一種直線淋釉部件及采用該部件的淋釉的制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種直線淋釉部件及采用該部件的淋釉機，包括直線淋釉上罩和直線淋釉下罩，直線淋釉上罩包括第一釉液緩沖池、第二釉液緩沖池和位于第一釉液緩沖池、第二釉液緩沖池之間的釉液緩沖擋板；該淋釉機包括入釉裝置和主體，主體上設置有上述直線淋釉部件。該直線淋釉部件在簡化了現有的淋釉部件的同時，避免了現有的淋釉部件淋釉時施釉表面中間釉面薄兩側釉面厚現象的發生，同時也防止了邊緣波浪紋的產生，并且該直線淋釉部件與現有技術相比可以極大的節約釉料和淋釉加工的時間，因而更為節能環保。
【專利說明】一種直線淋釉部件及采用該部件的淋釉機
【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及瓷磚加工領域，具體涉及一種直線淋釉部件及采用該部件的淋釉 機。
【背景技術】
[0002] 在瓷磚加工領域淋釉機是一種十分常見的加工工具，主要用于為磚坯表面施底釉 及面釉。
[0003] 現有淋釉機的淋釉部件結構復雜、操作不便，同時在長時間使用后不易清洗，維護 成本也較高，并且目前淋釉機所普遍應用的鐘罩式淋釉部件施釉效果不夠理想，經常會出 現施釉表面中間釉面薄兩側釉面厚，且會產生邊緣波浪紋的現象。
[0004] 因此，如何簡化淋釉機的淋釉部件，同時避免淋釉時施釉表面中間釉面薄兩側釉 面厚和產生邊緣波浪紋的現象發生，成為本領域技術人員亟需解決的技術問題。 實用新型內容
[0005] 本實用新型的目的在于針對現有技術的不足，提供一種直線淋釉部件及采用該部 件的淋釉機，該直線淋釉部件在簡化了現有的淋釉部件的同時，避免了現有的淋釉部件淋 釉時施釉表面中間釉面薄兩側釉面厚現象的發生，同時也防止了邊緣波浪紋的產生，并且 該直線淋釉部件與現有技術相比可以極大的節約釉料和淋釉加工的時間，因而更為節能環 保。
[0006] 為實現上述目的，本實用新型提供以下技術方案：
[0007] -種直線淋釉部件，包括：
[0008] 依次連接的直線淋釉上罩和直線淋釉下罩，直線淋釉上罩包括第一釉液緩沖池、 第二釉液緩沖池和位于第一釉液緩沖池、第二釉液緩沖池之間的釉液緩沖擋板。
[0009] 一種采用該直線淋釉部件的淋釉機，包括：
[0010] 入釉裝置和主體，其中入釉裝置包括臂形支架、用于對臂形支架進行定位的臂形 支架立柱及用于對臂形支架進行調節的臂形支架調節裝置，臂形支架上設有上釉斗。主體 包括支架和直線淋釉部件，支架上設置有接釉盤調節裝置和直線淋釉部件調節裝置，接釉 盤調節裝置上設置有接釉盤，直線淋釉部件設置于直線淋釉部件調節裝置頂部；該直線淋 釉部件包括直線淋釉上罩和直線淋釉下罩，直線淋釉上罩設置于所述直線淋釉下罩之上， 并與直線淋釉下罩相貼和，直線淋釉上罩中設置有釉液緩沖擋板，釉液緩沖擋板將直線淋 釉上罩分為第一釉液緩沖池和第二釉液緩沖池。
[0011] 從上述技術方案可以看出，本實用新型提供的直線淋釉部件通過設置直線淋釉上 罩和直線淋釉下罩，取代了現有的鐘罩式淋釉機上復雜的淋釉部件，從而在簡化了結構使 得清洗和使用更加方便的同時降低了維護的成本，并且彌補了現有的鐘罩式淋釉部件在施 釉時釉面上會出現邊緣波浪紋的不足，進而改善了施釉效果，該直線淋釉部件通過第一釉 液緩沖池、第二釉液緩沖池、釉液緩沖擋板及釉液溢流擋板的設置，可以對流入的釉液起到 很好的緩沖作用，進而消除了釉液中的氣泡，并且可以使得出釉更為均勻，同時該直線淋釉 部件與現有技術相比可以極大地解決釉料和施釉時間，因此具有節能環保的優點。
[0012] 本實用新型還提供一種采用該直線淋釉部件的淋釉機，由于該直線淋釉部件具有 上述技術效果，因此采用該直線淋釉部件的淋釉機也同樣具有上述技術效果。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0013] 此處所說明的附圖用來提供對本申請的進一步理解，構成本申請的一部分，在這 些附圖中使用相同的參考標號來表示相同或相似的部分，本申請的示意性實施例及其說明 用于解釋本申請，并構成對本申請的不當限定。在附圖中：
[0014] 圖1為直線淋釉部件的結構示意圖。
[0015] 圖2為淋釉機的結構示意圖。
[0016] 圖3為直線淋釉部件的左視圖。
[0017] 圖4為直線淋釉上罩的俯視圖。
[0018] 其中：1、側導流板；2、釉液流出口；3、第二釉液緩沖池；4、釉液緩沖擋板；5、第一 釉液緩沖池；6、后擋板；7、下板；8、直線淋釉上罩；9、上罩導流側壁；10、釉液溢流擋板； 11、直線淋釉下罩；12、下罩導流板；13、臂形支架立柱；14、臂形支架調節裝置；15、臂形支 架；16、上釉斗；17、直線淋釉部件；18、接釉盤；19、接釉盤調節裝置；20、直線淋釉部件調節 裝置；21、支架；22、入釉裝置；23、主體。
【具體實施方式】
[0019] 為使本申請的目的、技術方案和優點更加清楚，以下結合附圖及具體實施例，對本 申請作進一步地詳細說明。
[0020] 在以下描述中，對" 一個實施例"、"實施例"、" 一個示例"、"示例"等等的引用表明 如此描述的實施例或示例可以包括特定特征、結構、特性、性質、元素或限度，但并非每個實 施例或示例都必然包括特定特征、結構、特性、性質、元素或限度。另外，重復使用短語"根據 本申請的一個實施例"雖然有可能是指代相同實施例，但并非必然指代相同的實施例。
[0021] 為簡單起見，以下描述中省略了本領域技術人員公知的某些技術特征。
[0022] 請參閱圖1至圖4,圖1為該直線淋釉部件的結構示意圖；圖2為采用該直線淋釉 部件的淋釉機的結構示意圖；圖3為該直線淋釉部件的左視圖；圖4為該直線淋釉部件的 直線淋釉上罩的俯視圖。
[0023] 根據本申請的一個實施例，提供一種直線淋釉部件，如圖1所示，包括直線淋釉上 罩8和直線淋釉下罩11，直線淋釉上罩8設置于所述直線淋釉下罩11之上，并與直線淋釉 下罩11相貼和，直線淋釉上罩8中設置有釉液緩沖擋板4,所述釉液緩沖擋板4將直線淋釉 上罩8分為第一釉液緩沖池5和第二釉液緩沖池3 ;該直線淋釉上罩8和直線淋釉下罩11 可以為不銹鋼或銅制成，這樣可以起到較好的防腐作用，并且表面光潔度也較高。
[0024] 該直線淋釉部件的直線淋釉上罩8底部可以設置有下板7,該下板7的前端即釉液 流出一端可以為直線形結構，該下板7的后端即釉液流入一端可以為直線形結構，也可以 為圓弧形結構，還可以為折線形結構。
[0025] 為進一步滿足客戶需要，直線淋釉上罩8兩側可以設置有上罩導流側壁9,直線淋 釉上罩8后端可以設置有后擋板6,直線淋釉上罩8前端可以設置有釉液溢流擋板10,該釉 液溢流擋板10、后擋板6、上罩導流側壁9及釉液緩沖擋板4均設置在所述下板7之上，釉 液溢流擋板10底部設置有長方形凹口狀結構的釉液流出口 2,該釉液流出口 2的高度可以 為50mm,下板7為設有一處彎折的板狀結構；釉液由上釉斗16中流入第一釉液緩沖池5,并 在第一釉液緩沖池5中，當油液填滿第一釉液緩沖池5后就會沿釉液緩沖擋板4流入第二 釉液緩沖池3,并從第二釉液緩沖池3底部的釉液流出口 2均勻的流出，這個過程可以很好 的消除釉液流入時產生的氣泡，進而改善施釉效果。
[0026] 如圖4所示，該直線淋釉部件的后擋板6和上罩導流側壁9的高度均高于釉液緩 沖擋板4的高度，釉液緩沖擋板4的高度高于釉液溢流擋板10的高度。
[0027] 該直線淋釉部件的直線淋釉下罩11兩側設置有側導流板1 ;直線淋釉下罩11的 下罩導流板12表面可以采用靜電拋光處理，這樣可以使釉液流出得更加均勻，且不會產生 氣泡；該直線淋釉下罩11的前后兩段均可以設有向下彎曲90度的圓弧形結構，其中該直線 淋釉下罩11前端的圓弧形結構的半徑可以為50至300mm。
[0028] 本實用新型還提供一種淋釉機，如圖2所示，包括入釉裝置22和主體23,主體23 上設置有上述任意一項所述的直線淋釉部件，因為上述直線淋釉部件具有上述技術效果， 因此采用上述直線淋釉部件的淋釉機也具有上述技術效果。
[0029] 該淋釉機的入釉裝置22包括臂形支架立柱13,臂形支架立柱13上設置有臂形支 架調節裝置14,臂形支架調節裝置14上設置有臂形支架15,臂形支架15上懸掛有上釉斗 16,通過調節臂形支架調節裝置14可以改變上釉斗16懸掛的高度，進而可以找到最佳的入 釉位置。
[0030] 該淋釉機的主體23包括支架21和直線淋釉部件17 ;支架21上設置有接釉盤調 節裝置19和直線淋釉部件調節裝置20,接釉盤調節裝置19上設置有接釉盤18,直線淋釉 部件17設置于所述直線淋釉部件調節裝置20頂部，通過調整直線淋釉部件調節裝置20,可 以改變直線淋釉部件17的高度，通過調整接釉盤調節裝置19可以進一步調整接釉盤18的 高度，通過調整直線淋釉部件17和接釉盤18的高度以找到最佳的淋釉位置。
[0031] 以上所述實施例僅表示本實用新型的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但 并不能理解為對本實用新型范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術人員來說， 在不脫離本實用新型構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型 保護范圍。因此本實用新型的保護范圍應該以所述權利要求為準。
【權利要求】
1. 一種直線淋釉部件，其特征在于：包括直線淋釉上罩（8)和直線淋釉下罩（11)，所 述直線淋釉上罩（8)包括第一釉液緩沖池（5)、第二釉液緩沖池（3)和位于第一釉液緩沖池 (5 )、第二釉液緩沖池（3 )之間的釉液緩沖擋板（4 )。
2. 根據權利要求1所述的直線淋釉部件，其特征在于：所述直線淋釉上罩（8)包括下板 (7)、位于下板（7)上的上罩導流側壁（9)、后擋板（6)，及釉液溢流擋板（10)，所述釉液溢流 擋板（10)底部設置有釉液流出口（2)。
3. 根據權利要求2所述的直線淋釉部件，其特征在于：所述釉液流出口（2)為長方形凹 口狀結構。
4. 根據權利要求2所述的直線淋釉部件，其特征在于：所述后擋板（6)和所述上罩導流 側壁（9)的高度均高于所述釉液緩沖擋板（4)的高度，所述釉液緩沖擋板（4)的高度高于所 述釉液溢流擋板（10 )的高度。
5. 根據權利要求1所述的直線淋釉部件，其特征在于：所述直線淋釉下罩（11)兩側設 置有側導流板（1)。
6. -種淋釉機，其特征在于：包括入釉裝置（22)和主體（23)，所述主體（23)上包含有 如權利要求1至5中任一所述的直線淋釉部件。
7. 根據權利要求6所述的淋釉機，其特征在于：所述入釉裝置（22)包括臂形支架 (15)、用于對臂形支架（15)進行定位的臂形支架立柱（13)及用于對臂形支架（15)進行調 節的臂形支架調節裝置（14)，所述臂形支架（15)上設有上釉斗（16)。
8. 根據權利要求6所述的淋釉機，其特征在于：所述主體（23)包括直線淋釉部件 (17)、用來固定直線淋釉部件（17)的支架（21)及設置于所述直線淋釉部件（17)下方的接 釉盤（18 );所述支架（21)上設置有接釉盤調節裝置（19 )和直線淋釉部件調節裝置（20 )，所 述接釉盤調節裝置（19)與所述接釉盤（18)相連接，所述直線淋釉部件（17)設置于所述直 線淋釉部件調節裝置（20 )頂部。
【文檔編號】C04B41/86GK203999392SQ201420357295
【公開日】2014年12月10日 申請日期:2014年7月1日 優先權日:2014年7月1日
【發明者】李小成, 周超 申請人:四川漢莫尼機械設備有限公司