專利名稱：足浴盆的防干燒結構的制作方法
技術領域：
足浴盆的防干燒結構所屬技術領域本實用新型涉及一種足浴盆，特別涉及一種足浴盆的防干燒結構。背景技術：
隨著人們對腳部穴位的認知，以及對穴位按摩理療的重視，人們對足浴 的要求也逐步提高，繼而研制出帶有按摩功能的足浴盆。其基本結構是在一 個可容放雙足的盆體的底部設置一可旋轉的滾輪，盆體內還設有加熱裝置， 用于將盆體內的水加熱，這樣，可進一步消除疲勞、防病治病、從而達到自 我保健的目的。但是由于傳統的足浴盆沒有加設防干燒結構，在盆中沒水或 水量過少的情況下，因誤操作而長時間干燒，導致足浴盆損壞，并存在安全 隱患。
實用新型內容本實用新型要解決的技術問題在于提供一種足浴盆的干燒結構，在傳統 的足浴盆內設有一由感應浮圈和固定感應柱組成的石茲每文感應方式的防干燒 結構，使足浴盆使用更加安全。本實用新型的技術方案是 一種足浴盆的防千燒結構，該防干燒結構安 裝在足浴盆儲水部的底部，包括互相配合但不直接接觸的 一對感應浮圈和固 定感應柱，所述感應浮圈套設在固定感應柱上，內壁設有》茲圈，所述固定感 應柱的上端縱向設置預定長度的磁敏電阻，該磁敏電阻的長度小于固定感應 柱整體的長度，所述防干燒結構通過該磁敏電阻與足浴盆的加熱裝置電連接。上述的技術方案進一步具體為所述感應浮圈為中空的套筒狀，所述固 定感應柱為細長片狀結構的電路板，其上端縱向設置一鏤空部，所述石茲敏電 阻縱向焊接在該鏤空部上下兩端。其中，所述防干燒結構還包括一容置室及一頂蓋，所述感應浮圈和固定 感應柱均設在該容置室內，并用所述頂蓋從該容置室的頂部封裝。其中，所述容置室的側壁上設有用于進水的開口，所述容置室內還"i殳有 一隔水室，所述固定感應柱設在該隔水室內。其中，所述固定感應柱的下端設有起支撐作用的凸部。本實用新型與現有技術相比較，有如下的有益效果在傳統的足浴盆沒 有加設防干燒結構，在盆中沒水或水量過少的情況下，即使誤操作，也不會 產生干燒現象，充分保護足浴盆，并消除安全隱患；另外，所述的防干燒結 構主要由互相配合的一感應浮圏和一固定感應柱構成，利用磁敏感應現象進 行設計，其體積小，構件簡單且造價低。
下面參照附圖結合實施例對本實用新型作進一步的說明。圖1是本實用新型防干燒結構在整個足浴盆中位置的結構示意圖。圖2是本實用新型防干燒結構分解結構示意圖。圖3是本實用新型防干燒結構縱向剖視示意圖。
具體實施方式
請參閱圖1所示，是本實用新型防干燒結構在整個足浴盆中位置的結構 示意圖。圖中所示為一種帶有按摩功能的足浴盆10,其基本結構是其盆體1 圍成一儲水部2,所述儲水部2的底部設有用于將盆體內的水加熱的加熱裝 置(圖中未示)，儲水部2的底部還設有一防干燒結構3,該防干燒結構3凸 出盆底，并具有一定高度。如圖2至圖3所示，分別是本實用新型防干燒結構分解和縱向剖視結構 示意圖。本實用新型的防干燒結構3，主要包括互相配合的一感應浮圈31和 一固定感應柱32。本實施例中所述的感應浮圈31為中空的套筒狀，套設在 固定感應柱32上，并能沿著該感應柱32上下移動，感應浮圈31的內壁"i殳有 磁圈312;本實施例中所述的固定感應柱32為細長片狀結構的電路板，其上 端縱向設置一鏤空部322，在該鏤空部322上下兩端縱向焊接一預定長度的 磁^:電阻324，這樣，當感應浮圈31與石茲^:電阻324處于同一水平位置時， 磁敏電阻324即可通過該鏤空部322充分與感應浮圈31的》茲圈312相互感應，從而控制電路板的通與否。但磁敏電阻324的長度要小于固定感應柱32整體 的長度，如此，當感應浮圏31處于固定感應柱32的下端時無法與磁敏電阻 324相互感應，而出現一空白區。所述防干燒結構3通過》茲敏電阻324與所 述加熱裝置電連接，以控制加熱裝置的工作狀態。該磁敏電阻,324的最低位 置A決定了加熱裝置啟動的最低水位。所述固定感應柱32的下端還設有一 用于感應浮圈31最低限位的凸塊326。所述感應浮圈31和固定感應柱32兩 者不直接接觸，'而是相距一定徑向距離，該距離以感應浮圈31和固定感應柱 32在同一水平位置時可互相感應的距離為準。本實用新型的防干燒結構還包括一中空圓柱33及一頂蓋34，.所述中空 圓柱33圍成一容置室332，所述感應浮圈31和固定感應柱32均設在該容置 室內332，并用所述頂蓋34從該容置室332的頂部封裝，這樣既安全又美觀。 其中，所述容置室332的側壁上設有用于進水的開口 334,使儲水部2處的 水可經開口 334進入容置室332，從而保證感應浮圈31可以受到水的浮力而 上浮，所述容置室332內還設有一隔水室36,固定感應柱32則設在該隔水 室36內，這拜固定感應柱32的電路板及磁敏電阻324不會沾水而短路等故 障。本實施新型防干燒結構的工作過程為在該足浴盆10中沒水或水量低于 安全水位時，感應浮圈31由于沒有水的浮力或水位太低的原因，處于較低的 位置，其內壁的-茲圈312和固定感應柱32的石l^文電阻324石茲場沒有相互作用， 使加熱裝置處于沒有導電的狀態，即不能加熱，從而了防止足浴盆的干燒。 當足浴盆10的水量增加固定感應柱32的f茲敏電阻324的最低位置A處時， 感應浮圈31隨著水位上浮也到達固定感應柱32的石茲每文電阻324的最低處， 這時，感應浮圈31內壁的f茲圈312和固定感應柱32的》茲，敏電阻324》茲場相 互作用，至使加熱裝置開始工作。若繼續加水，感應浮圈31繼續上浮，由于 磁敏電阻324具有一定長度，在此范圍內，感應浮圈31均與磁敏電阻324相 互作用，加熱裝置仍繼續工作；當感應浮圈31繼續上浮到頂蓋34處，受到 頂蓋34的阻擋，不再上浮，由于此時仍在》茲^:電阻324的^茲場范圍內，加熱 裝置仍可繼續工作不受影響。綜上所述，本實用新型在傳統的足浴盆加設防干燒結構，在盆中沒水或水量過少的情況下，不會產生干燒現象，充分保護足浴盆，并消除安全隱患； 另外，其主要利用感應浮圈和固定感應柱的磁敏感應現象進行設計，其體積 小，構件簡單且造價低。
權利要求1、一種足浴盆的防干燒結構，其特征在于該防干燒結構安裝在足浴盆儲水部的底部，包括互相配合但不直接接觸的一對感應浮圈和固定感應柱，所述感應浮圈套設在固定感應柱上，內壁設有磁圈，所述固定感應柱的上端縱向設置預定長度的磁敏電阻，該磁敏電阻的長度小于固定感應柱整體的長度，所述防干燒結構通過該磁敏電阻與足浴盆的加熱裝置電連接。
2、 按照權利要求1所述的足浴盆的防干燒結構，其特征在于所述感應 浮圈為中空的套筒狀，所述固定感應柱為細長片狀結構的電路板，其上端縱 向設置一鏤空部，所述》茲敏電阻縱向焊接在該鏤空部上下兩端。
3、 按照權利要求1所述的足浴盆的防干燒結構，其特征在于所述防千 燒結構還包括一容置室及一頂蓋，所述感應浮圏和固定感應柱均設在該容置 室內，并用所述頂蓋從該容置室的頂部封裝。
4、 按照權利要求3所述的足浴盆的防干燒結構，其特征在于所述容置 室的側壁上設有用于進水的開口，所述容置室內還設有一隔水室，所述固定 感應柱設在該隔水室內。
5、 按照權利要求1所述的足浴盆的防干燒結構，其特征在于所述固定 感應柱的下端設有起支撐作用的凸部。
專利摘要本實用新型公開了一種足浴盆的防干燒結構，安裝在足浴盆儲水部的底部，包括互相配合但不直接接觸的一對感應浮圈和固定感應柱，感應浮圈套設在固定感應柱上，內壁設有磁圈，固定感應柱的上端縱向設置預定長度的磁敏電阻，該防干燒結構通過該磁敏電阻與足浴盆的加熱裝置電連接，用以控制加熱裝置的工作與否。本實用新型在傳統的足浴盆沒有加設防干燒結構，在盆中沒水或水量過少的情況下，不會產生干燒現象，充分保護足浴盆，并消除安全隱患；其利用感應浮圈和固定感應柱的磁敏感應現象進行設計，其體積小，構件簡單且造價低。
文檔編號A47K3/022GK201167900SQ20082010135
公開日2008年12月24日 申請日期2008年2月2日 優先權日2008年2月2日
發明者李長高 申請人:李長高