專利名稱：電子照相設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種電子照相設備。
背景技術：
電子照相設備被廣泛地用于例如復印機、傳真機和打印機。另外，作為用于電子照相設備的電子照相感光構件，其上具有由非晶硅形成的光導電層(感光層)的電子照相感光構件(非晶硅電子照相感光構件)是眾所周知的。圖2是示出具有電子照相感光構件用的加熱器的傳統電子照相設備的例子的圖。在圖2所示的電子照相設備中，電子照相感光構件2001具有安裝在其內部的電子照相感光構件用的加熱器2010，并且加熱器控制電子照相感光構件2001的表面溫度。在圖2中，朝向箭頭的方向轉動驅動的電子照相感光構件2001的表面由充電裝置2002進行充電。電子照相感光構件2001的表面的充電電位由流過充電裝置2002中的充電線2011的電流值來調整。隨后，利用從圖像曝光裝置(未示出)發射的圖像曝光光束2003照射電子照相感光構件2001的表面，并且在電子照相感光構件2001的表面上形成靜電潛像。然后，電子照相感光構件2001的表面上所形成的靜電潛像由從顯影裝置2004供給的調色劑進行顯影，并且在電子照相感光構件2001的表面上形成調色劑圖像。之后，轉印裝置2005將電子照相感光構件2001的表面上所形成的調色劑圖像轉印至轉印材料2006上。隨后，將轉印材料2006與電子照相感光構件2001的表面分離，然后定影裝置(未示出)將轉印至轉印材料2006上的調色劑圖像定影在轉印材料2006上。另一方面，沒有轉印至轉印材料2006而殘留在電子照相感光構件2001的表面上的調色劑由清潔裝置2007中的清潔刮板2008去除。隨后，預曝光裝置(未示出)利用預曝光光2009照射電子照相感光構件2001的表面，并且對電子照相感光構件2001的表面進行放電。通過重復上述一系列處理來連續形成圖像(圖像輸出)。近年來，通過使用電子照相設備輸出諸如照片和圖片等的圖像的機會增加，結果，使電子照相圖像具有較高圖像質量的需求增加。特別地，圖像濃度的不均一(圖像濃度的不均勻)可能容易被人眼辨別，因此降低圖像濃度的不均勻的需求特別高。導致圖像濃度的不均勻的原因之一包括諸如電子照相感光構件的充電特性和靈敏度特性等的感光構件特性的不均一(不均勻)。在許多情況下，感光構件特性的不均勻是由于構成電子照相感光構件的膜的膜質量和膜厚度的不均一(不均勻)而導致的。近年來，隨著用于制造電子照相感光構件的方法的改善，構成電子照相感光構件的膜的膜質量和膜厚度的不均勻已日益降低，結果，圖像濃度的不均勻也日益降低。另外，日本特開平07-209930公開了以下技術將多個加熱單元配置在電子照相感光構件的內部，控制各加熱單元的溫度，從而抑制圖像濃度的不均勻。近年來，要求電子照相設備不僅能夠形成高質量的圖像，還從環境考慮的觀點出發能夠實現節省電力，并且期望不具有電子照相感光構件用的加熱器的電子照相設備。
然而，存在如下情況不具有諸如電子照相感光構件用的加熱器等的用于控制電子照相感光構件的表面溫度的單元的電子照相設備無法充分控制圖像濃度的不均勻，并且在當前情況下，電子照相設備仍然具有改善的空間。
發明內容
本發明的目的是提供一種電子照相設備，其中即使該電子照相設備不具有諸如電子照相感光構件用的加熱器等的用于控制電子照相感光構件的表面溫度的單元，該電子照相設備也能夠抑制圖像濃度的不均勻。本發明人對實現抑制不具有電子照相感光構件用的加熱器的電子照相設備中的圖像濃度的不均勻進行了研究，結果，發現導致圖像濃度的不均勻的原因之一是在形成圖像(圖像輸出)時，在電子照相感光構件上發生表面溫度的不均勻。本發明提供的電子照相設備包括圓筒狀的電子照相感光構件，其具有由非晶硅形成的光導電層；充電裝置，用于對電子照相感光構件的表面進行充電；以及圖像曝光裝置，用于利用圖像曝光光束照射所述電子照相感光構件的表面，以在所述電子照相感光構件的表面上形成靜電潛像，其中，所述電子照相設備不具有用于控制所述電子照相感光構件的表面溫度的單元，所述電子照相感光構件具有感光構件特性根據表面溫度而變化的感光構件特性的溫度依賴性，在所述電子照相感光構件在圓筒軸方向上等分成兩個區域的情況下，所述兩個區域中所述感光構件特性的溫度依賴性的絕對值不相同，以及在所述電子照相設備中，將所述電子照相感光構件配置成在所述兩個區域中將所述感光構件特性的溫度依賴性的絕對值較小的區域定義為第一區域并且將所述感光構件特性的溫度依賴性的絕對值較大的區域定義為第二區域的情況下，在所述電子照相設備形成圖像時，所述第一區域的表面溫度的變化大于所述第二區域的表面溫度的變化。本發明可以提供一種電子照相設備，其中即使該電子照相設備不具有諸如電子照相感光構件用的加熱器等的用于控制電子照相感光構件的表面溫度的單元，該電子照相設備也能夠抑制圖像濃度的不均勻。通過以下參考附圖對實施例的說明，本發明的其它特征將變得明顯。
圖1是示出不具有電子照相感光構件用的加熱器的電子照相設備的例子的圖。圖2是示出具有電子照相感光構件用的加熱器的傳統電子照相設備的例子的圖。圖3A和3B是各自示出充電裝置周圍的氣流結構的例子的圖。圖4A和4B是各自示出充電裝置周圍的氣流結構的例子的圖。圖5是示出沉積膜形成設備的例子的圖。圖6A是示出電子照相感光構件的感光構件特性的溫度依賴性的不均勻的例子的圖。圖6B是示出重復圖像形成(圖像輸出)時發生的電子照相感光構件的表面溫度的不均勻的例子的圖。圖6C是示出電子照相感光構件的感光構件特性的溫度依賴性的不均勻的例子的圖。
圖6D是示出重復圖像形成(圖像輸出)時發生的電子照相感光構件的表面溫度的不均勻的例子的圖。圖7是示出電子照相感光構件的例子的圖。圖8A、8B、8C和8D是各自示出用于制造電子照相感光構件的設備中的氣管的例子的圖。圖9是示出用于測量電子照相感光構件的感光構件特性的設備的例子的圖。圖10是示出電子照相感光構件的例子的圖。
具體實施例方式現在將根據附圖詳細說明本發明的優選實施例。如上所述，本發明的電子照相設備是不具有用于控制電子照相感光構件的表面溫度的單元(例如，電子照相感光構件用的加熱器等)的電子照相設備。用于本發明的電子照相設備的電子照相感光構件(以下也稱為“根據本發明的電子照相感光構件”)具有感光構件特性根據表面溫度而改變的感光構件特性的溫度依賴性。另外，在根據本發明的電子照相感光構件中，當在圓筒軸方向(轉動軸方向)上將電子照相感光構件等分成兩個區域時，這兩個區域中的感光構件特性的溫度依賴性的絕對值并不相同。換句話說，根據本發明的電子照相感光構件的溫度依賴性在電子照相感光構件的圓筒軸方向上存在不均勻(溫度依賴性的不均勻)。在本發明電子照相設備中，在電子照相設備中配置電子照相感光構件，以使得當將上述兩個區域中感光構件特性的溫度依賴性的絕對值較小的區域定義為第一區域并且將感光構件特性的溫度依賴性的絕對值較大的區域定義為第二區域時，在電子照相設備中形成圖像(圖像輸出)的情況下，第一區域的表面溫度的變化變得比第二區域的表面溫度的變化大。關于上述結構為何能夠抑制圖像濃度的不均勻的原因，本發明人是按照方式進行考慮的。導致圖像濃度的不均勻的原因之一包括形成圖像(圖像輸出)時所發生的電子照相感光構件的表面電位的不均勻。當形成圖像(圖像輸出)時，由于電子照相設備中的空氣流動的不均勻的影響，在電子照相感光構件上容易發生表面溫度的不均勻。在電子照相感光構件中，即使電子照相感光構件的充電條件和圖像曝光條件恒定(均勻)，諸如電子照相感光構件的充電特性和靈敏度特性等的感光構件特性由于電子照相感光構件的表面的溫度的不均勻(表面溫度的不均勻)也變得不均勻，結果，在電子照相感光構件的表面的電位容易出現不均勻(表面電位的不均勻)。具有諸如電子照相感光構件用的加熱器等的用于控制電子照相感光構件的表面溫度的單元的傳統電子照相設備通過將電子照相感光構件的表面溫度的分布控制得接近均勻分布來抑制電子照相感光構件的表面電位的不均勻。然而，在從環境考慮的觀點來看，在電子照相設備中不設置諸如電子照相感光構件用的加熱器等的用于控制電子照相感光構件的表面溫度的單元的情況下，該電子照相設備與具有用于控制電子照相感光構件的表面溫度的單元的電子照相設備相比無法充分抑制表面電位的不均勻。導致電子照相設備中的不均勻空氣流動的原因之一包括被配置為與電子照相感光構件的圓筒軸方向近似平行的充電裝置的周圍的空氣供給和排放的結構(以下也稱為“氣流結構”)。為了將充電裝置周圍所產生的臭氧產物排放至電子照相設備外部，通常安裝有充電裝置周圍的氣流結構。充電裝置周圍的氣流結構例如包括用于將空氣從充電裝置的長邊方向的一端側供給至充電裝置的空氣供給裝置和用于從充電裝置的長邊方向的一端側排出充電裝置中的空氣的排氣裝置。圖3A和3B以及圖4A和4B是各自示出充電裝置周圍的氣流結構的例子的圖。圖3B是從E的方向觀察的情況下的圖3A所示的氣流結構的圖。圖4B是從G的方向觀察的情況下的圖4A所示的氣流結構的圖。在圖3A和3B所示的氣流結構中，在內部安裝了充電線3005的充電裝置3001的上側設置空氣供給管3002，并且將空氣從外部經由灰塵過濾器3003和空氣供給扇3004供給至充電裝置3001。這里，為了使充電裝置3001中的空氣流動接近均勻流動，可以在充電裝置3001的下側(圖3A和3B中的F的方向)設置排氣管(未示出)。然而，電子照相感光構件位于充電裝置3001的F的方向上，因此難以在此設置這種排氣管。因此，在普通電子照相設備中，從維護的容易性等的觀點來看，其結構是如圖4A和4B所示在內部安裝了充電線4007的充電裝置4001的一側設置排氣管4005的一般結構。為此，空氣流動在排氣管4005側和排氣管4005側的相對側變得不均勻。排氣管4005側的空氣流動變得比相對側的空氣流動快。結果，在不具有用于控制電子照相感光構件的表面溫度的單元的電子照相設備中，排氣管4005側的電子照相感光構件4006的表面溫度變得低于相對側，并且在電子照相感光構件4006中發生表面溫度的不均勻。同樣，在圖4A和4B所示的氣流結構中，以與圖3A和3B所示的氣流結構相同的方式，在內部安裝了充電線4007的充電裝置4001的上側設置空氣供給管4002，并且將空氣從外部經由灰塵過濾器4003和空氣供給扇4004供給至充電裝置4001。此外，圖4A所示的氣流結構是利用空氣供給扇4004引起充電裝置4001中的空氣流動的結構，但也可以是如下結構通過代替空氣供給扇而使用排氣扇來引起與圖4B所示的氣流結構中的空氣流動的方向相反的方向上的空氣流動。在該情況下，以與上述說明相同的方式，在電子照相感光構件上發生表面溫度的不均勻。與此相對，在本發明的電子照相設備中，在電子照相設備中配置電子照相感光構件，以使得通過在圓筒軸方向上將電子照相感光構件等分成兩個區域所形成的兩個區域中、感光構件特性的溫度依賴性的絕對值較小的區域(第一區域)的表面溫度的變化比感光構件特性的溫度依賴性的絕對值較大的區域(第二區域)的表面溫度的變化大。利用電子照相設備中的電子照相感光構件的上述配置，與在電子照相設備中配置電子照相感光構件以使得第二區域的表面溫度的變化比第一區域的表面溫度的變化大的情況相比，電子照相設備可以抑制形成圖像(圖像輸出)時的電子照相感光構件的表面溫度的不均勻，結果，可以抑制電子照相感光構件的表面電位的不均勻。結果，電子照相設備可以抑制由形成圖像(圖像輸出)時的電子照相感光構件的表面電位的不均勻所導致的圖像濃度的不均勻。此外，在本發明中，電子照相感光構件的感光構件特性是依賴于電子照相感光構件的表面溫度的電子照相感光構件的特性，且意味著影響電子照相感光構件的表面電位的電子照相感光構件的特性，并且例如包括充電特性和靈敏度特性。另外，在本發明中，感光構件特性的溫度依賴性是由如下的表面電位的變化率[V/°C ]所表示的參數，其中該表面電位的變化率是在調整了充電條件和圖像曝光條件等并且將電子照相感光構件的表面電位設置為預定值之后改變電子照相感光構件的表面溫度時所確定的。如果電子照相感光構件的感光構件特性中的至少一個感光構件特性滿足本發明的條件，則該電子照相設備包括在本發明的范圍中，但是感光構件特性中充電特性和靈敏度特性中的至少一者可以滿足本發明的條件。特別地，在電子照相設備是BAE系統(背景區域曝光，即利用調色劑來對·電子照相感光構件的表面上未照射圖像曝光光束的部位進行顯影的電子照相系統)的電子照相設備的情況下，電子照相感光構件的充電特性可以進一步滿足本發明的條件。另一方面，在電子照相設備是IAE系統(圖像區域曝光，即利用調色劑來對電子照相感光構件的表面上照射了圖像曝光光束的部位進行顯影的電子照相系統)的電子照相設備的情況下，電子照相感光構件的靈敏度特性可以進一步滿足本發明的條件。另外，已經舉例說明了充電裝置的氣流結構的例子作為電子照相感光構件的表面溫度的不均勻的原因之一，但由于從維持的容易性等的觀點來看，電子照相設備的結構相對于電子照相感光構件的表面而言通常并不均勻，因而電子照相感光構件的表面溫度的不均勻的原因不限于氣流結構。即使電子照相感光構件的表面溫度的不均勻的原因是任意原因，也可以獲得本發明的效果。另外，在本發明中，電子照相感光構件的表面溫度的不均勻和感光構件特性的溫度依賴性的不均勻意味著電子照相感光構件的圓筒軸方向上的不均勻。圖1是示出不具有電子照相感光構件用的加熱器的電子照相設備的例子的圖。圖1所示的電子照相設備以以下方式形成電子照相圖像。在圖1中，朝向箭頭的方向轉動驅動的電子照相感光構件1001的表面由充電裝置1002進行充電。電子照相感光構件1001的表面的充電電位由流過充電裝置1002中的充電線1011的電流值來調整。隨后，利用從圖像曝光裝置(未示出)發射的圖像曝光光束1003來照射電子照相感光構件1001的表面，并且在電子照相感光構件1001的表面上形成靜電潛像。然后，電子照相感光構件1001的表面上所形成的靜電潛像由從顯影裝置1004供給的調色劑進行顯影，并且在電子照相感光構件1001的表面上形成調色劑圖像。之后，轉印裝置1005將電子照相感光構件1001的表面上所形成的調色劑圖像轉印至轉印材料1006上。隨后，將轉印材料1006與電子照相感光構件1001的表面分離，然后，利用定影裝置(未示出)將已轉印至轉印材料1006上的調色劑圖像定影在轉印材料1006 上。另一方面，沒有轉印至轉印材料1006而殘留在電子照相感光構件1001的表面上的調色劑由清潔裝置1007中的清潔刮板1008去除。隨后，預曝光裝置(未示出)利用預曝光光1009照射電子照相感光構件1001的表面，并且對電子照相感光構件1001的表面進行放電。通過重復上述一系列處理來連續形成圖像(圖像輸出)。圖5是示出制造由非晶硅形成的圓筒狀電子照相感光構件所使用的、利用使用RF范圍(13.56MHz)的高頻電源的RF等離子CVD方法的沉積膜形成設備的例子的圖。圖5所不的沉積膜形成設備主要包括反應容器5000和用于對反應容器5000的內部進行減壓的排氣裝置5001。反應容器5000分別具有接地的圓筒狀輔助基體5002、用于加熱圓筒狀基體5003的圓筒狀基體用的加熱器5004和安裝在反應容器5000內部的氣體導入管5005。反應容器5000的側壁部主要由導電材料所制成的放電電極5006形成，并且放電電極5006通過絕緣體5007與反應容器5000的其它部分絕緣。13. 56MHz的高頻電源5009經由匹配箱5008連接至放電電極5006。構成原料氣體供給單元(未示出)的各圓筒經由原料氣體導入閥5010連接至反應容器5000的內部的氣體導入管5005。反應容器5000具有排氣管5011，并且可以利用排氣裝置5001經由主閥5013真空排氣。以下將說明通過使用圖5所示的沉積膜形成設備來制造電子照相感光構件的方法的例子。將具有使用車床等進行了鏡面加工處理的表面的圓筒狀基體5003安裝在圓筒狀輔助基體5002上，以包圍反應容器5000內部的圓筒狀基體用的加熱器5004，并且在圓筒狀基體5003上設置蓋5014。接著，打開主閥5013，并且對反應容器5000和氣體導入管5005的內部進行排氣。當真空計5012的讀數達到預定壓力(例如，IPa)以下時，打開原料氣體導入閥5010，并且經由氣體導入管5005將加熱用的惰性氣體(例如，氬氣)導入反應容器5000的內部。然后，對加熱用的惰性氣體的流量、主閥5013的開口量和排氣裝置5001的排氣速度等進行調整，以使得反應容器5000的內部達到預定壓力。之后，操作溫度控制器(未示出)以使得圓筒狀基體用的加熱器5004加熱圓筒狀基體5003，并且將圓筒狀基體5003的溫度控制為預定溫度(例如，50°C 500°C )。當圓筒狀基體5003的溫度達到預定溫度時，在惰性氣體的導入逐漸停止的同時，將用于形成沉積膜的原料氣體逐漸導入反應容器5000的內部。原料氣體例如包括包含諸如SiH4和Si2H6等的硅氫化合物氣體以及諸如CH4和C2H6等的碳氫化合物氣體的材料氣體；以及諸如B2H6和PH3等的摻雜氣體。當導入原料氣體時，利用質量流控制器(未示出)來將原料氣體的流量調整為預定流量。此時，操作者在觀察真空計5012的同時，對主閥5013的開口量和排氣裝置5001的排氣速度等進行調整，以將反應容器5000內部的壓力維持在預定值。在通過上述過程完成了用于形成沉積膜的準備之后，在圓筒狀基體5003上形成沉積膜。在確認出反應容器5000的內部的壓力穩定之后，將高頻電源5009設置為預定電力，將高頻電力供給至放電電極5006，并且在反應容器5000的內部生成高頻輝光放電。此時，操作者調整匹配箱5008以使得反射電力最小，并且將通過從高頻電力的入射電力減去反射電力所獲得的有效值設置為預定值。該放電能量使已導入反應容器5000的內部的原料氣體進行分解，并且在圓筒狀基體5003上形成沉積膜。此外，在形成沉積膜期間，可以利用驅動裝置(未示出)使圓筒狀基體5003圍繞其中心軸線以預定速度轉動。在形成了具有預定厚度的沉積膜之后，高頻電力的供給停止，并且停止原料氣體向著反應容器5000內部的流入。通過根據需要來改變原料氣體的類型和高頻電力的條件等來順次形成多個沉積膜。之后，一旦使得反應容器5000的內部成為高真空，則沉積膜的形成結束。利用上述操作，可以制造電子照相感光構件。圖6A是示出通過上述制造方法制造的由非晶硅形成的電子照相感光構件中、圓筒軸方向上的感光構件特性(充電特性和靈敏度特性等)的溫度依賴性的不均勻(溫度依賴性的不均勻)的例子的圖。溫度依賴性的不均勻的形狀在電子照相感光構件的圓筒軸方向上具有一些拐點，但是在圓筒軸方向整體地幾乎是平緩改變的形狀。在通過上述普通制造方法制造的由非晶硅形成的電子照相感光構件中，由于制造方法的性質，溫度依賴性的不均勻通常示出為圖6A所示的平緩形狀，并且不會發生局部變化很大的不均勻。因此，如圖7所示，在圓筒軸方向上將電子照相感光構件7001等分成兩個區域(區域H和區域I)，并且在區域H和區域I各自的范圍中對電子照相感光構件的溫度依賴性進行平均化的情況下，可以利用溫度依賴性的平均值的絕對值來確定電子照相感光構件的溫度依賴性的絕對值的大小關系。在本發明中，以這種方式確定了溫度依賴性的絕對值的大小關系。另外，圖6B是示出電子照相設備(連續)形成圖像(圖像輸出)的情況下所發生的電子照相感光構件的圓筒軸方向上的表面溫度的不均勻(表面溫度的不均勻)的例子的圖。表面溫度的不均勻的形狀在電子照相感光構件的圓筒軸方向上具有一些拐點，但是在圓筒軸方向整體地幾乎是平緩改變的形狀。在具有普通結構的電子照相設備(連續)形成圖像(圖像輸出)的情況下，電子照相設備中所發生的電子照相感光構件的表面溫度的不均勻通常變成圖6B所示的平緩形狀，并且不會發生局部變化很大的不均勻。因此，如圖7所示，通過在圓筒軸方向上將電子照相感光構件7001等分成兩個區域(區域H和區域I)并且在區域H和區域I各自的范圍中對電子照相感光構件的表面溫度進行平均化，可以確定電子照相感光構件的表面溫度的變化的大小關系。在本發明中，以這種方式確定了表面溫度的變化的大小關系。另外，在本發明中，在電子照相感光構件的特定部位的感光構件特性的溫度依賴性由a [V/°C ]來表示并且該特定部位的表面溫度的變化由AITC ]來表示的情況下，作為α和AT的積的α · AT的值最大的部位中的α · Λ T的值和α · Λ T的值最小的部位中的α · AT的值之間的差Λ (α · AT)可以滿足Λ (α · AT)和潛像對比電位Vc[V]之間的關系，其中，通過形成圖像(圖像輸出)時的電子照相感光構件的表面上照射了圖像曝光光束的部位中的電位和此時電子照相感光構件的表面上未照射圖像曝光光束的部位中的電位之間的差來定義潛像對比電位Vc，所述關系由以下表達式表示。Δ (α * ΔΤ) ≤ O. 07 · Vc如果Λ (α · AT)是0.07 · Vc以下，則將連續形成圖像(圖像輸出)前后的圖像濃度不均勻的變化控制得較小。因此，如果Λ (α · AT)是0.07 · Vc以下，則即使在連續形成了圖像(圖像輸出)之后，也容易地保持初始狀態(連續形成圖像(圖像輸出)之前)的抑制后的圖像濃度的不均勻水平。另外，在本發明中，在電子照相感光構件的感光構件特性的溫度依賴性的程度從電子照相感光構件的圓筒軸方向的一端側朝向另一端側單調增大的情況下，電子照相設備形成圖像(圖像輸出)時的電子照相感光構件的表面溫度的變化的程度可以從電子照相感光構件的圓筒軸方向的一端側朝向另一端側單調減小。例如，如圖6C或圖6D所示，這里所述的單調增大或減小意味著值在圓筒軸方向整體地不存在拐點的情況下增大或減小。圖6A或6B所示的具有拐點的形狀的增大或減小并不相當于這里所定義的單調增大或減小。此外，可以通過例如調整圖5所示的沉積膜形成設備的氣體導入管，來改變電子照相感光構件的感光構件特性的溫度依賴性的不均勻的形狀。另外，例如可以通過在圖4A和4B所示的氣流結構中增強空氣供給和排氣從而減少溫度變化的其它因素，來使得電子照相感光構件的表面溫度的不均勻具有圖6D所示的單調變化的形狀。以下將參考示例和比較例來進一步詳細說明本發明，但本發明不應當局限于此。示例 1-1~"1-5使用車床對長度為358mm的由鋁制成的圓筒體的表面(周面)進行鏡面加工處理，并且制造長度為358mm和外徑為80mm的總共5個圓筒狀基體。隨后，在表I所示的條件下，使用如圖5所示的沉積膜形成設備，分別在圓筒狀基體上順次形成電荷注入阻止層、第一光導電層、第二光導電層、中間層和表面層的沉積膜，從而制造總共5個電子照相感光構件。將這些電子照相感光構件稱為示例1-f 1-5的電子照相感光構件。表I
權利要求
1.一種電子照相設備，包括 圓筒狀的電子照相感光構件，其具有由非晶硅形成的光導電層； 充電裝置，用于對所述電子照相感光構件的表面進行充電；以及 圖像曝光裝置，用于利用圖像曝光光束照射所述電子照相感光構件的表面，以在所述電子照相感光構件的表面上形成靜電潛像， 其中，所述電子照相設備不具有用于控制所述電子照相感光構件的表面溫度的單元， 所述電子照相感光構件具有感光構件特性根據表面溫度而變化的感光構件特性的溫度依賴性， 在所述電子照相感光構件在圓筒軸方向上等分成兩個區域的情況下，所述兩個區域中所述感光構件特性的溫度依賴性的絕對值不相同，以及 在所述電子照相設備中，將所述電子照相感光構件配置成在所述兩個區域中將所述感光構件特性的溫度依賴性的絕對值較小的區域定義為第一區域并且將所述感光構件特性的溫度依賴性的絕對值較大的區域定義為第二區域的情況下，在所述電子照相設備形成圖像時，所述第一區域的表面溫度的變化大于所述第二區域的表面溫度的變化。
2.根據權利要求1所述的電子照相設備，其中，在所述電子照相感光構件的特定部位中的所述感光構件特性的溫度依賴性由α來表示、并且所述特定部位的表面溫度的變化由Λ T來表示的情況下，作為α和AT的積的α · AT的值最大的部位中的α · Λ T的值和α · AT的值最小的部位中的α · AT的值之間的差Λ (α · Λ Τ)能夠滿足Λ (α · Λ Τ)和潛像對比電位Vc之間的如下關系，其中，所述潛像對比電位Vc是通過形成圖像時的所述電子照相感光構件的表面上照射了圖像曝光光束的部位中的電位和此時所述電子照相感光構件的表面上未照射圖像曝光光束的部位中的電位之間的差來定義的，并且所述關系由以下表達式來表示Δ (α * ΔΤ) ^ O. 07 · Vc, 其中α的單位為V/°C, ΔΤ的單位為。C, Vc的單位為V。
3.根據權利要求1所述的電子照相設備，其中，所述電子照相感光構件的所述感光構件特性的溫度依賴性的程度從所述電子照相感光構件的圓筒軸方向上的一端側朝向另一端側單調增大，并且所述電子照相設備形成圖像時的所述電子照相感光構件的表面溫度的變化程度從所述電子照相感光構件的圓筒軸方向上的一端側朝向另一端側單調減小。
4.根據權利要求1所述的電子照相設備，其中， 所述充電裝置被配置為與所述電子照相感光構件的圓筒軸方向近似平行，以及 所述電子照相設備還包括空氣供給裝置，用于將空氣從所述充電裝置的長邊方向的一端側供給至所述充電裝置；或者排氣裝置，用于將所述充電裝置中的空氣從所述充電裝置的長邊方向的一端側排出。
5.根據權利要求1所述的電子照相設備，其中，所述電子照相設備是背景區域曝光系統的電子照相設備，并且所述感光構件特性是所述電子照相感光構件的充電特性。
6.根據權利要求1所述的電子照相設備，其中，所述電子照相設備是圖像區域曝光系統的電子照相設備，并且所述感光構件特性是所述電子照相感光構件的靈敏度特性。
全文摘要
本發明提供一種電子照相設備，其中即使該電子照相設備不具有電子照相感光構件用的加熱器，也可以抑制圖像濃度的不均勻。為此，在電子照相設備中配置電子照相感光構件以使得在圓筒軸方向上將電子照相感光構件等分成兩個區域的情況下，兩個區域中的感光構件特性的溫度依賴性的絕對值不相同，并且在兩個區域中將感光構件特性的溫度依賴性的絕對值較小的區域定義為第一區域并將感光構件特性的溫度依賴性的絕對值較大的區域定義為第二區域的情況下，在電子照相設備形成圖像時，第一區域的表面溫度的變化大于第二區域的表面溫度的變化。
文檔編號G03G15/00GK103034084SQ201210370748
公開日2013年4月10日 申請日期2012年9月28日 優先權日2011年9月28日
發明者田澤大介, 小澤智仁, 上野高典 申請人:佳能株式會社