輸單元提供粒子束。相應地，切換單元109選擇由采集裝置103-105中采集的粒子束強度，以將其進一步傳輸到粒子束影響裝置110。在采集裝置103-105和切換單元109之間的連接通過例如分開的導線或總線系統例如可以傳輸數字信號。上級設置的控制裝置為粒子束影響裝置110 提供對于粒子束強度的額定值并且粒子束影響裝置110為射線產生裝置102提供用于控制電路111的控制值。對于控制電路111的控制值由粒子束影響裝置110根據由采集裝置 103-105中的一個采集的粒子束強度和預先給出的對于粒子束強度的額定值來確定。此外粒子束影響裝置Iio例如包括PID調節器。PID調節器提供用于控制電路111的控制值， 由此例如調整Knock-Out-Exciter的高頻功率，以便這樣以通過額定值規定的時間上恒定的速率調節在同步加速器中的粒子的退耦率或提取率。粒子束影響裝置110例如可以以工業上通用的控制裝置的形式(所謂的存儲器可編程的控制裝置)實現，并且由此作為標準組件集成到粒子治療裝置中。由粒子束影響裝置110傳輸到射線產生裝置102的控制電路 111的控制值例如可以模擬地或優選數字地被傳輸。替換地，切換單元109還可以不取決于上級設置的控制裝置，將采集的粒子束強度從設置在報告一個不等于零的額定強度的治療位置上的那個采集裝置103-105傳輸到粒子束影響裝置110，因為上級設置的系統由于患者安全些原因本來就要保證，在一個時間利用粒子束僅提供到剛好一個治療位置。粒子治療裝置100還可以包括(未示出的)品質確定裝置，其例如集成在粒子治療裝置100的前面提到的上級設置的控制裝置中。品質確定裝置采集控制值，該控制值由粒子束影響裝置110輸出到控制電路111，并且隨時間與對于粒子束強度的額定值一起記錄控制值。例如當由粒子產生裝置101產生并存儲的粒子數例如由于技術原因隨時間改變時，則在達到規劃的照射時間結束之前，粒子束影響裝置110的控制值取異樣的值，例如高于或低于邊界值。通過對達到邊界值的時刻的合適記錄和分析，可以導出對于粒子產生裝置101的功能的品質參數。根據該品質參數可以導出用于預防性維護粒子產生裝置101的措施。當由粒子束影響裝置110輸出到控制電路111的控制值達到邊界值時，這也可以發信號，在粒子產生裝置101的加速器中不再存在粒子。可以利用該信息來一直進行粒子束的受調節的應用，直到通過控制值由粒子束影響裝置110向控制電路111發信號，在加速器中不再存在粒子。由此可以實現，最佳地利用在加速器中存儲的粒子數。這可以對減小環境負擔作出貢獻，因為否則必須消除存儲的和加速的其余射線，這導致消除單元和/或設備部件的放射性污染。因為粒子束強度的信息由采集裝置或探測器103-105為了調節粒子束強度被實時傳輸到粒子束影響裝置110，所以可以在治療位置上提供極其精確的粒子束強度。圖4示出了按照本發明調節的粒子束強度的變化。同樣如圖2中所示以50μ s的間隔采集強度。 在時刻t = 22. 7s激活調節。與圖2比較，可以明顯看出，通過調節能夠明顯減小長時間的波動。圖5示出了具有調節和沒有調節的粒子束強度的比較。圖5中，對強度數據利用FIR濾波器通過在20ms上取平均來進行平滑。如從圖5可以看出的，在近似22. 7s至27. 2s 的時間范圍中的被調節的粒子束中不僅明顯減小慢的波動而且還減小了短時的波動。在近似31. 4s至36. 3s的未調節的強度變化中，除了明顯更慢的波動之外還可以看出明顯更短時的波動。在粒子束治療中典型地利用光柵掃描方法治療腫瘤。在此將腫瘤邏輯地劃分為多個光柵體積，即所謂的光柵點，并且在照射規劃中為每個光柵點對應一個照射劑量。為了照射光柵點將粒子束對準光柵點并且將具有預定能量的粒子輻射到腫瘤中，所述預定能量確定粒子的入射深度。照射規劃在此可以具有對于每個光柵點極其不同的粒子劑量。圖6示例性示出了對于照射規劃的多個光柵點的期望的粒子劑量。通常在應用光柵點的照射期間每個光柵點需要一個最小時間。用于以最小劑量照射光柵點的該最小時間限制了能夠使用的最大射線強度。在圖6中利用箭頭標出了具有最小劑量的光柵點。在按照現有技術的粒子治療裝置中，其中沒有如前面所述地調節粒子束強度，對于具有明顯更高的劑量的多個光柵點由此接受一個相對長照射時間，該照射時間通過較小劑量的光柵點的劑量主導。相反，利用在圖3中所示的具有受調節的粒子束強度的粒子治療裝置100，可以在不同的光柵點之間動態改變粒子束強度。對于粒子束強度的額定值例如可以從照射規劃中自動被導出并且在照射不同的光柵點期間實時地同步傳輸到粒子束影響裝置110。因為加速系統具有如下特性，即，對調節器的調節參數改變以幾個毫秒的延遲時間響應，所以可以以“提前時間”輸出對于粒子束影響裝置110的額定值的規定。當在上級設置的控制系統中在開始照射之前存在具有光柵點的數據的在時間上歸類的列表(照射規劃)時，可以在準備階段通過合適的算法確定額定值傳輸到粒子束影響裝置110的最佳時刻。以這種方式， 可以將射線強度總是最佳地與各個光柵點的要求匹配。圖7示出了射線強度根據預定的額定值改變的改變。本發明的主要優點從如下得出射線強度不再通過最低劑量的光柵點限制。通過改變粒子束強度可以在極其更短的時間以預定的劑量照射對于其設置了高的射線劑量的光柵點。由此可以極大減小整個照射時間。此外可以在治療規劃系統中將每個光柵點的最小劑量明顯更低地設置。由此實現了照射的改善的均勻性和舒適性。同時通過激活的粒子流強度調節避免了長的照射時間。由此明顯提高了粒子治療裝置的患者通過量并且改善了治療規劃的質
量。
附圖標記列表
100粒子治療裝置
101粒子產生裝置
102射線產生裝置
103采集裝置
104采集裝置
105采集裝置
106劑量確定裝置
107劑量確定裝置
108劑量確定裝置109切換單元110粒子束影響裝置111控制電路
權利要求
1.一種用于運行粒子治療裝置的方法，包括 -產生并加速照射粒子，-從產生的照射粒子的至少一部分中產生粒子束， -自動采集所述粒子束的粒子束強度，-按照預定的照射規劃利用粒子束自動地順序地照射多個光柵點，其中，所述照射規劃為多個光柵點的每個分別對應于一個用于所述粒子束強度的額定值，并且-根據采集的粒子束強度和待照射的光柵點的各自的額定值來自動地影響所述粒子束強度。
2.根據權利要求1所述的方法，還包括將粒子束傳輸到治療位置的粒子束輸出端，其中，采集在粒子束輸出端上的粒子束強度。
3.根據權利要求1或2所述的方法，其中，為了產生粒子束借助KO激勵器(102)將產生的照射粒子的一部分退耦，其中，為了影響粒子束強度自動調整所述KO激勵器(102)的高頻功率。
4.根據上述權利要求中任一項所述的方法，其中，所述粒子束強度的額定值具有時間上不恒定的變化。
5.根據上述權利要求中任一項所述的方法，其中，為了影響所述粒子束強度使用比例調節器、積分調節器、微分調節器或其組合。
6.根據上述權利要求中任一項所述的方法，其中，利用同步加速器(101)、線性加速器 (101)和/或粒子回旋加速器產生并加速所述照射粒子。
7.根據上述權利要求中任一項所述的方法，其中，可選地將所述粒子束傳輸到多個治療位置中的一個，其中，在每個治療位置采集所述粒子束強度，并且其中自動地將粒子束當前被傳輸到的那個治療位置的采集的粒子束強度用來影響所述粒子束強度。
8.根據上述權利要求中任一項所述的方法，還包括確定產生并加速所述照射粒子的粒子產生裝置的品質信息，其中所述品質信息自動地根據采集的粒子束強度和退耦的照射粒子的部分的調整來確定。
9.一種粒子治療裝置，包括-粒子產生裝置(101)，用于產生并加速照射粒子，-射線產生裝置(102)，用于從產生的照射粒子的至少一部分中產生粒子束， -采集裝置(103-10 ，用于自動采集粒子束的粒子束強度，-光柵控制裝置，所述光柵控制裝置構造為利用粒子束按照預定的照射規劃順序地照射光柵點，其中，所述照射規劃為所述光柵點的每一個分別對應一個對于粒子束強度的額定值，和-粒子束影響裝置(110)，其與所述光柵控制裝置耦合并且構造為根據采集的粒子束強度和對于待照射的光柵點的粒子束強度的分別預定的額定值影響所述粒子束強度。
10.根據權利要求9所述的粒子治療裝置，還包括粒子束傳輸單元，用于將粒子束傳輸到治療位置的粒子束輸出端，其中所述采集裝置(103-10 設置在所述粒子束輸出端上。
11.根據權利要求9或10所述的粒子治療裝置，其中，所述射線產生裝置(10 包括具有用于調整高頻功率的控制輸入端的KO激勵器，利用該高頻功率改變照射粒子的退耦的部分，其中，所述粒子束影響裝置為了影響射線強度，根據采集的粒子束強度和對于粒子束強度的預定的額定值影響KO激勵器的控制輸入端。
12.根據權利要求9至11中任一項所述的粒子治療裝置，其中，所述粒子束強度的額定值具有時間上不恒定的變化。
13.根據權利要求9至12中任一項所述的粒子治療裝置，其中，所述粒子束影響裝置 (110)包括比例調節器、積分調節器、微分調節器或其組合。
14.根據權利要求9至13中任一項所述的粒子治療裝置，其中，所述粒子產生裝置 (101)包括同步加速器、線性加速器和/或粒子回旋加速器。
15.根據權利要求9至14中任一項所述的粒子治療裝置，其中，還包括-粒子束傳輸單元，用于可選地將所述粒子束傳輸到多個治療位置中的一個，其中，在每個治療位置設置用于自動地采集所述導出的粒子束的粒子束強度的采集裝置 (103-105)，和-切換單元(109)，其構造為，將粒子束當前被傳輸到的那個治療位置的采集的粒子束強度傳輸到所述粒子束影響裝置(110)。
16.根據權利要求9至15中任一項所述的粒子治療裝置，還包括品質確定裝置，用于根據采集的粒子束強度和對粒子束強度的影響確定所述粒子產生裝置(101)的品質信息。
17.根據權利要求9至16中任一項所述的粒子治療裝置，其中，所述粒子治療裝置 (100)構造為用于執行按照權利要求1至8中任一項所述的方法。
18.一種計算機程序產品，其可以被直接加載到粒子治療裝置(100)的粒子束影響裝置(110)的存儲器中，當所述計算機程序產品在所述粒子治療裝置(100)的粒子束影響裝置(110)中被運行時，用于執行按照權利要求1至8中任一項所述方法的所有步驟。
19.一種電子可讀的數據載體，具有在其上存儲的電子可讀的控制信息，這樣構造所述控制信息，使得其在所述粒子束影響裝置(110)中使用所述數據載體時執行按照權利要求 1至8中任一項所述的方法。
全文摘要
本發明涉及一種用于運行粒子治療裝置(100)的方法。所述粒子治療裝置(100)包括粒子產生裝置(101)、用于從產生的照射粒子的至少一部分中產生粒子束的射線產生裝置(102)、用于自動采集粒子束的粒子束強度的采集裝置(103-105)和粒子束影響裝置(110)，所述粒子束影響裝置(110)構造為根據采集的粒子束強度和對于粒子束強度的預定的額定值影響所述粒子束強度。
文檔編號A61N5/10GK102210909SQ201110083139
公開日2011年10月12日 申請日期2011年4月2日 優先權日2010年4月7日
發明者馬丁·布勞爾 申請人:西門子公司