一種淋釉裝置出釉部件的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種淋釉機出釉部件，包括固定腔體、活動腔體及設置于固定腔體和活動腔體兩側的擋板；固定腔體和活動腔體均為凹形結構，固定腔體上設置有至少兩個固定軸孔，活動腔體上方設置有用活動軸孔，固定腔體和活動腔體間設有控釉腔且下部設有位置對應的出釉刀；擋板上設置有固定軸及活動軸，擋板上方設置有進釉孔。該裝置采用一體化機身，將現有淋釉刀板的功能移植到了淋釉機機體上，不但簡化了淋釉機結構，同時也避免了淋釉刀板復雜的安裝及調試過程，進而解決了由于刀板加工不直等問題對淋釉機的使用造成的影響。
【專利說明】一種淋軸裝直出軸部件
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及瓷磚加工設備【技術領域】，具體涉及一種淋釉裝置出釉部件。
【背景技術】
[0002]淋釉機主要用于為磚坯表面施底釉及面釉，其中淋釉機出釉部件主要用來保證淋釉的均勻，并在一定程度上控制淋釉的量，現有的淋釉器主要應用淋釉刀板作為淋釉機出釉部件，但淋釉刀板加工難度大，生產成本高，在加工及使用時很難保證其設備狀態完好，并且淋釉刀板的安裝，調整及清洗均十分不方便，極大的影響了淋釉時的工作效率，所以亟需一種淋釉裝置出釉部件以解決上述不足。
實用新型內容
[0003]本實用新型的目的在于針對現有技術的不足，提供一種淋釉裝置出釉部件，該淋釉裝置出釉部件將現有淋釉刀板的功能移植到了淋釉機機體上，不但簡化了淋釉機結構，同時也避免了淋釉刀板復雜的安裝及調試過程，使用時方便調節，結構簡單，節約成本，同時極大的延長了淋釉裝置的使用壽命。
[0004]為達到上述要求，本實用新型采取的技術方案是:提供一種新型淋釉機出釉部件，包括固定腔體、活動腔體及設置于固定腔體和活動腔體兩側的擋板；固定腔體和活動腔體均為凹形結構，固定腔體上設置有至少兩個固定軸孔，活動腔體上方設置有用活動軸孔，固定腔體和活動腔體間設有控釉腔且下部設有位置對應的出釉刀；擋板上設置有固定軸及活動軸，擋板上方設置有進釉孔。
[0005]該淋釉裝置出釉部件采用一體化機身，將現有淋釉刀板的功能移植到了淋釉機機體上，不但簡化了淋釉機結構，同時也避免了淋釉刀板復雜的安裝及調試過程，進而解決了由于刀板加工不直等問題對淋釉機的使用造成的影響并且該淋釉裝置出釉部件可以節約淋釉成本達到百分之十五以上。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0006]此處所說明的附圖用來提供對本申請的進一步理解，構成本申請的一部分，在這些附圖中使用相同的參考標號來表示相同或相似的部分，本申請的示意性實施例及其說明用于解釋本申請，并構成對本申請的不當限定。在附圖中:
[0007]圖1示意性地示出了根據本申請一個實施例的淋釉裝置出釉部件的固定腔體和活動腔體的示意圖。
[0008]圖2示意性地示出了根據本申請一個實施例的該淋釉裝置出釉部件的擋板的結構示意圖。
[0009]圖3示意性地示出了根據本申請一個實施例的該淋釉裝置出釉部件的導流板的結構示意圖。
[0010]圖4示意性地示出了根據本申請一個實施例的安裝了該淋釉裝置出釉部件的淋釉裝置的結構示意圖。
[0011]其中:1、固定腔體；2、固定軸孔；3、控釉腔；4、活動軸孔；5、活動腔體；6、出釉刀；
7、出釉刀口凹槽；8、擋板；9、固定軸；10、進釉孔；11、活動軸；12、第一導流外擋板；13、第一導流槽擋板；14、第二導流槽擋板；15、第二導流外擋板；16、第一導流外槽；17、導流槽；18、第二導流外槽；19、儲有槽；20、導流板；21、進釉管；22、調節部件；23、出釉管。
【具體實施方式】
[0012]為使本申請的目的、技術方案和優點更加清楚，以下結合附圖及具體實施例，對本申請作進一步地詳細說明。
[0013]在以下描述中，對“ 一個實施例”、“實施例”、“ 一個示例”、“示例”等等的引用表明如此描述的實施例或示例可以包括特定特征、結構、特性、性質、元素或限度，但并非每個實施例或示例都必然包括特定特征、結構、特性、性質、元素或限度。另外，重復使用短語“根據本申請的一個實施例”雖然有可能是指代相同實施例，但并非必然指代相同的實施例。
[0014]為簡單起見，以下描述中省略了本領域技術人員公知的某些技術特征。
[0015]根據本申請的一個實施例，如圖1至圖2所示，提供一種淋釉裝置出釉部件，包括固定腔體1、活動腔體9及設置于該固定腔體I和活動腔體9兩側的擋板8 ;該擋板8于兩側將固定腔體I和活動腔體9形成的控釉腔3密封，固定腔體I和活動腔體9頂部相接觸，形成自然密封結構，該固定腔體I頂部于該活動腔體9接觸部位為下端向內的三角形斜口結構，該斜口結構可以保證在調節活動腔體9時不會因為活動腔體9與固定腔體I頂部相抵而無法調節。
[0016]根據本申請的一個實施例，如圖1至圖2所示，提供一種淋釉裝置出釉部件，該部件的固定腔體I和活動腔體9均為凹口向內的凹形結構，固定腔體I上設置有至少兩個用來與擋板8相連接的固定軸孔2，活動腔體5上方設置有用來與擋板8相連接的活動軸孔4，固定腔體I和活動腔體9間設有控釉腔3且下部設有位置對應的出釉刀。
[0017]根據本申請的一個實施例，如圖1至圖2所示，擋板8上設置有與固定軸孔2位置對應的固定軸9及位置與活動軸孔4位置對應的活動軸11，擋板8上方設置有進釉孔10，進釉孔10為直徑小于所述控釉腔3橫截面寬度的圓形孔狀結構且與控釉腔3相連通，擋板8上的固定軸9穿過固定腔體I上的活動軸孔4將固定腔體I固定在該擋板8上，擋板8上的活動軸11穿過活動軸孔4將活動腔體9與擋板8相連接，但由于活動軸11為圓柱形結構，且只有一根，所以該活動腔體9可以繞活動軸11做一定的小角度轉動，從而改變固定腔體I和活動腔體9底部出釉刀6間的縫隙，進而改變出釉速度。
[0018]根據本申請的一個實施例，如圖3所示，固定腔體I和活動腔體9正下方設置有用來控制出釉方向的導流板20，述導流板20對稱軸上設置有導流槽17，導流槽17兩側設置有第一導流槽擋板13和第二導流槽擋板14，導流板20的兩側外邊界出設置有對稱的第一導流外擋板12和第二導流外擋板15 ;第一導流外擋板12與第一導流槽擋板13間設有凹槽型結構的第二導流外槽18，第二導流槽擋板14與第二導流外擋板15間設有凹槽型結構的第一導流外槽16。當釉從固定腔體I和活動腔體9底部出釉刀6間形成的細縫中流出時1，很難保證釉面規整同時也不可避免的會有一些釉流向兩側，導流板20的作用就是引導流出的釉的流向，釉會延導流槽17規整地向下流動，當釉的流速較大時第一導流外擋板12和第一導流外擋板15可以避免釉相四周濺射。
[0019]根據本申請的一個實施例，如圖3所示，導流板20為上底大于下底的梯形結構，第一導流外擋板12和第二導流外擋板15高度大于第一導流槽擋板13和第二導流槽擋板14，第一導流槽擋板13和第二導流槽擋板14長度相同且相互平行，所述導流槽17橫截面寬度小于第二導流外槽18和第一導流外槽16下端橫截面寬度,將導流板20設置為上底大于下底的梯形結構可以使其更好的起到對釉液的導流作用，最大程度上減小了釉液外濺的可能性；當釉液流出時會延導流槽17向下流動，所以將該導流槽17兩側的第一導流槽擋板13和第二導流槽擋板14的高度設置得很低，且該導流槽17的橫截面寬度設置得很小，這樣可以更好地對釉液進行導流。
[0020]根據本申請的一個實施例，如圖1所示，出釉刀6下方設有凹槽型結構的出釉刀口凹槽7，該凹槽7的設置可以使釉液在從兩側出釉刀6間的縫隙中流出時不會黏掛于刀口底部，從而是其出釉更加順暢。
[0021]根據本申請的一個實施例，如圖4所示，在淋釉機工作時，釉從進釉管21經擋板8上的進釉孔10流入控釉腔3中，并經兩側出釉刀6中間的細縫中流出，并通過調節部件22控制兩側內置出釉刀6中間的細縫縫隙的大小，從而控制釉的流出量及流出速度，從控釉腔3中流出的釉將流入導流板20，并在導流板20的作用下改變其流向，延導流槽17流入設置于導流板20下方的儲釉槽19，該儲釉槽19的下端面為傾斜狀，流入儲釉槽19內的釉會沿傾斜的下端面向另一側流動，并經出釉管23流出，以完成對釉一輪的處理過程。
[0022]以上所述實施例僅表示本實用新型的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能理解為對本實用新型范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型保護范圍。因此本實用新型的保護范圍應該以所述權利要求為準。
【權利要求】
1.一種淋釉裝置出釉部件，其特征在于:包括固定腔體(I)、活動腔體(9)及設置于所述固定腔體(I)和活動腔體(9)兩側的擋板(8);所述固定腔體(I)和所述活動腔體(9)均為凹口向內的凹形結構，所述固定腔體(I)上設置有至少兩個用來與所述擋板(8)相連接的固定軸孔(2)，所述活動腔體(5)上方設置有用來與所述擋板(8)相連接的活動軸孔(4)，所述固定腔體(I)和所述活動腔體(9)間設有空腔狀結構的控釉腔(3)且下部設有位置對應的出釉刀，所述固定腔體(I)頂部與所述活動腔體(9)相接觸處為下部向內傾斜的三角形結構；所述擋板(8)上設置有與所述固定軸孔(2)位置對應的固定軸(9)及位置與所述活動軸孔(4)位置對應的活動軸(11)，所述擋板(8)上方設置有進釉孔(10)，所述進釉孔(10)為直徑小于所述控釉腔(3)橫截面寬度的圓形孔狀結構且與所述控釉腔(3)相連通。
2.根據權利要求1所述的淋釉裝置出釉部件，其特征在于:所述固定腔體(I)和活動腔體(9)正下方設置有用來控制出釉方向的導流板(20)，延所述導流板(20)對稱軸上設置有導流槽(17)，所述導流槽(17)兩側設置有第一導流槽擋板(13)和第二導流槽擋板(14)，所述導流板(20)的兩側外邊界處設置有對稱的第一導流外擋板(12)和第二導流外擋板(15);所述第一導流外擋板(12)與第一導流槽擋板(13)間設有凹槽型結構的第二導流外槽(18)，所述第二導流槽擋板(14)與第二導流外擋板(15)間設有凹槽型結構的第一導流外槽(16)。
3.根據權利要求2所述的淋釉裝置出釉部件，其特征在于:所述導流板(20)為上底大于下底的梯形結構，所述第一導流外擋板(12)和所述第二導流外擋板(15)高度大于所述第一導流槽擋板(13)和所述第二導流槽擋板(14)，所述第一導流槽擋板(13)和所述第二導流槽擋板(14)長度相同且相互平行，所述導流槽(17)橫截面寬度小于所述第二導流外槽(18)和所述第一導流外槽(16)下端橫截面寬度。
4.根據權利要求1所述的淋釉裝置出釉部件，其特征在于:所述出釉刀(6)下方設有凹槽型結構的出釉刀口凹槽(7)。
【文檔編號】C04B41/86GK203960063SQ201420242820
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2014年5月13日 優先權日:2014年5月13日
【發明者】李小成, 周超 申請人:四川漢莫尼機械設備有限公司