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用于將流體特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置的制作方法

文檔序號:11140811閱讀:944來源:國知局
用于將流體特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置的制造方法

本發明涉及用于將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置。



背景技術:

這種裝置限定有打印頭,釉料經由打印頭通過一系列出口噴嘴被輸送,用于裝飾沿著傳送帶布置的瓷磚。每個出口噴嘴關聯有基本上電磁致動的閥,以用于根據要在瓷磚上再現的圖案打開出口噴嘴。出口噴嘴的關閉通常由彈性裝置確保。在US2005/056713中描述了電磁致動閥的示例,其中設置有鐵磁芯的電磁體作用在出口噴嘴的阻擋部上,以使出口噴嘴從關閉位置移動到其打開位置。通過螺旋彈簧確保返回運動,即在出口噴嘴保持關閉的狀態下從打開位置到關閉位置的運動。

在已知的裝置中,用于電磁致動的空氣間隙被釉料穿過,釉料與彈性裝置以及電磁體的線圈和鐵磁芯接觸。

由于釉料含有雜質,所以這種接觸能夠導致污垢或堵塞,從而導致閥的操作能力有限,因此需要頻繁的維護。

另外,已知的裝置相當復雜。



技術實現要素:

在這種背景下,在本發明的基礎上的技術任務是提供一種用于將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置,其克服了上述已知技術的缺點。特別地,本發明的目的是提供一種用于將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置,由此使離開噴嘴的釉料流變得可靠和恒定。

本發明的另一個可能的目的是通過限制其操作所需的部件的數量來提供一種簡單的裝置。+

所提到的技術任務和所指明的目的基本上通過一種用于將流體、

特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置來實現,該裝置包括在所附權利要求中的一項或多項中描述的技術特征。所提到的技術任務和所指明的目的基本上通過一種模具和方法來實現,所述模具和方法用于生產將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置的膜,所述模具和方法包括如所附權利要求中的一項或多項所描述的技術特征。

從屬權利要求對應于本發明的不同實施方式。

根據一個可能的方面,本發明涉及一種用于將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置,其包括具有打印流體的供給通道的本體,所述供給通道由基部關閉,所述基部包括打印流體的至少一個出口噴嘴。一種閥包括適于產生磁場的電磁致動裝置和阻擋部,該阻擋部包括至少一個敏感元件,該敏感元件由適于與磁場相互作用以使上述阻擋部移動的材料制成。閥操作性地關聯到出口噴嘴,以確定對應于阻擋部的打開位置的打開狀態和對應于阻擋部的關閉位置的關閉狀態,其中在打開位置,出口噴嘴布置成與供給通道連通,而在關閉位置,出口噴嘴與供給通道之間的連通被所述阻擋部關閉。在本體內設置有膜,所述膜對所述供給通道限定界限。所述膜置于供給通道與電磁致動裝置之間。阻擋部與所述膜牢固地結合。

根據第二方面,本發明涉及一種模具,其用于實現將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置的膜。模具包括相對于膜互補地成形的腔并且包括磁性保持裝置,該磁性保持裝置設置在所述腔的外部并適于將膜的敏感元件保持在所述腔內的給定位置。

根據另一方面,本發明涉及一種用于實現用于將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置的膜的方法。該方法包括:預先設置模具;通過磁性保持裝置將敏感元件保持在腔內的預定位置;將材料注射到腔中,以形成至少一層膜,從而至少部分地包圍敏感元件。

在一個或多個上述方面中,本發明包括以下特征中的一個或多個。

阻擋部優選地由通向出口噴嘴的膜的關閉部分限定。

關閉部分優選是楔形的,具有朝向出口噴嘴布置的下基部或頂點。

優選地,關閉部分適于在阻擋部的關閉位置中至少部分地插入到出口噴嘴中。

優選地,敏感元件設置在膜內。

優選地,膜包括至少兩個層,并且敏感元件設置在這兩個層之間。

優選地,膜包括從阻擋部的相反兩側突出的支撐壁,所述支撐壁抵靠基部橫向地對供給通道進行限界。

優選地,膜至少部分地由硅膠材料制成。

敏感元件優選為永磁體。電磁致動裝置被構造成產生敏感元件的第一吸引磁場和第二排斥磁場,以用于使阻擋部沿兩個方向在關閉位置與打開位置之間移動。

優選地,敏感元件由鐵磁材料制成,以便被電磁致動裝置產生的磁場吸引。

該裝置優選地包括成直線布置的多個出口噴嘴,每個出口噴嘴與相應的閥相關聯。膜包括設置在兩個連續的阻擋部之間的加強部分。

優選地,如下設置:在模具的腔內預先設置膜的第一層;通過磁性保持裝置將敏感元件抵靠著第一層保持在腔內;將材料注射到腔中,以獲得至少所述膜的第二層從而與敏感元件結合。

附圖說明

參照附圖,本發明的另外的特征和優點將從用于將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置的優選但非排他的實施方式的指示性的并且因此非限制性的描述變得更加顯而易見,其中:

圖1是用于將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置的示意性截面圖;

圖2是圖1的裝置的細節的示意性截面圖;

圖3和圖4是圖2的實施方式的可能替代方案的示意性截面圖;

圖5示出了處于不同操作條件下的圖4的裝置;

圖6是用于實現圖4或圖5的裝置的膜的模具的示意性截面圖;

圖7是用于將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置的示意性透視截面圖;

圖8是圖7的裝置的細節的示意圖,其為以根據垂直于圖7的剖面的平面截取的透視圖。

具體實施方式

參考附圖,數字1表示用于將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚P上的裝置。圖1示出了瓷磚P在傳送帶N上傳送,以進入到裝置1中,從而根據圖形或預先設立的畫像接收確定的量的流體,特別是釉料S。

裝置1包括限定打印頭的本體2。在本體內部,實現了打印流體的供給通道3,供給通道3由基部4關閉,基部4至少包括打印流體的出口噴嘴5。

在圖7所示的實例中,提供了多個出口噴嘴5,其沿著延展線A成直線布置并由同一個供給通道3供料。可以提供在垂直于所述延展線的方向上布置的兩個或更多個噴嘴,因而例如形成噴嘴陣列。

本體2還包括布置成與供給通道3連通的入口通道6。入口通道6適于連接到未示出的加壓流體罐。

對于每個出口噴嘴5,閥7操作性地與之關聯以確定其打開狀態和關閉狀態,其中在打開狀態下,出口噴嘴5設置成與供給通道3連通,而在關閉狀態下,出口噴嘴5與供給通道3之間的連通被阻止。

閥7包括適于產生磁場的電磁致動裝置8。電磁致動裝置8特別地包括電磁體,該電磁體例如包括繞組9和鐵磁芯10。

閥7還包括能夠在對應于出口噴嘴5打開的狀態的打開位置與對應于出口噴嘴5關閉的狀態的關閉位置之間移動的阻擋部11。

阻擋部11包括至少一個敏感元件12,敏感元件12由適于與磁場相互作用以移動所述阻擋部11的材料制成。在圖中所示的示例中,敏感元件12是永磁體,指示了該永磁體的S極和N極。優選地,電磁致動裝置8被構造成產生以永磁體的形式實現的敏感元件12的第一吸引磁場和第二排斥磁場,以使阻擋部11沿兩個方向在關閉位置和與打開位置之間移動。

膜13設置在本體2內并對供給通道3進行限界。此外,膜13置于供給通道3與電磁致動裝置8之間。

在打開和/或關閉出口噴嘴5時,阻擋部11與膜13牢固地約束在一起。

阻擋部11特別地由膜13的面向出口噴嘴5的關閉部分14限定。

根據圖1或圖2所示的實施方式,膜13的關閉部分14是適于與基部4接觸的平面部分。優選地,基部4包括邊界環15,邊界環15相對于每個出口噴嘴5向內地面向供給通道3,由此限定適于與膜13的關閉部分14接觸的接觸表面16。

根據圖4或圖5所示的實施方式,關閉部分14是楔形的,其下基部17朝向出口噴嘴5設置。

根據圖3所示的實施方式,關閉部分14是楔形的,其頂點18朝向出口噴嘴5設置。特別地,關閉部分14適于在阻擋部11處于其關閉位置時至少部分地插入到出口噴嘴5中。

優選地,敏感元件12布置在膜13內。

膜13特別地包括至少兩層(第一層19和第二層20),并且敏感元件12設置在兩層之間。

根據在圖4和圖5中通過示例的方式示出的一個可能的實施方式,膜13包括從阻擋部11的相反兩側突出的支撐壁21,支撐壁21抵靠基部4橫向地對供給通道3進行限界。特別地,在設置有多個出口噴嘴5的情況下,支撐壁21被布置成平行于延展線A,其中出口噴嘴5沿著延展線A布置。

在設置有多個出口噴嘴5的情況下,膜13可以包括布置在兩個連續的阻擋部11之間的加強部分22(圖7)。加強部分22的厚度大于膜13的厚度并小于阻擋部11的厚度。換句話說,加強部分22延伸到供給通道中而不與基部4接觸。根據一個可能的實施方式,本體2包括布置在膜13與電磁致動裝置8之間的容納板23,所述容納板23包括用于每個出口噴嘴5的貫通開口24,貫通開口24限定圍繞阻擋部11的膜的一部分。特別地,如果適用,貫通開口24一直延伸到加強部分22。

優選地,膜13至少部分地由硅膠材料制成。參考附圖中所示的包括敏感元件形式的永磁體的實施方式,根據本發明的裝置1在使用中提供電磁致動裝置的恒定啟動。在第一步驟中,電磁致動裝置被構造成產生敏感元件的第一吸引磁場,使得阻擋部從關閉位置移動到其打開位置(例如參見圖5)。在第二步驟中,電磁致動裝置替代地構造成引起敏感元件的第二排斥磁場,使得阻擋部從打開位置移動到其關閉位置并且保持出口噴嘴5的關閉(例如參見圖2至圖4)。參照圖6,為了實現膜13,可以提供包括腔101的模具100,其中腔101相對于膜的形狀互補地成形。參考圖6,模具的第一部分102被第二部分103關閉,以便限定腔101。入口104通向腔101中,以便膜形成材料例如壓力硅膠的進入。出口105通向腔101之外,用于排出過量的空氣和硅膠。

106表示設置在腔101外部并且適于將敏感元件12、特別是永磁體形式的敏感元件12保持在所述腔內的預定位置的磁性保持裝置。

膜13可以通過上述模具100實現,即通過預先設置所述模具100并且通過保持裝置106將敏感元件12保持在腔內的給定位置來實現。適合于實現膜的磁性材料被注入到腔101中,從而形成所述膜的至少一層,使得敏感元件12至少部分地被包圍。

優選地,在兩個層19、20的情況下,在腔101內預先設置膜的第一層19,通過磁性保持裝置106將敏感元件12抵靠著第一層19而保持在腔101內,并且將適于實現第二層20的材料注入腔101內,從而包含敏感元件12。

可替代地,可以進行雙色成型,其中第二層20最初被實現,并且通過模具嵌件在其中限定用于敏感元件的殼體。隨后,打開模具以插入敏感元件,然后再次關閉模具,從而留下對應于第一層(如果設置第一層的話)的腔,其中相應的材料被注入到該腔中。

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